蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法与流程

1.本发明涉及一种蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。


背景技术：

2.显示装置随着多媒体的发展，其重要性增加。顺应于此，使用液晶显示器(liquid crystal display，lcd)、有机发光显示元件(organic light emitting didode，oled)、量子点显示器(quantum-dot light emitting display，qled)等之类各种种类的显示装置。
3.在应用所述有机发光显示元件的显示装置的情况下，构成有机发光显示面板的有机发光层、平坦化层或绝缘层等之类有机层由耐化学性弱的有机物质构成，因此可以通过不是现有技术的光刻工艺，而是利用蒸镀掩模，例如fmm(fine metal mask；精细金属掩模)的蒸镀工艺形成。
4.在如上的蒸镀工艺中，在蒸镀掩模的表面可能残留异物，例如使用于蒸镀的有机物质或清洗物质等，因此必须要求蒸镀掩模的清洗。


技术实现要素：

5.本发明要解决的课题是提供一种能够有效地清洗残留于蒸镀掩模的异物的蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。
6.本发明的课题不限于以上提及的课题，本领域技术人员可以从下面的记载明确地理解未提及的其它技术课题。
7.用于解决所述课题的根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置包括：处理水缸，盛装浸泡蒸镀掩模的处理水；处理水产生部，将所述处理水供应于所述处理水缸；处理水供应配管，连接所述处理水缸和所述处理水产生部；以及泡沫产生部，配置于所述处理水供应配管，并使得所述处理水中产生泡沫，所述处理水包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。
8.可以是，所述蒸镀掩模清洗装置还包括配置于所述处理水缸内并与所述处理水供应配管连接的喷嘴以及配置于所述处理水缸内的喷洒部中的至少一个。
9.可以是，所述蒸镀掩模清洗装置还包括：超纯水供应部，将超纯水供应于所述处理水产生部；处理气体产生部，将处理气体供应于所述处理水产生部；以及浓度测定部，配置于所述处理水供应配管，并测定通过所述处理水供应配管的处理水中的处理物质的浓度。
10.可以是，所述泡沫包括第一尺寸的第一泡沫以及与所述第一尺寸不同的第二尺寸的第二泡沫，向所述处理水缸内同时供应所述第一泡沫以及所述第二泡沫。
11.可以是，向所述处理水缸内，在第一预设时间期间供应所述第一泡沫，在与所述第一预设时间不同的第二预设时间期间供应所述第二泡沫。
12.可以是，所述泡沫产生部包括改变所述泡沫的尺寸的泡沫尺寸改变部。
13.可以是，所述蒸镀掩模清洗装置包括：有机溶剂缸，盛装清洗液；以及超纯水缸，盛
装超纯水。
14.可以是，所述处理水缸、所述有机溶剂缸以及所述超纯水缸以所述有机溶剂缸、所述处理水缸以及所述超纯水缸的顺序排列。
15.用于解决所述课题的根据一实施例的蒸镀掩模清洗方法包括：将蒸镀掩模浸泡于清洗液的步骤；将所述蒸镀掩模浸泡于包括微细尺寸的泡沫的处理水的步骤；将所述蒸镀掩模浸泡于超纯水的步骤；以及干燥所述蒸镀掩模的步骤，所述蒸镀掩模包括有机发光显示面板制造用fmm(fine metal mask；精细金属掩模)以及有机发光显示面板制造用开放掩模，所述蒸镀掩模清洗方法在干燥所述蒸镀掩模前，还包括将所述蒸镀掩模浸泡于挥发性有机溶剂的步骤。
16.可以是，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。
17.其它实施例的具体事项包括于详细的说明以及附图。
18.根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法能够有效地清洗残留于蒸镀掩模的异物。
19.根据实施例的效果不限于以上示例的内容，更多种效果包括在本说明书内。
附图说明
20.图1是根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。
