一种可自适应靶材自身温度的磁控溅射台的制作方法

技术特征：
1.一种可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，包括机体（1），其特征在于：所述机体（1）的上表面固定连接有溅射箱（2），所述溅射箱（2）的内壁固定连接有屏蔽罩（3），溅射箱（2）的内壁安装有旋转电机（4），所述屏蔽罩（3）的内壁安装有基板（5），所述基板（5）的表面安装有靶材（6），所述机体（1）的内部固定连通有两个真空吸气管（7），两个真空吸气管（7）的相对面与所述溅射箱（2）的两侧固定连通，所述基板（5）的上表面固定连接有金属筒（71），所述金属筒（71）的内壁滑动连接有活塞一（9），所述金属筒（71）的内部装有膨胀液体（8），所述金属筒（71）的上表面开设有通孔一，所述通孔一的内壁滑动连接有活塞杆（10），所述活塞杆（10）的下端与所述活塞一（9）的上表面固定连接，所述活塞杆（10）的上端固定连接有齿条排（11），所述溅射箱（2）的上表面还设置有所述齿条排（11）带动的冷却机构，还包括有自适应所述溅射箱（2）内离子源强度的适应机构，所述靶材（6）的表面固定连接有水囊（28），还包括有用于撞击所述水囊（28），用于将所述水囊（28）中冷却液产生激荡的加强冷却机构。2.根据权利要求1所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述溅射箱（2）的上表面固定连接有固定板（12），所述固定板（12）的正面定轴转动连接有转轴一（13）和转轴二（17），所述转轴一（13）的表面固定连接有连接杆二（15），所述连接杆二（15）的表面固定连接有连接杆一（14），所述连接杆一（14）的表面固定连接有弹簧（16），所述弹簧（16）的端部与所述固定板（12）的正面固定连接，所述转轴二（17）的表面固定连接有齿轮（18），所述转轴二（17）的表面固定连接有连接杆三（19），所述齿轮（18）与所述齿条排（11）相啮合，所述溅射箱（2）的上表面固定连接有活塞筒（25），所述活塞筒（25）的内壁滑动连接有活塞二（26），所述活塞筒（25）的下表面开设有通孔二，所述通孔二的内壁滑动连接有u型活塞杆（24），所述u型活塞杆（24）的一端与所述活塞二（26）的下表面固定连接，所述活塞筒（25）的内部装有冷却液，所述活塞筒（25）的表面固定连接有制冷器（32），还包括有用于冷却所述靶材（6）表面的冷却部件，还包括有用于带动所述活塞二（26）运动的联动机构。3.根据权利要求2所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述联动机构包括抵接块一（22）和抵接块二（23），所述溅射箱（2）的上表面固定连接有滑杆一（20），所述滑杆一（20）的表面滑动调节有套块（21），所述抵接块一（22）和所述抵接块二（23）均固定连接在所述套块（21）的左侧，所述u型活塞杆（24）的另一端与所述套块（21）的表面固定连接。4.根据权利要求3所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述冷却部件包括管道（27），所述管道（27）的一端与所述活塞筒（25）的下表面固定连通，所述管道（27）的另一端与所述水囊（28）的左侧固定连通。5.根据权利要求2、3或4中任意一项所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述适应机构包括两个记忆弹簧（31），所述机体（1）的上表面固定连接有两个滑杆二（30），两个所述滑杆二（30）的表面共同套接有支撑板（29），两个所述记忆弹簧（31）的上端均与所述支撑板（29）的下表面固定连接，两个所述记忆弹簧（31）的下端均与所述机体（1）的上表面固定连接。6.根据权利要求2所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述通孔一与所述活塞杆（10）相适配，所述通孔二与所述活塞筒（25）相适配。7.根据权利要求1所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述溅射
箱（2）的内壁定轴转动连接有转轴三（33）和转轴四（35），所述转轴三（33）的表面固定连接有齿轮一（34），所述转轴四（35）的表面固定连接有齿轮二（36）和不完全齿轮（37），所述支撑板（29）的上表面固定连接有齿条排（38），所述齿条排（38）与所述齿轮二（36）相啮合，所述齿轮一（34）与所述不完全齿轮（37）间歇性啮合，屏蔽罩（3）的表面开设有通孔三，所述通孔三的内壁固定连接有固定块（40），所述固定块（40）的表面开设有滑槽，所述滑槽的内壁滑动连接有滑块（41），所述滑块（41）的正面和所述齿轮一（34）的正面共同铰接有连接杆四（39），所述水囊（28）的右侧连通有水囊延长段（281），所述滑块（41）的上端设置有用于抬高所述水囊延长段（281）的抬高机构。8.根据权利要求7所述的可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，其特征在于：所述抬高机构包括连接杆五（42），所述连接杆五（42）的下端与所述滑块（41）的上表面固定连接，所述连接杆五（42）的上端固定连接有抵接块（43）。

技术总结
本发明公开了一种可自适应靶材自身温度的磁控溅射台，涉及磁控溅射台技术领域，包括机体，机体的上表面固定连接有溅射箱，溅射箱的内壁固定连接有屏蔽罩，溅射箱的内壁安装有旋转电机，屏蔽罩的内壁安装有基板，基板的表面安装有靶材，机体的内部固定连通有两个真空吸气管，两个真空吸气管的相对面与溅射箱的两侧固定连通，基板的上表面固定连接有金属筒，金属筒的内壁滑动连接有活塞一，金属筒的内部装有膨胀液体，本发明具备对靶材表面进行降温，以及自适应离子轰击强度的效果，解决了靶材本身材质较为脆弱，不能及时降温，会导致靶材出现发黑氧化和开裂，以及离子轰击作用力的加强，导致基片结构塌陷，影响质量的问题。影响质量的问题。影响质量的问题。


技术研发人员：陆桥宏 朱慧
受保护的技术使用者：江苏籽硕科技有限公司
技术研发日：2021.07.13
技术公布日：2021/11/4