一种微波等离子清洗机用的波导矩阵的制作方法

技术特征：
1.一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，包括真空腔体(1)、第一风罩(2)和第二风罩(3)，其特征在于：所述第一风罩(2)的数量为若干个并设置在真空腔体(1)的上方，所述第二风罩(3)的数量为若干个并设置在真空腔体(1)的正面，所述第一风罩(2)的顶部以及第二风罩(3)的正面设置有进出风机构(4)，所述进出风机构(4)包括第一进风口(41)、第一出风管(42)、第二进风口(43)和第二出风管(44)，所述真空腔体(1)的顶部设置有第一波导固定面(5)，所述真空腔体(1)的正面设置有第二波导固定面(6)，所述第一波导固定面(5)的顶部安装有第一弧形反射面(7)，第一弧形反射面(7)的正面设置有第一倾斜反射面(9)，所述第二波导固定面(6)的正面安装有第二弧形反射面(8)，所述第二弧形反射面(8)的底部设置有第二倾斜反射面(10)。2.如权利要求1的一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，其特征在于：所述第一进风口(41)和第一出风管(42)的底端均与第一风罩(2)相互连通，且第二进风口(43)和第二出风管(44)的后端均与第二风罩(3)相互连通。3.如权利要求1的一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，其特征在于：所述真空腔体(1)的底部设置有减震垫(11)，所述减震垫(11)的材质为减震橡胶。4.如权利要求1的一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，其特征在于：所述第一波导固定面(5)和第二波导固定面(6)均通过螺栓与真空腔体(1)相互固定，且第一波导固定面(5)的尺寸与第二波导固定面(6)的尺寸相同。5.如权利要求1的一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，其特征在于：所述第一倾斜反射面(9)的倾角为60
‑
75
°
，且第二倾斜反射面(10)的倾角为30
‑
45
°
。6.如权利要求1的一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，其特征在于：所述第一进风口(41)和第二进风口(43)的开口处均呈方形，所述第一出风管(42)和第二出风管(44)的内径相同。

技术总结
本实用新型适用于微波等离子清洗机技术领域，提供了一种微波等离子清洗机用的波导矩阵，包括真空腔体、第一风罩和第二风罩，所述第一风罩的数量为若干个并设置在真空腔体的上方，所述第二风罩的数量为若干个并设置在真空腔体的正面；本实用新型能够将单管微波源相互组合，并弥补单管磁控管功率的不足，同时提高了超大型腔体内的功率密度，解决了目前由于单磁控管微波功率有限，且定制超大功率磁控管价格昂贵，从而限制了超大腔体微波等离子清洗机应用的问题，同时解决了由于超大型微波等离子清洗机存在有腔体内微波场分布不均和功率密度不足的缺陷，进而限制了微波等离子清洗机腔体尺寸的问题。体尺寸的问题。体尺寸的问题。


技术研发人员：田鹏康
受保护的技术使用者：中科光智（西安）科技有限公司
技术研发日：2021.04.28
技术公布日：2021/11/5