21.图2是根据一实施例的蒸镀掩模清洗方法的顺序图。
22.图3是根据一实施例的蒸镀掩模的立体图。
23.图4是沿着图3的a-a'截取的截面图。
24.图5是根据一实施例的处理水缸的截面图。
25.图6是根据另一实施例的处理水缸的截面图。
26.图7是图6的处理槽的立体图。
27.图8是图6的处理槽的平面图。
28.图9是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。
29.图10是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗方法的顺序图。
30.图11是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。
31.图12是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗方法的顺序图。
32.图13是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。
33.图14是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。
34.(附图标记说明)
35.1：蒸镀掩模清洗装置
36.msk：蒸镀掩模
37.bth_c：有机溶剂缸
38.bth_ow：臭氧水缸
39.bth_dw：超纯水缸
40.drd：干燥装置
具体实施方式
41.若参照与所附的附图一起详细后述的实施例，则本发明的优点和特征以及实现它们的方法将变得明确。但是，本发明不限于以下公开的实施例，将以彼此不同的各种形式实现，本实施例仅使得本发明的公开完整，为了向在本发明所属的技术领域中具有通常知识的人完整地告知发明的范畴而提供，本发明仅通过权利要求书的范畴来界定。
42.指称元件(elements)或层在其它元件或层“上(on)”的情况将直接在其它元件之上或在中间介有其它层或其它元件的情况全部包括。贯穿说明书整体，相同附图标记指称相同构成要件。在用于说明实施例的附图中公开的形状、尺寸、比例、角度、数量等为示例性的，因此本发明不限于图示的事项。
43.以下，参照所附的附图，针对具体的实施例进行说明。
44.图1是根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。图2是根据一实施例的蒸镀掩模清洗方法的顺序图。
45.参照图1，蒸镀掩模清洗装置1可以包括浸泡蒸镀掩模msk的整体或一部分，并盛装用于蒸镀掩模msk的清洗的彼此不同的溶液的多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow。
46.多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow可以包括有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow、超纯水缸bth_dw。
47.有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow以及超纯水缸bth_dw可以分别具有向上侧开放的内部空间，并在所述内部空间盛装用于蒸镀掩模msk的清洗的溶液。在图1中，有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow以及超纯水缸bth_dw可以在截面上具有上方向上侧开放的大致矩形的槽形状，但是不限于此。
48.蒸镀掩模msk可以根据蒸镀掩模清洗方法的顺序，依次浸泡于有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow以及超纯水缸bth_dw并取出。尽管未图示，但是蒸镀掩模清洗装置1可以还包括用于蒸镀掩模msk的移送的工具，例如包括搁放蒸镀掩模msk的夹具(或盒)以及移动所述夹具的夹具移动部的自动移送装置等。以下，在图3以及图4中，针对蒸镀掩模msk进行详细说明。
49.在有机溶剂缸bth_c中可以盛装清洗液。所述清洗液可以包括能够溶解残留于蒸镀掩模msk的有机物质的物质，例如n-甲基吡咯烷酮(n-methyl pyrrolidone；nmp)、丙酮(acetone)或环己酮(cyclohexanone)等之类针对有机物具有溶解性或剥离性的有机溶剂。
