一种红外电子枪坩埚装置的制作方法

本技术涉及镀膜，具体提供一种红外电子枪坩埚装置。

背景技术：

1、在红外电子枪蒸发材料的过程中，常使用氟化镱和锗。材料蒸发是借助高能电子枪加热使其获得足够动能，进而蒸发到基板表面，因此材料蒸发后，坩埚周围会布满粉尘残留物。当坩埚更换使用材料时，电子束的扫描光斑会辐照坩埚穴周围，导致材料污染。

2、目前，为避免材料污染，现行操作办法是卸下坩埚底座进行喷砂处理。然而，这一过程复杂繁琐，不仅清理周期长，无法保证材料完全不受污染，而且由于存在冷却水，频繁拆卸坩埚底座既浪费时间，又存在漏水及密封不严的隐患。因此，设计一款坩埚底座盖板是解决上述问题的有效途径。

3、坩埚底座由设备厂家提供，查阅类似改造案例发现，新加盖板通常需改造坩埚底座以提供定位点，防止工作时盖板偏位。本文提供了一种坩埚辅助定位设计，可避免对坩埚底座进行二次改造。同时，现有相关设计的盖板多为一体式，长期使用受热后平整性会变差，出现翘曲现象，进而影响坩埚旋转。

技术实现思路

1、本实用新型为解决上述问题，提供了一种红外电子枪坩埚装置，在坩埚的底座上覆盖分段式设计的可拆卸坩埚盖板，每次镀膜完成后，无需拆卸磁极即可更换盖板进行喷砂清洁维护，有效节省了维护时间，提高了维护频率，避免了材料相互污染。

2、本实用新型提供的红外电子枪坩埚装置，包括：

3、多个坩埚、底座、旋转轴、坩埚盖板；

4、旋转轴设置在底座中心，底座绕旋转轴旋转；

5、底座上沿周向均匀分布多个凹槽，坩埚设置在凹槽内；

6、坩埚盖板覆盖在底座上表面；

7、坩埚盖板具备多个扇形区域，多个扇形区域围合形成内孔；

8、坩埚盖板设置有多个坩埚孔，多个坩埚孔沿周向均匀分布在多个扇形区域内。

9、优选的，坩埚上表面高出底座上表面2.5毫米。

10、优选的，坩埚盖板的材质为无氧铜。

11、优选的，坩埚盖板的厚度为2.5毫米。

12、优选的，坩埚孔与凹槽直径相同。

13、优选的，坩埚盖板上表面距离红外电子枪的距离为3毫米。

14、优选的，一个凹槽容纳一个坩埚，一个坩埚对应一个坩埚孔。

15、优选的，多个扇形区域大小和形状均相同。

16、与现有技术相比，本实用新型能够取得如下有益效果：

17、在本实用新型中，将坩埚盖板覆盖在底座的上表面后，坩埚盖板的上表面与坩埚的上表面平齐，进而促使镀膜落下的尘埃和镀膜材料不会落在坩埚盖板以外的其他位置，有利于灰尘和镀膜材料集中处理。

18、坩埚孔的直径与凹槽的直径相同，因此，在镀膜过程中，将坩埚盖板覆盖在底座上，再将坩埚安装在凹槽中后，可通过坩埚对坩埚盖板固定和定位，无需额外安装其他坩埚盖板的固定装置或定位装置，简化整体结构，同时降低成本。坩埚的辅助定位设计避免工作时坩埚盖板偏位的同时，避免了为定位坩埚盖板对底座进行的二次改造。

19、在镀膜结束后，无需拆卸红外电子枪即可拆卸坩埚盖板，以便清洗坩埚盖板。操作简便，易于实现，节省维护时间，加大维护频率，避免了镀膜材料的相互污染。清理后的坩埚盖板可重复利用。

20、坩埚盖板设置成多个扇形区域的分段式结构，发生形变或翘曲现象后，可借助外力或其他手段使其恢复平整度，延长坩埚盖板的使用寿命。

1.一种红外电子枪坩埚装置，其特征在于，包括：多个坩埚、底座、旋转轴、坩埚盖板；

2.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，所述坩埚上表面高出所述底座上表面2.5毫米。

3.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，所述坩埚盖板的材质为无氧铜。

4.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，所述坩埚盖板的厚度为2.5毫米。

5.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，所述坩埚孔与所述凹槽直径相同。

6.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，所述坩埚盖板上表面距离红外电子枪的距离为3毫米。

7.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，一个所述凹槽容纳一个所述坩埚，一个所述坩埚对应一个所述坩埚孔。

8.如权利要求1所述的红外电子枪坩埚装置，其特征在于，所述多个扇形区域大小和形状均相同。