一种硅片输送机构的制作方法

1.本实用新型属于硅片加工技术领域，尤其是涉及一种硅片喷砂机用的输送机构。


背景技术：

2.现有硅片上料时因结构设计不合理导致硅片上料时相邻硅片容易碰撞，上料节拍不连续，极易堆片，影响生产进程，严重时硅片批量磕碰，产品质量损失较大。还有，对于不同直径的硅片，其传输机构互补兼容，导致需要更换输送整体的结构才能生产不同尺寸规格的硅片的传输，兼容性差。


技术实现要素：

3.本实用新型提供一种硅片输送机构，尤其是适用于喷砂机中的硅片输送，解决了现有设备中传输步进不稳定、无法兼容不同型号硅片的传送的技术问题。
4.为解决至少一个上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：
5.一种硅片输送机构，在传输方向上构设有若干级传输的传输单元以及导向单元；所述传输单元中的相邻传输段的连接端共用同一转轴；所述导向单元沿所述传输单元长度设置，构造有用于调整传输宽度位置的导向板。
6.进一步的，所述传输单元包括一级传输和二级传输，所述一级传输的从动轴为所述二级传输的主动轴；且所述一级传输和所述二级传输均为皮带链接。
7.进一步的，所述一级传输的主动轴靠近上料口一端配设；所述二级传输的从动轴靠近下料口一端设置。
8.进一步的，与所述一级传输的主动轴连接的电机和与所述二级传输的主动轴连接的电机同侧设置。
9.进一步的，所述一级传输的主动轴和传动轴的两端均设有防尘盖。
10.进一步的，所述导向单元还包括用于固定所述导向板的若干托架，所述传输单元固设在所述托架上且其配设的传输皮带均垂直于所述托架设置。
11.进一步的，在所述托架上还设有对称设置的固定板，所述固定板上配设有用于固定所述导向板的调位孔，调整所述调位孔以使相对设置的所述导向板的宽度适配于硅片外径。
12.进一步的，还包括用于监控硅片传输位置的监控单元，包括一级监控和二级监控，其中，所述一级监控被构设在所述传输单元靠近下料口一侧的上方，所述二级监控被构设在所述传输单元靠近下料口一侧的传输线上。
13.进一步的，所述一级监控包括横跨所述导向板的支架和构造在所述支架上的监测件一，所述监测件一被悬吊且其射线竖直朝下设置。
14.进一步的，所述二级监控包括固设于所述传输单元中传输线上的支块和构造在所述支块上的监测件二，所述监测件二的光源竖直朝上设置；且所述监测件一和所述监测件二沿硅片传输中线错位设置。
15.采用本实用新型设计的一种硅片输送机构，尤其设计不同直径圆硅片在喷砂机上的传输步进，整体结构分级传输且各级传输均独立运行，互不干涉；导向机构可快速设置以适应不同直径硅片的传输运行；同时在传输的轴承端部还设有防护罩，防止石英砂进入传动部件中以降低传动轴承的磨损，提高使用寿命和传输的稳定性。
附图说明
16.图1是本实用新型一实施例的硅片输送机构的立体图；
17.图2是本实用新型一实施例的硅片输送机构的俯视图；
18.图3是本实用新型一实施例的硅片输送机构的剖面图。
19.图中：
20.10、传输单元
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
11、一级传输
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
111、主动轴一
21.112、从动轴一
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
113、电机一
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
114、皮带一
22.115、轴承
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
116、防尘盖
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
12、二级传输
23.121、主动轴二
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
122、从动轴二
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
123、电机二
24.124、皮带二
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
20、导向单元
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
21、托架
25.22、导向板
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
23、固定板
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
24、调位孔
26.30、监控单元
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