50.在处理水缸bth_ow中可以盛装处理水。所述处理水可以包括氢水、氢氨水、碳酸水等用于蒸镀掩模msk的清洗的溶液。例如，包含在臭氧水中的臭氧由于具有高能量，容易分解成氧分子和氧原子，分解的氧原子具有强氧化力，使残留于蒸镀掩模msk的有机物质氧化，从而能够清洗蒸镀掩模msk。
51.处理水可以包括具有几纳米至几百微米的尺寸，例如约500μm以下的尺寸的泡沫。例如，所述泡沫可以包括气泡直径为约50μm以下的微泡沫及/或气泡直径为约1nm以上且未满1μm的纳米泡沫。举出又另一例，所述泡沫可以是气泡直径为约102μm～104μm的大泡沫、气泡直径为约10μm～102μm的微泡沫、气泡直径为约1μm～10μm的亚微泡沫以及气泡直径为约10-3
μm～1μm的纳米超细泡沫中的至少一种，但是泡沫的尺寸不限于上述示例。
52.向处理水内供应的泡沫可以具有比较均匀的尺寸。向处理水内可以仅供应所述大泡沫、微泡沫、亚微泡沫以及纳米超细泡沫等之类的各种种类的泡沫中的任一个种类的泡
沫。但是不限于此，也可以向臭氧水内同时混合供应或者依次供应具有彼此不同尺寸的2个以上种类的泡沫。
53.在这种情况下，可以是，具有相对大尺寸的泡沫，例如大泡沫以及微泡沫附着于带正电荷的异物而使所述异物上升，具有相对小尺寸的泡沫，例如亚微泡沫以及纳米超细泡沫在水中爆发而分解有机物质。即，随着各个泡沫执行彼此不同的作用，能够更加最大化清洗力。
54.所述泡沫可以通过表面张力而具有高的内部压力，张力带来的收缩以及内部压力带来的膨胀反复形成而产生振动波。所述泡沫可以自带负电荷。由此，在泡沫之间可以作用斥力。
55.所述泡沫可以附着于漂浮在水中的带正电荷的微细异物，使所述异物向水面慢慢浮上。所述泡沫可以具有非常慢的上升速度，例如每分钟约1mm～3mm的上升速度，但是不限于此。
56.所述泡沫也可以在水中爆炸而消失。在这种情况下，可以瞬间形成约5000℃的温度以及几乎无限大的压力，周围的水分子分解而形成oh等自由基。蒸镀掩模msk上的有机物质可以接触于泡沫，并可以通过通过所述泡沫的消失形成的高温、高压以及自由基而分解。通过泡沫的消失，泡沫内的处理气体，例如臭氧、氢气或碳酸等可以溶解于水。通过如上的泡沫的清洗作用以及臭氧水内的臭氧，能够最大化清洗蒸镀掩模msk的清洗力。
57.在超纯水(deionized water)缸bth_dw中可以盛装超纯水。超纯水可以意指利用阳离子或碱性离子交换树脂等最大限度地去除离子的水。残留于蒸镀掩模msk的清洗液等之类的化学物质可以通过超纯水冲洗。尽管未示出，在超纯水缸bth_dw中也可以配置用于形成水流的搅拌器。
58.尽管未示出，有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow以及超纯水缸bth_dw中的至少一个可以还包括通过负压作用提升清洗力的超声波产生装置。
59.显示装置制造装置可以还包括干燥蒸镀掩模msk的干燥装置drd。
60.干燥装置drd可以气化在蒸镀掩模msk上残留的水分或酒精之类的挥发性有机物质而干燥蒸镀掩模msk。干燥装置drd可以实现为例如气刀等之类的空气喷射装置，但是不限于此。
61.有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow、超纯水缸bth_dw以及干燥装置drd可以沿着蒸镀掩模msk的移动路径，例如以有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow以及超纯水缸bth_dw的顺序向一侧方向，例如水平方向排列。但是，不限于此，有机溶剂缸bth_c、处理水缸bth_ow、超纯水缸bth_dw以及干燥装置drd的排列顺序可以根据蒸镀掩模msk的清洗顺序进行各种改变。
62.参照图1以及图2，蒸镀掩模msk的清洗可以以将蒸镀掩模msk浸泡于清洗液的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于处理水的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于超纯水的步骤以及干燥蒸镀掩模msk的步骤的顺序实现。如上的蒸镀掩模msk的清洗可以通过蒸镀掩模清洗装置1实现。
