显示装置的制作方法

技术特征：
1.一种显示装置，具有：基板；多个像素，设置于所述基板；以及多个无机发光元件，设置于多个所述像素中的各个像素，所述无机发光元件具有：半导体基板，具有第一面及第二面，所述第一面与所述基板对置，所述第二面凸状地设置于所述第一面的相反侧；以及多条半导体纳米线，设置于所述第一面，并在垂直于所述第一面的方向上延伸。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置具有：反射板，设置于所述基板之上，所述无机发光元件具有：保护层，覆盖多条所述半导体纳米线中的各条半导体纳米线；以及接触层，覆盖多条所述半导体纳米线及所述保护层并设置于所述第一面，所述接触层连接于所述反射板之上。3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述保护层的折射率小于所述半导体纳米线的折射率，所述接触层的折射率小于所述保护层的折射率。4.根据权利要求1至3中任一项所述的显示装置，其中，所述显示装置具有：元件绝缘膜，设置于多个所述无机发光元件之间；以及透光性导电膜，设置为覆盖所述无机发光元件及所述元件绝缘膜，并与所述半导体基板电连接。5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述元件绝缘膜的上表面在多个所述无机发光元件之间设置为朝向所述基板凹陷的凹状。6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示装置，其中，所述半导体纳米线在从垂直于所述第一面的方向观察的俯视图中均具有六边形形状，并在所述第一面上配置为三角栅格状。7.根据权利要求1至5中任一项所述的显示装置，其中，所述半导体纳米线在从垂直于所述第一面的方向观察的俯视图中均具有六边形形状，并在所述第一面上配置为矩阵状。8.根据权利要求1至5中任一项所述的显示装置，其中，所述半导体纳米线包括第一组的半导体纳米线以及第二组的半导体纳米线，所述第一组的半导体纳米线由设置于所述第一面的中央部的多条所述半导体纳米线构成，所述第二组的半导体纳米线由配置于所述半导体基板的外缘的多条所述半导体纳米线构成。9.根据权利要求1至8中任一项所述的显示装置，其中，所述第二面具有凸状地弯曲的曲面。10.根据权利要求1至8中任一项所述的显示装置，其中，所述第二面的剖面形状具有梯形形状。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的显示装置，其中，所述显示装置具有：分隔壁，设置于多个所述无机发光元件之间。12.根据权利要求1至11中任一项所述的显示装置，其中，多条所述半导体纳米线包括：n型半导体，在垂直于所述第一面的方向上延伸；p型半导体，设置于所述n型半导体的至少侧面；以及活性层，设置于所述n型半导体与所述p型半导体之间。13.一种显示装置，具有：基板；多个像素，设置于所述基板；多个无机发光元件，设置于多个所述像素中的各个像素，以及透镜部件，分别设置于所述无机发光元件之上，所述无机发光元件具有：半导体基板，具有第一面及第二面，所述第一面与所述基板对置，所述第二面是与所述第一面相反侧的面，并朝向所述第一面凸状地设置；以及多条半导体纳米线，设置于所述第一面，并在垂直于所述第一面的方向上延伸，所述透镜部件设置于所述第二面之上。

技术总结
显示装置具有基板、设置于基板的多个像素、以及设置于多个像素中的各个像素的多个无机发光元件，无机发光元件具有：半导体基板，具有与基板对置的第一面、及凸状地设置于第一面的相反侧的第二面；以及多条半导体纳米线，设置于第一面，并在垂直于第一面的方向上延伸。并在垂直于第一面的方向上延伸。并在垂直于第一面的方向上延伸。


技术研发人员：池田雅延 山口英将
受保护的技术使用者：株式会社日本显示器
技术研发日：2020.03.26
技术公布日：2021/11/4