一种减小Mask形变的支撑掩膜版、掩膜版的制作方法

一种减小mask形变的支撑掩膜版、掩膜版
技术领域
1.本实用新型涉及掩膜版技术领域，具体涉及一种减小mask形变的支撑掩膜版、掩膜版。


背景技术：

2.在生产oled显示屏的过程中，多层金属材料、无机材料或有机材料需采用蒸镀的方式逐层沉积到玻璃基版上。在蒸镀制程中，金属掩膜版被用来遮挡待蒸镀的玻璃基版以形成特定图案，金属掩膜版可以包括高精度的精细金属掩膜版(fine metal mask，缩写：fmm)。在蒸镀前，需要使用张网设备将网格状的cmm或多张条状的fmm对位并焊接到金属掩膜版框架上，这种工艺被称为张网工艺。在张网过程中，为了保证各发光层能够被蒸镀在玻璃基版正确的位置上，张网过程中需要对fmm的每个端部施加一定的拉力并使得其上的每一个标记点都对位到需求的精度规格内，然后将其焊接到掩膜框架上。
3.然而金属掩膜版的本身材质制作不均匀和张网机张网拉力减少等因素都会导致掩膜版上的内部特定图案发生畸变或者相对位置发生变化，也就会导致蒸镀不良率大大提升。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种减小mask形变的支撑掩膜版、掩膜版，通过形成异性的掩膜开口，在张网减小四周拉力后，在满足平坦度要求的同时使得杨末班框体翘曲量减小，同时减小一体化支撑掩膜版整体垂直度变化的可能性。
5.一种减小mask形变的支撑掩膜版，包括支撑掩膜版本体，所述支撑掩膜版本体包括开口区及夹持区，所述夹持区围绕所述开口区布设，所述开口区内设置有多个掩膜开口，所述掩膜开口具有与对应的预设掩膜开口位置在偏移和/或形状上的偏移量，以使在四边张网拉伸的拉力减少时所述掩膜开口位于对应的预设掩膜开口位置。
6.进一步地，当所述掩膜版长度的方向为第一方向，垂直于所述第一方向的方向为第二方向时，所述多个掩膜开口沿所述第一方向和所述第二方向均匀排列，且至少部分掩膜开口的偏移量不相同。
7.进一步地，所述掩膜开口为矩形，所述掩膜开口的偏移量包括以下偏移量的至少一种：旋转补偿量、卷翘偏移量、平移偏移量，其中：
8.所述旋转补偿量，被配置为掩膜开口的相对两短边分别与对应的预设掩膜开口的相对两短边的旋转角度z1，以及趋向于各自对应偏移的方向相反的旋转方向；
9.卷翘补偿量，被配置为掩膜开口的相对两长边卷翘的弧度z2，以及趋向于各自对应偏移的方向相反的卷翘方向；
10.平移补偿量，被配置为整个掩膜开口的基准点m与对应的预设掩膜开口的基准点在拉力方向上的距离l。
11.进一步地，所述开口区为矩形，掩膜开口在矩形的掩膜开口区中呈阵列分布，所述
开口区包括四个子开口区a1、a2、a3、a4，每个子开口区的掩膜开口的偏移量满足：远离中心处越远，旋转角度z1越大，弧度z2越长，长度l越大。
12.进一步地，所述子开口区a1中对应于开口处右上边角处的掩膜开口aa1在第一方向上具有相对的两个第一变形边缘，所述第一变形边缘为向上卷翘的弧形，所述子开口区a1中对应于开口处右上边角处的掩膜开口aa1在第二方向上具有相对的两个第二变形边缘，所述第二变形边缘为分别围绕基准点m、m2顺时针旋转一定角度的直线。
13.进一步地，所述开口区中心区域处的掩膜开口与对应的预设掩膜开口位置在第一方向上具有第一方向平移偏移量的距离l1，和/或与对应的预设掩膜开口位置在第二方向上具有第二方向平移偏移量的距离l2。
14.进一步地，所述掩膜开口为轮廓形状为v型。
15.一种减小mask形变的掩膜版，包括支撑掩膜版本体和掩膜框体，所述支撑掩膜版本体经过拉伸后夹持区安装于所述掩膜框体上两个相对侧边。
16.本实用新型具有的有益效果：
17.1、在张网过程中减小四周拉力后，在满足平坦度要求的同时使得掩膜版框架曲量减小，同时减小一体化支撑掩膜版整体垂直度变化的可能性；
18.2、通过对支撑掩膜版进行张网拉伸实验，获取张网拉伸模拟位移数据，并根据张网拉伸模拟位移数据计算支撑掩膜版张网拉伸后的掩膜开口的偏移量，根据掩膜开口的偏移量和对应的预设掩膜开口位置在支撑掩膜版上形成掩膜开口，使得支撑掩膜版经过张网拉伸后，掩膜开口位于对应的预设掩膜开口位置。本发明实施例在支撑掩膜版的制作过程中，对掩膜开口在张网拉伸过程中出现的偏移量进行预补偿，保证在张网拉伸后，掩膜开口的较高位置精度，进而保证通过支撑掩膜版蒸镀的像素的较高位置精度，避免因为像素精度降低引起的彩斑、色偏等显示异常问题。
附图说明
