一种硅片输送机构的制作方法

技术特征：
1.一种硅片输送机构，其特征在于，在传输方向上构设有若干级传输的传输单元以及导向单元；所述传输单元中的相邻传输段的连接端共用同一转轴；所述导向单元沿所述传输单元长度设置，构造有用于调整传输宽度位置的导向板。2.根据权利要求1所述的一种硅片输送机构，其特征在于，所述传输单元包括一级传输和二级传输，所述一级传输的从动轴为所述二级传输的主动轴；且所述一级传输和所述二级传输均为皮带链接。3.根据权利要求2所述的一种硅片输送机构，其特征在于，所述一级传输的主动轴靠近上料口一端配设；所述二级传输的从动轴靠近下料口一端设置。4.根据权利要求2或3所述的一种硅片输送机构，其特征在于，与所述一级传输的主动轴连接的电机和与所述二级传输的主动轴连接的电机同侧设置。5.根据权利要求4所述的一种硅片输送机构，其特征在于，所述一级传输的主动轴和传动轴的两端均设有防尘盖。6.根据权利要求1-3、5任一项所述的一种硅片输送机构，其特征在于，所述导向单元还包括用于固定所述导向板的若干托架，所述传输单元固设在所述托架上且其配设的传输皮带均垂直于所述托架设置。7.根据权利要求6所述的一种硅片输送机构，其特征在于，在所述托架上还设有对称设置的固定板，所述固定板上配设有用于固定所述导向板的调位孔，调整所述调位孔以使相对设置的所述导向板的宽度适配于硅片外径。8.根据权利要求1-3、5、7任一项所述的一种硅片输送机构，其特征在于，还包括用于监控硅片传输位置的监控单元，包括一级监控和二级监控，其中，所述一级监控被构设在所述传输单元靠近下料口一侧的上方，所述二级监控被构设在所述传输单元靠近下料口一侧的传输线上。9.根据权利要求8所述的一种硅片输送机构，其特征在于，所述一级监控包括横跨所述导向板的支架和构造在所述支架上的监测件一，所述监测件一被悬吊且其射线竖直朝下设置。10.根据权利要求9所述的一种硅片输送机构，其特征在于，所述二级监控包括固设于所述传输单元中传输线上的支块和构造在所述支块上的监测件二，所述监测件二的光源竖直朝上设置；且所述监测件一和所述监测件二沿硅片传输中线错位设置。

技术总结
本实用新型提供一种硅片输送机构，在传输方向上构设有若干级传输的传输单元以及导向单元；所述传输单元中的相邻传输段的连接端共用同一转轴；所述导向单元沿所述传输单元长度设置，构造有用于调整传输宽度位置的导向板。本实用新型一种硅片输送机构，尤其设计不同直径圆硅片在喷砂机上的传输步进，整体结构分级传输且各级传输均独立运行，互不干涉；导向机构可快速设置以适应不同直径硅片的传输运行；同时在传输的轴承端部还设有防护罩，防止石英砂进入传动部件中以降低传动轴承的磨损，提高使用寿命和传输的稳定性。使用寿命和传输的稳定性。使用寿命和传输的稳定性。


技术研发人员：靳立辉 杜晨鹏 高浩 王毅
受保护的技术使用者：天津环博科技有限责任公司
技术研发日：2022.06.15
技术公布日：2022/12/9