31、一级监控
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
311、支架
27.312、监测件一
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
32、二级监控
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
321、支块
28.322、监测件二
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
40、硅片
具体实施方式
29.下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。
30.本实施例提出一种硅片输送机构，如图1和图2所示，在传输方向上构设有若干级传输的用于驱动硅片40步进移动的传输单元10、在传输方向上用于导向硅片40移动的导向单元20和用于监控硅片40移动位置及步进速度的监控单元30。其中，导向单元20设置在传输单元10中的皮带两侧，且监控单元30设置在传输单元10靠近下料口一端的位置，并相邻传输单元10中的连接端共用同一转轴；导向单元20沿传输单元10的长度方向设置，构造有用于调整传输宽度位置的导向板22。
31.具体地，传输单元10包括一级传输11和二级传输12，且一级传输11和二级传输12均为皮带链接。一级传输11包括主动轴一111、从动轴一112、电机一113、以及连接主动轴一111和从动轴一112的皮带一114，主动轴一111靠近上料口一端配设，从动轴一112为二级传输12的主动轴二121。二级传输12包括主动轴二121、从动轴二122、电机二123、以及连接皮带二124，且从动轴二122靠近下料口一端设置。在本实施例中，皮带一114和皮带二124均为圆皮带，电机一113和电机二123均为可调变速机。
32.进一步的，为了节约装备设置空间，要求一级传输11中的的主动轴一111连接的电机一113和与二级传输12中的主动轴二121连接的电机二123为同侧设置。
33.进一步的，由于本机构为喷砂机所用的硅片40的传输，在硅片40传输过程中会有石英砂浆喷溅，故需要保护主动轴一111和主动轴二121中两个传动轴两端中轴承115，如图3所示，在主动轴一111和主动轴二121中，也即是在主动轴一111和传动轴一112的两端的轴
承115的双侧面均设有防尘盖116，以防止石英砂进入轴承115中而加速磨损。
34.进一步的，导向单元20除了包括相对设置的导向板22之外，还包括用于固定导向板22的若干托架21，托架21垂直于皮带一112设置，且在本实施例中设有两个并行且间隔设置的托架21，且电机一113和电机二123均分别固定在托架21上，且其中一个托架21设置在皮带一114的下方，另一个托架21固设在皮带二124的下方。其中，托架21为铝框架制作而成，导向板22为尼龙板材料制成。
35.进一步的，在托架21上还设有对称设置的固定板23，固定板23上配设有用于固定导向板22的调位孔24，调位孔24的位置是基于不同硅片40直径而设置的，调整调位孔24以使相对设置的导向板22的宽度适配于硅片40的不同外径，在本实施例中，至少可适配于直径为5-12寸的硅片40。
36.进一步的，用于监控硅片40传输位置的监控单元30，包括一级监控31和二级监控32，监控单元30均设置在二级传输12所在一侧，其中，一级监控31被构设在二级传输12的上方，二级监控32被构设在二级传输12的传输线上；且一级监控31靠近主动轴二121一端设置，二级监控32靠近从动轴二122一端设置。
37.进一步的，一级监控31包括横跨导向板22的支架311和构造在支架311上的监测件一312，监测件一312被悬吊在皮带二124的上方且其射线为竖直朝下设置。
38.进一步的，二级监控32包括固设于二级传输12中传输线上的支块321和构造在支块321上的监测件二322，监测件二322的光源竖直朝上设置；且监测件一312和监测件二322沿硅片40传输中线错位设置。
39.也即是硅片40沿传输方向移动，一级监控31先监控到第一组硅片40，再继续向前移动，二级监控32进而继续监控该组硅片40；在第一组硅片40移动至下料口一端被二级监控32监控到时，则第二组硅片40已经开始移动至一级监控31所在的位置处，从而可监控到相邻硅片40步进的速度间隔，以及有无叠片或碰撞，从而可保证硅片40传递的稳定性和安全性。
40.采用本实用新型设计的一种硅片输送机构，尤其设计不同直径圆硅片在喷砂机上的传输步进，整体结构分级传输且各级传输均独立运行，互不干涉；导向机构可快速设置以适应不同直径硅片的传输运行；同时在传输的轴承端部还设有防护罩，防止石英砂进入传动部件中以降低传动轴承的磨损，提高使用寿命和传输的稳定性。
41.以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。