19.图1为本实用新型的理想状态下无形变的掩膜版结构示意图；
20.图2为本实用新型的支撑掩膜版结构示意图；
21.图3为本实用新型的掩膜开口aa1结构示意图；
22.图4为本实用新型的v型掩膜开口结构示意图；
23.图5为本实用新型的四边形掩膜开口结构示意图；
24.图6为本实用新型的子开口区结构示意图；
25.附图标记：1-支撑掩膜版本体，2-开口区，3-夹持区，4-掩膜开口，5-v型掩膜开口，6-四边形掩膜开口，7-理想支撑掩膜版，8-预设掩膜开口位置。
具体实施方式
26.下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。
27.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置
关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
28.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“开有”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
29.实施例1
30.一种减小mask形变的支撑掩膜版，所述支撑掩膜版本体1包括开口区2及夹持区3，所述夹持区3围绕所述开口区2布设，所述开口区2内设置有多个掩膜开口4，所述掩膜开口4具有与对应的预设掩膜开口位置8在偏移和/或形状上的偏移量，以使在张网拉伸后所述掩膜开口4位于对应的预设掩膜开口位置8。
31.现有技术中，支撑掩膜版上设置有多个掩膜开口4，用于蒸镀形成各个子像素，将多个图1所示的一张支撑掩膜版通过张网工艺焊接在掩膜版框架上，示例性的，在相互垂直的x方向和y方向构成的平面内，支撑掩膜版沿支撑掩膜版四边方向进行拉伸，并焊接在掩膜版框架上。但是支撑掩膜版在进行张网时，由于受到沿四个方向上拉力的作用，支撑掩膜版上的各掩膜开口4会发生偏移，使得掩膜开口4的位置精度降低，从而通过掩膜开口4形成的子像素的位置精度下降，影响像素显示。
32.精密金属掩膜用于rgb有机材料蒸镀，其支撑掩膜版主要有ch支撑和一体化支撑，目前，一体化支撑已经成为支撑掩膜的主要方式，一体化支撑掩膜版由frame和掩膜片焊接组成。但是一体化支撑同样存在问题，由于一体化支撑掩膜版拉力在掩膜四边边缘部位集中，导致边缘部拉力远远大于中间位置拉力，frame整体产生较大形变，进而发生翘起；此外，在现有边角位置拉力远大于中间位置情况下，由于以下原因：1、frame在热处理后可能导致晶格不均匀；2、掩膜片和frame制作存在偏差；3、掩膜片设计不对称；使得一体化掩膜片和frame焊接后，掩膜版整体垂直度不能保证的情况的可能性增加，更容易出现非矩形形态；或存在朝着非矩形形态方向变化的趋势，在后续的精密金属掩膜张网过程中或蒸镀清洗的反复使用后，出现精密金属掩膜孔位置精度变化。
33.在现有补偿条件下，仅减小张网时的四边拉力值，获得开口位置精度和平坦度变化量；
34.针对拉力减小后，开口出现的偏移量，采用反向补偿的方式，将开口精度补偿至理想位置，且当开口位置精度超过一定值后，采用反向曲线补偿方式，当开口位置精度小于一定值时，采用简单的位置平移补偿方式；
35.具体的，如右上角开口，作为偏移量最大的位置，开口整体补偿右上倾斜，开口上下位置小弧度上翘，左右短边顺时针倾斜；四边开口其余开口补偿方式与右上角相同，补偿值对称；拉力不变的中间区域由于坐标系变化，将产生一定的位移量，设计补偿时一并考虑该区域变化，做平移的补偿。
36.在一种实施例中，可以将掩膜开口4的曲线补偿做直线形式的补偿。
37.在一种实施例中，在简化的情况下，可以将掩膜开口4的曲线做折线形式的补偿。
38.实施例2
39.在实施例1的基础上，当所述掩膜版长度的方向为第一方向，垂直于所述第一方向的方向为第二方向时，所述多个掩膜开口4沿所述第一方向和所述第二方向均匀排列，至少部分掩膜开口4的偏移量不相同。