63.首先，蒸镀掩模msk可以浸泡于有机溶剂缸bth_c的清洗液。蒸镀掩模msk上的异物可以通过清洗液剥离以及溶解。所述异物可以包含有机物，是通过构成显示面板的有机层，例如有机发光层或有机绝缘层的蒸镀工艺在蒸镀掩模msk上堆积的蒸镀物质。为了清洗效
果的提升，蒸镀掩模msk可以在有机溶剂缸bth_c浸泡2次以上，但是不限于此。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于清洗液的步骤也可以替换为将清洗液喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
64.之后，蒸镀掩模msk可以从有机溶剂缸bth_c取出，并浸泡于处理水缸bth_ow的处理水。如上所述，所述处理水可以是例如臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，但是不限于此。
65.蒸镀掩模msk中没有被清洗液完全清洗而残留在蒸镀掩模msk上的异物可以通过在处理水中溶解的臭氧、氢气、氨氢或碳酸等溶解气体以及泡沫去除。即，蒸镀掩模msk可以通过有机溶剂缸bth_c的清洗液进行初次清洗，通过处理水缸bth_ow的处理水以及泡沫进行二次清洗。为了清洗效果的提升，蒸镀掩模msk可以在处理水缸bth_ow中浸泡2次以上，但是不限于此。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于臭氧水的步骤也可以替换为将包括泡沫的处理水喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
66.之后，蒸镀掩模msk可以从处理水缸bth_ow取出，并浸泡于超纯水缸bth_dw的超纯水。通过清洗液以及臭氧水清洗的蒸镀掩模msk可以通过超纯水进行冲洗处理。残留于蒸镀掩模msk的清洗液以及异物可以通过超纯水去除。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于超纯水的步骤也可以替换为将超纯水喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
67.之后，蒸镀掩模msk可以从超纯水缸bth_dw取出，并通过干燥装置drd干燥。
68.蒸镀掩模msk可以是用于形成构成显示面板的多个层中的至少一个层的蒸镀工艺用掩模。蒸镀掩模msk的形状、材质以及蒸镀物质通过的孔的尺寸可以根据要形成的层的形状或配置进行各种改变。例如，蒸镀掩模msk可以包括用于形成显示面板的有机发光层、有机绝缘层以及有机封装层中的至少一个的掩模，例如fmm或开放掩模等。以下在图3以及图4中，例示了在用于形成应用有机发光元件的显示面板的有机发光层的蒸镀工艺中使用的蒸镀掩模msk，但是蒸镀掩模msk的种类或形状等不限于此。
69.图3是根据一实施例的蒸镀掩模的立体图。图4是沿着图3的a-a'截取的截面图。
70.再参照图3以及图4，蒸镀掩模msk可以由具有大致矩形形状的薄板构成，但是不限于此。蒸镀掩模msk可以由金属材质构成。例如，所述金属材质可以包括不锈钢以及殷钢(invar)中的至少一种。蒸镀掩模msk可以包括引导蒸镀物质蒸镀于期望的位置的小且密集的多个孔。蒸镀掩模msk可以是使用于有机发光显示面板的发光有机物的蒸镀的fmm(fine metal mask；精细金属掩模)。
71.蒸镀掩模msk可以包括框架部bf、多个第一条部stk1、多个第二条部stk2以及金属膜部mfm。
72.框架部bf可以配置为沿着蒸镀掩模msk的边缘形成开口部bf_op。框架部bf可以配置为围绕多个第一条部stk1、多个第二条部stk2以及金属膜部mfm。
73.多个第一条部stk1以及多个第二条部stk2可以配置为横穿框架部bf的开口部bf_op。多个第一条部stk1以及多个第二条部stk2可以在框架部bf的开口部bf_op内例如配置为构成格子形状的图案。如图4所示，第一条部stk1的两端可以在厚度方向，例如图4的水平方向上重叠于框架部bf。尽管未图示，相同地，第二条部stk2的两端也可以重叠于框架部bf。即，第一条部stk1的两端以及第二条部stk2的两端可以配置为架设于框架部bf。可以是，框架部bf具有大于第一条部stk1以及第二条部stk2的厚度，第一条部stk1以及第二条
