一种应用于包装工艺的微雕辅助装置的制作方法

1.本实用新型属于印刷工艺技术领域，具体涉及一种应用于包装工艺的微雕辅助装置。


背景技术：

2.随着对印刷工艺的要求日益增加，微雕在包装工艺中的应用越来越多，而现有的微雕辅助装置其角度、高度和便捷度已经无法满足现有微雕及其加工效率的要求了。现有的微雕辅助装置中，普遍存在操作复杂、装置角度和高度调节困难的问题，且这些问题很难被同时解决。而微雕辅助装置的适用性狭窄，也极大的增加了加工成本。


技术实现要素：

3.本实用新型提供了一种应用于包装工艺的微雕辅助装置，解决了微雕时工件转动不便、装置适应性不足的技术问题。
4.为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种应用于包装工艺的微雕辅助装置，包括操作台、转筒和置物台，所述操作台上可转动连接所述转筒，所述转筒与所述置物台通过螺纹连接；所述操作台内嵌设轴承，所述轴承的输出端与所述转筒的底端固定连接；所述转筒的侧面上开设限位孔，所述操作台上固定设置一组相对设置的限位板，所述限位板与所述限位孔通过限位螺栓连接；所述置物台的顶面可转动连接若干沿圆周等距布设的定位件。
5.进一步地，所述转筒的内壁上设置内螺纹，所述置物台的外侧壁上设置与所述内螺纹匹配的外螺纹。起到了便捷调节置物台高度的作用。
6.进一步地，所述定位件包括相互垂直连接的连接板和定位板，所述连接板通过螺丝与所述置物台的顶面可转动连接。
7.进一步地，所述定位板的底面为粗糙面。起到增加定位板与置物台上的待加工件之间的摩擦力、提高定位稳定性的作用。
8.进一步地，所述置物台的顶面可转动连接4个沿圆周等距布设的定位件。起到全面均匀定位待加工件的作用。
9.进一步地，所述限位孔仅供所述限位螺栓穿过。
10.本实用新型所达到的有益效果：操作台上通过轴承可转动连接转筒，转筒与置物台连接，待微雕加工的工件置于置物台上，工件随着转筒旋转实现便捷转动，能够及时调整至加工所需的角度位置。转筒与置物台通过螺纹连接，置物台能够根据需要旋动调节其高度，保证工件便捷调至所需高度。限位孔与限位板的配合使得置物台转至所需角度后能够保持稳定，便于精雕设备进行微雕操作。置物台顶面的定位件更进一步保证了待加工工件的稳定性，提高了微雕的质量。本实用新型装置使用便捷，且适用性广。
附图说明
11.图1为本实用新型实施例的结构图；
12.图2为本实用新型实施例的结构俯视图。
13.图中：1
‑
操作台；2
‑
转筒；3
‑
置物台；4
‑
轴承；5
‑
限位孔；6
‑
限位板；7
‑
限位螺栓；8
‑
定位件；81
‑
连接板；82
‑
定位板。
具体实施方式
14.下面结合附图对本实用新型作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
15.如图1和2所示，一种应用于包装工艺的微雕辅助装置，包括操作台1、转筒2和置物台3，置物台用于放置待微雕加工的工件。操作台1上可转动连接转筒2，转筒2与置物台3通过螺纹连接。操作台1内嵌设轴承4，轴承4的输出端与转筒2的底端固定连接。
16.转筒2的侧面上开设限位孔5，操作台1上固定设置一组相对设置的限位板6，所述限位板6与所述限位孔5通过限位螺栓7连接。本实施例中，限位孔5仅供所述限位螺栓7穿过。
17.置物台3的顶面可转动连接若干沿圆周等距布设的定位件8，定位件8转动至夹持待加工工件的状态时，待加工工件被稳定地置于置物台3上，定位件8进一步保证了待加工工件的稳定性。当待加工件加工完成后，只需转动定位件8便能够快速取下已加工完成的工件，增加了操作效率。
18.本实施例中，定位件8包括相互垂直连接的连接板81和定位板82，所述连接板81通过螺丝与置物台3的顶面可转动连接。
19.本实施例中，定位板82的底面为粗糙面，起到增加定位板82与置物台3上的待加工件之间的摩擦力、提高定位稳定性的作用。置物台的顶面可转动连接4个沿圆周等距布设的定位件。起到全面均匀定位待加工件的作用。
20.所述转筒2的内壁上设置内螺纹，所述置物台3的外侧壁上设置与所述内螺纹匹配的外螺纹。起到了便捷调节置物台3高度的作用。
21.实际使用过程中，操作台1上通过轴承4可转动连接转筒2，转筒2与置物台3连接，待微雕加工的工件置于置物台3上，工件随着转筒2旋转实现便捷转动，能够及时调整至加工所需的角度位置。转筒2与置物台3通过螺纹连接，置物台3能够根据需要旋动调节其高度，保证工件便捷调至所需高度。限位孔5与限位板6的配合使得置物台3转至所需角度后能够保持稳定，便于精雕设备对待加工工件进行微雕操作。置物台3顶面的定位件8更进一步保证了待加工工件的稳定性，提高了微雕的质量。本实用新型装置使用便捷，且适用性广。
22.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本实用新型的保护范围。