40.本发明实施例提供的支撑掩膜版本体1的制作过程为：通过对支撑掩膜版本体1进行张网拉伸实验，获取张网拉伸模拟位移数据，并根据张网拉伸模拟位移数据计算支撑掩膜版张网拉伸后的掩膜开口4的偏移量，计算所述掩膜开口4的位置精度，根据所述掩膜开口4的位置精度、偏移量获得对应于掩膜开口4的补偿量，所述补偿量为旋转补偿量、卷翘补偿量、平移补偿量中的至少一种，根据所述掩膜开口4的补偿量，将支撑掩膜版上预设的掩膜开口4位置进行位置补偿处理得到补偿后的掩膜开口4位置，并根据补偿后的掩膜开口4位置在支撑掩膜版上形成掩膜开口4，使得支撑掩膜版经过张网拉伸后，掩膜开口4位于对应的预设掩膜开口位置8。本发明实施例在支撑掩膜版本体1的制作过程中，对掩膜开口4在张网拉伸过程中出现的偏移量进行预补偿，保证在张网拉伸后，掩膜开口4的较高位置精度，进而保证通过支撑掩膜版蒸镀的像素的较高位置精度，避免因为像素精度降低引起的彩斑、色偏等显示异常问题。
41.本领域技术人员可以理解的是，根据张网拉伸模拟位移数据计算支撑掩膜版的掩膜开口4的偏移量，可以包括：在理想支撑掩膜版7上选取多个掩膜开口4测试点；根据理想支撑掩膜版7的张网拉伸模拟位移数据，获取多个掩膜开口4测试点的偏移量；根据多个掩膜开口4测试点的偏移量获取掩膜开口4的偏移量。
42.因为无法直接将理想支撑掩膜版7上所有位置的张网拉伸模拟位移数据根据张网拉伸模拟位移图像进行获取，则需要选取多个掩膜开口4作为测试点，获取多个掩膜开口4测试点的偏移量。可选的，可以将支撑掩膜版上所有的掩膜开口4作为测试点获取每个掩膜开口4的偏移量。或者，为了加快测试进程，也可以选取多个具有代表性的掩膜开口4作为掩膜开口4测试点，获取掩膜开口4测试点的偏移量，再根据掩膜开口4测试点的偏移量，推测或者计算理想支撑掩膜版7上所有掩膜开口4的偏移量，从而可以从数据库中预存的表格通查表法根据偏移量获得补偿量。
43.如图2所示，箭头的长度越长所表示的拉力值越大，作用于支撑掩膜版四边上的拉力分布为，靠近四角的拉力值大于对应侧边中心处的拉力值。
44.具体的，所述掩膜开口4为矩形，所述掩膜开口4的偏移量包括以下偏移量的至少一种：旋转补偿量、卷翘偏移量、平移偏移量，其中：
45.所述旋转补偿量，被配置为掩膜开口4的相对两短边分别与对应的预设掩膜开口4的相对两短边的旋转角度z1，以及趋向于各自对应偏移的方向相反的旋转方向；
46.卷翘补偿量，被配置为掩膜开口4的相对两长边卷翘的弧度z2，以及趋向于各自对应偏移的方向相反的卷翘方向；
47.平移补偿量，被配置为整个掩膜开口4的基准点m与对应的预设掩膜开口4的基准点在拉力方向上的距离l。
48.具体的，所述开口区2为矩形，所述开口区2包括四个子开口区a1、a2、a3、a4，每个子开口区的掩膜开口4的偏移量满足：远离中心处越远，旋转角度z1越大，弧度z2越长，长度l越大。
49.具体的，所述子开口区a1中对应于开口处右上边角处的掩膜开口4aa1在第一方向
上具有相对的两个第一变形边缘，所述第一变形边缘为向上卷翘的弧形，所述子开口区a1中对应于开口处右上边角处的掩膜开口4aa1在第二方向上具有相对的两个第二变形边缘，所述第二变形边缘为分别围绕基准点m、m2顺时针旋转一定角度的直线。
50.具体的，所述开口区2中心区域处的掩膜开口4与对应的预设掩膜开口位置8在第一方向上具有第一方向平移偏移量的距离l1，和/或与对应的预设掩膜开口位置8在第二方向上具有第二方向平移偏移量的距离l2。
51.所述中心区域为通过对支撑掩膜版进行张网拉伸实验确定的，选取开口区2中心处与预设掩膜开口位置8仅有平移偏移量的掩膜开口4所在的位置为中心区域。
52.具体的，所述掩膜开口4为轮廓形状为v型。
53.具体的，所述掩膜开口4的轮廓形状为四边形。
54.在一种实施例中，所述掩膜开口4在第一方向上具有相对的两个第一变形边缘，在未拉伸时所述两个第一变形边缘趋向对应的拉力方向以卷翘偏移量卷翘呈弧形，所述卷翘偏移量为弧形的长度z2。
55.在一种实施例中，所述掩膜开口4在第二方向上具有相对的两个第二变形边缘，在未拉伸时所述两个第二变形边缘分别以下边缘点旋转补偿量顺时针旋转，所述旋转角度为z1。
56.在一种实施例中，所述开口区2中心区域处的掩膜开口4与对应的预设掩膜开口位置8在第一方向上具有第一方向平移偏移量的距离l1，和/或与对应的预设掩膜开口位置8在第二方向上具有第二方向平移偏移量的距离l2。
57.实施例3
58.一种掩膜版，包括多个支撑掩膜版本体1和掩膜框体，所述多个支撑掩膜版本体1经过拉伸后夹持区3安装于所述掩膜框体上两个相对侧边。
59.以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，依据本实用新型的技术实质，在本实用新型的精神和原则之内，对以上实施例所作的任何简单的修改、等同替换与改进等，均仍属于本实用新型技术方案的保护范围之内。