部stk2具有大于金属膜部mfm的厚度，但是不限于此。
74.多个第一条部stk1以及多个第二条部stk2可以配置为横穿金属膜部mfm。多个第一条部stk1以及多个第二条部stk2可以防止金属膜部mfm的下垂。
75.第一条部stk1以及第二条部stk2可以向相互交叉的方向延伸。可以是，多个第一条部stk1各自向一侧方向，例如垂直方向延伸，多个第二条部stk2各自向交叉于所述一侧方向的另一侧方向，例如水平方向延伸。
76.金属膜部mfm可以覆盖框架部bf的开口部bf_op。在金属膜部mfm可以形成用于供蒸镀物质通过的微细尺寸的孔。金属膜部mfm的大部分可以配置在多个第一条部stk1以及多个第二条部stk2上。金属膜部mfm可以与多个第一条部stk1以及多个第二条部stk2在厚度方向上重叠。在这种情况下，金属膜部mfm的边缘可以与框架部bf在厚度方向上重叠。
77.蒸镀掩模msk可以还包括多个第一条部stk1、多个第二条部stk2、金属膜部mfm以及结合框架部bf的结合区域wdr。
78.结合区域wdr可以配置为围绕框架部bf的开口部bf_op。可以是，与框架部bf重叠的第一条部stk1的两端、第二条部stk2的两端以及金属膜部mfm的边缘部分通过熔接而连接并结合于框架部bf，所述结合区域wdr是多个第一条部stk1、多个第二条部stk2、金属膜部mfm熔接于框架部bf的区域。
79.但是，本发明不限于此，第一条部stk1以及第二条部stk2也可以通过单独的结合部件或粘接部件等连接于框架部bf，所述结合区域wdr也可以意指配置所述结合部件或粘接部件等的区域。
80.蒸镀掩模msk可以还包括多个第一条部stk1和多个第二条部stk2相互重叠的多个重叠区域ovr。
81.多个重叠区域ovr可以配置在框架部bf的开口部bf_op内。多个重叠区域ovr可以由第一条部stk1和第二条部stk2向彼此不同的方向交叉而形成。
82.如图3以及图4所示，蒸镀掩模msk包括结合区域wdr以及多个重叠区域ovr，从而具有蒸镀掩模msk上的液体，例如蒸镀物质或清洗液等不容易排出或渗透的结构。由此，在蒸镀掩模msk上容易残留蒸镀物质等异物，这可能导致利用蒸镀掩模msk制造的显示面板的不良。
83.为了防止上述那样的不良，可以将清洗液中的有机溶剂的溶解度增加到饱和溶解度，但是在这种情况下，可能反而导致清洗力下降的结果，有机溶剂的使用带来的工艺费用增加，产生防止污染等维护管理的困难。
84.如后述那样，根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置1以及蒸镀掩模清洗方法应用提供包括微细尺寸的泡沫的处理水的处理水缸bth_ow，从而能够改善清洗力，节减工艺费用，易于维护管理。
85.图5是根据一实施例的处理水缸的截面图。
86.进一步参照图5，处理水缸bth_ow可以包括处理槽bth_ow_1以及外槽bth_ow_2。
87.处理槽bth_ow_1可以具有上部向上侧方向开放并向下侧方向凹陷的内部空间。在所述内部空间可以储存臭氧水。
88.外槽bth_ow_2可以配置于处理槽bth_ow_1的上部。外槽bth_ow_2可以配置为围绕处理槽bth_ow_1的上部。从处理槽bth_ow_1的上部溢出的处理水可以流入外槽bth_ow_2。
流入至外槽bth_ow_2的处理水可以通过后述的第二污染物质去除部oru2排出到外部。
89.蒸镀掩模清洗装置1可以还包括超纯水供应部ws、处理水产生部owg、处理气体产生部og、前驱气体供应部os、泡沫产生部mbg、喷嘴nz，第一污染物质去除部oru1、第二污染物质去除部oru2、处理水供应配管fp1、处理气体供应配管fp2、处理槽流出配管fp3、外槽流出配管fp4、处理水流出配管fp5以及处理气体流出配管fp6。
90.超纯水供应部ws可以将超纯水供应于处理水产生部owg。在一实施例中，超纯水供应部ws可以通过处理水供应配管fp1连接于处理槽bth_ow_1中的喷嘴nz。
91.处理水产生部owg可以提供于处理水供应配管fp1。处理水产生部owg可以将处理水供应于处理水缸bth_ow。如上所述，所述处理水可以包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，但是不限于此。
92.处理水产生部owg可以通过处理气体供应配管fp2连接于处理气体产生部og，并通过处理水供应配管fp1连接于超纯水供应部ws。处理水产生部owg可以将通过处理水供应配管fp1从超纯水供应部ws供应的超纯水与通过处理气体供应配管fp2从处理气体产生部og供应的处理气体混合而生成处理水。所述处理气体可以包括臭氧气体、氢气、碳酸气体，但是不限于此。尽管未图示，在处理水包括氨氢水的情况下，处理水产生部owg也可以包括氨添加部。
93.例如，处理水产生部owg可以包括气液混合装置之类的用于混合超纯水和处理气体的混合工具。但是，不限于此，处理水产生部owg也可以没有单独的处理气体的供应而将通过处理水产生部owg的超纯水电分解而自身生成处理水。处理气体产生部og可以分解从前驱气体供应部os接收的前驱气体而产生处理气体。例如，处理气体产生部og可以从前驱气体供应部os接收氧气，并通过在两个电极间进行等离子体放电并使氧气通过的电分解方式生成臭氧气体，但是不限于此。在一些实施例中，也可以省略前驱气体供应部os。
94.前驱气体供应部os可以将高浓度的前驱气体，例如氧气供应于处理气体产生部og。前驱气体供应部os可以包括氧气压缩瓶等之类氧气供应工具。高浓度的氧气例如可以通过利用压缩空气和吸附剂而分离空气中的氮气和氧气的压力循环吸附方式等生成，但是不限于此。
95.泡沫产生部mbg可以提供于处理水供应配管fp1。超纯水可以从超纯水供应部ws依次经过处理水产生部owg以及泡沫产生部mbg供应至处理槽bth_ow_1内。泡沫产生部mbg可以使得在通过泡沫产生部mbg的处理水中产生泡沫。例如，泡沫产生部mbg可以利用通过高压使充分量的气体溶解于溶液后施加附加的压力而通过多孔性透过膜的加压方式、利用螺杆使液体和气体强制混合或者使用文丘里形式的剪切方式或利用文丘里形式且在吸入空气的腔室中以小颗粒形式的空气产生剪切涡流而生成微细泡沫的剪切旋转方式、在低温下对内含在溶液中的气体施加压力而制成过饱和状态的溶液后急剧加热或降低压力的减压方式、向液体中施加超声波或高频之类的能量而使液体汽化或溶解在液体中的气体出来而生成超微细泡沫的空化方式、利用通过泡沫柱(bubble column)、机械搅拌容器(mechanically agitated vessel)、在线静态混合器(in-line static mixer)、喷射器等装置产生的不规则的流体流动生成超微细泡沫的气液混合方式等各种方式生成泡沫。
96.在图5中，处理水产生部owg以及泡沫产生部mbg示出为单独的结构，但是不限于此，处理水产生部owg以及泡沫产生部mbg也可以由一个装置实现。
97.喷嘴nz可以配置于处理槽bth_ow_1的内部空间。喷嘴nz可以连接于处理水供应配管fp1，并使处理水中的泡沫在处理槽bth_ow_1内部均匀扩散。在截面上，喷嘴nz可以与处理槽bth_ow_1的内部空间的底面相邻配置。在浸泡蒸镀掩模msk时，喷嘴nz可以位于蒸镀掩模msk之下。但是，不限于此，喷嘴nz也可以配置于处理槽bth_ow_1的内部空间的侧面。在一些实施例中，也可以省略喷嘴nz。
98.第一污染物质去除部oru1可以去除从处理槽bth_ow_1以及外槽bth_ow_2排出的处理水的污染物质，例如臭氧等。在一实施例中，可以是，处理槽bth_ow_1的处理水通过处理槽流出配管fp3流出，外槽bth_ow_2的处理水通过外槽流出配管fp4流出，第一污染物质去除部oru1配置于处理槽流出配管fp3以及外槽流出配管fp4合并的处理水流出配管fp5而去除通过第一污染物质去除部oru1的处理水的臭氧，并将去除了污染物质的超纯水向外部排出。例如，在处理水为臭氧水的情况下，第一污染物质去除部oru1可以包括例如储存臭氧水并使储存的臭氧水起泡而去除臭氧的装置或臭氧去除过滤器之类臭氧去除工具，但是不限于此。在一些实施例中，所述去除了臭氧的超纯水也可以经过过滤而再使用。
99.第二污染物质去除部oru2可以去除从处理水缸bth_ow排出的气体的污染物质。第二污染物质去除部oru2可以配置于连接于外槽bth_ow_2的处理气体流出配管fp6。在一实施例中，第二污染物质去除部oru2可以去除存在于通过处理槽bth_ow_1、外槽bth_ow_2以及后述的覆盖部bth_ow_c形成的空间中的气体的污染物质而向外部排出。例如，在所述处理水为臭氧水的情况下，第二污染物质去除部oru2可以包括利用活性炭等的臭氧去除过滤器之类臭氧去除工具，但是不限于此。
100.蒸镀掩模清洗装置1可以还包括液位传感器ls。
101.液位传感器ls可以感测处理槽bth_ow_1内的处理水的水位。后述的控制部cu可以基于感测到的处理水的水位而适当地调节处理水的水位。在图5中，液位传感器ls配置于处理槽bth_ow_1外部，但是不限于此，液位传感器ls也可以配置于处理槽bth_ow_1内部。
102.蒸镀掩模清洗装置1可以还包括浓度测定部omd。
103.浓度测定部omd可以配置于处理水供应配管fp1。浓度测定部omd可以测定溶解在通过浓度测定部omd的处理水中的例如臭氧、氢、氨以及碳酸之类处理物质或处理气体的浓度。
104.浓度测定部omd可以配置于处理水产生部owg与处理槽bth_ow_1之间。在一实施例中，可以在处理水供应配管fp1中从臭氧水供水部至处理槽bth_ow_1依次配置处理水产生部owg、泡沫产生部mbg以及浓度测定部omd，但是不限于此，浓度测定部omd的位置和泡沫产生部mbg的位置也可以掉换。
105.蒸镀掩模清洗装置1可以还包括覆盖部bth_ow_c。
106.覆盖部bth_ow_c可以覆盖开放的外槽bth_ow_2的上方而形成通过处理槽bth_ow_1、外槽bth_ow_2以及覆盖部bth_ow_c围绕的空间。覆盖部bth_ow_c可以防止利用处理水的清洗工艺中排出的污染物质向外部扩散。覆盖部bth_ow_c可以构成为可开闭。例如，覆盖部bth_ow_c可以在蒸镀掩模msk的浸泡以及清洗中关闭，并在蒸镀掩模msk的浸泡前以及蒸镀掩模msk的清洗完成后打开。覆盖部bth_ow_c可以以至少一个铰链门、滑动门等各种方式实现。
107.蒸镀掩模清洗装置1可以还包括控制部cu。
108.控制部cu可以控制蒸镀掩模清洗装置1的整体工作。控制部cu可以控制超纯水供应部ws、处理水产生部owg、处理气体产生部og、前驱气体供应部os、泡沫产生部mbg、喷嘴nz、第一污染物质去除部oru1、第二污染物质去除部oru2、液位传感器ls以及浓度测定部omd中的至少一个。例如，控制部cu可以控制泡沫产生部mbg在清洗工艺期间生成泡沫。举出又另一例，控制部cu可以控制提供于处理槽流出配管fp3的阀门以基于液位传感器ls感测到的水位调节处理槽bth_ow_1中的处理水的水位。举出又另一例，控制部cu可以基于通过浓度测定部omd测定的处理物质及/或处理气体的浓度，控制处理水供应配管fp1内的处理物质及/或处理气体的浓度。举出又另一例，控制部cu可以控制覆盖部bth_ow_c的开闭。但是，控制部cu的工作不限于上述示例，可以参照本说明书的其他记载，包括蒸镀掩模msk的清洗所需的所有工作。
109.参照图1至图5，如上所述，在浸泡于有机溶剂缸bth_c后，蒸镀掩模msk可以浸泡于处理水缸bth_ow。
110.详细地，在通过清洗液清洗后，蒸镀掩模msk可移送至处理水缸bth_ow的上侧，并打开覆盖部bth_ow_c。在打开覆盖部bth_ow_c后，可以通过开放的处理槽bth_ow_1的上部，用处理槽bth_ow_1内的处理水浸泡蒸镀掩模msk。由于在处理水中溶解的处理气体及/或处理物质以及微细尺寸的泡沫，可以清洗蒸镀掩模msk上的包括有机物质的异物。
111.如上所述，根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置1以及利用其的蒸镀掩模清洗方法利用包括微细尺寸的泡沫的处理水，与仅使用清洗液的情况相比，能够大大地提升清洗力，并能够节减工艺费用，易于维护管理。
112.图6是根据另一实施例的处理水缸的截面图。图7是图6的处理槽的立体图。图8是图6的处理槽的平面图。
113.参照图6，处理水缸bth_ow可以还包括喷洒部spr。
114.喷洒部spr可以配置于处理槽bth_ow_1内。喷洒部spr可以连接于处理水供应配管fp1并将包括微细尺寸的泡沫的处理水喷射于处理槽bth_ow_1内。如上所述，处理水可以包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种。在利用喷洒部spr将处理水喷射于蒸镀掩模msk的情况下，与浸泡蒸镀掩模msk的情况相比，能够节减处理水的使用量。
115.在处理槽bth_ow_1内可以配置多个喷洒部spr。多个喷洒部spr可以向上下方向延伸并与构成处理槽bth_ow_1的内部空间的侧面相邻配置。
116.如图6所示，多个喷洒部spr可以分别配置于构成处理槽bth_ow_1的内部空间的一侧侧面以及与所述一侧侧面相向的另一侧侧面。例如，如图6所示，一组喷洒部spr可以在处理槽bth_ow_1的一侧侧面向高度方向排列，另一组喷洒部spr可以在与处理槽bth_ow_1的所述一侧侧面相向的另一侧侧面向高度方向排列。
117.多个喷洒部spr可以向高度方向以预定的间隔隔开配置，以使处理水均匀地喷射于蒸镀掩模msk。例如，多个喷洒部spr可以分别配置于一侧侧面的上端部以及另一侧侧面的上端部、一侧侧面的中端部、一侧侧面的下端部、另一侧侧面的中端部以及另一侧侧面的下端部。但是，多个喷洒部spr的数量以及配置不限于此，例如，也可以2个喷洒部spr仅配置于处理槽bth_ow_1的一侧侧面的上端部以及另一侧侧面的上端部。
118.进一步参照图7以及图8，处理槽bth_ow_1可以包括上侧开放的大致矩形形状的主体部bth_ow_1_sw以及配置于所述主体部bth_ow_1_sw的下端并连接于处理槽流出配管fp3
的流出口bth_ow_1_out。如图8所示，主体部bth_ow_1_sw的内部空间的底面bth_ow_1_bt可以构成为朝向流出口bth_ow_1_out倾斜的多个倾斜面，但是不限于此。
119.如图8所示，主体部bth_ow_1_sw可以具有在平面上具有两长边以及两短边的大致矩形形状。多个喷洒部spr可以分别沿着主体部bth_ow_1_sw的两长边延伸，并在主体部bth_ow_1_sw的内部空间与所述两长边相邻配置。
120.再次参照图6，处理水供应配管fp1可以分支为多个子处理水供应配管fp11，多个子处理水供应配管fp11分别连接于至少一个喷洒部spr以及喷嘴nz。在这种情况下，也可以省略喷嘴nz以及与其连接的处理水供应配管fp1。
121.在子处理水供应配管fp11与处理水产生部owg之间的处理水供应配管fp1可以配置浓度测定部omd以及泡沫产生部mbg。但是，不限于此，尽管未图示，多个浓度测定部omd以及多个泡沫产生部mbg也可以配置于多个子处理水供应配管fp11。在这种情况下，能够更精确地控制处理水中的处理气体(处理物质)的浓度以及泡沫的产生。
122.当在处理槽bth_ow_1中一起配置喷洒部spr以及喷嘴nz时，蒸镀掩模清洗装置1可以运转为可转换浸泡模式和喷射模式之间。可以是，浸泡模式是如图5所示向处理槽bth_ow_1内供应充分量的处理水而浸泡并清洗蒸镀掩模msk的一部分或全部的模式，喷射模式是如图6所示通过从处理槽bth_ow_1内的喷洒部spr喷射的处理水清洗蒸镀掩模msk的模式。
123.在浸泡模式的情况下，可以在处理槽bth_ow_1内投入多个蒸镀掩模msk。控制部cu可以基于从液位传感器ls测定到的处理槽bth_ow_1内的处理水的水位，调节处理水供应配管fp1的流量、子处理水供应配管fp11的流量、处理槽流出配管fp3的流量以及外槽流出配管fp4的流量中的至少一个，以浸泡蒸镀掩模msk的全部或一部分。例如，尽管未图示，可以是，在所述处理水供应配管fp1、子处理水供应配管fp11、处理槽流出配管fp3以及外槽流出配管fp4中的至少一个分别提供阀门之类流量调节工具，控制部cu控制所述流量调节工具来控制处理水供应配管fp1的流量、处理槽流出配管fp3的流量以及外槽流出配管fp4的流量。
124.在浸泡模式的情况下，可以仅向连接于喷嘴nz的子处理水供应配管fp11供应处理水，向连接于喷洒部spr的子处理水供应配管fp11不供应处理水。由此，可以不从喷洒部spr喷射处理水。但是，不限于此，即使在浸泡模式下，也可以向喷洒部spr供应处理水。在这种情况下，即使在喷洒部spr浸泡于处理水中的状态下，处理水也通过喷洒部spr流出，能够在处理槽bth_ow_1内比较均匀地散布泡沫。
125.在喷射模式的情况下，可以在处理槽bth_ow_1内投入一个蒸镀掩模msk，但是不限于此。控制部cu可以基于从液位传感器ls测定到的处理槽bth_ow_1内的处理水的水位，调节处理水供应配管fp1的流量、子处理水供应配管fp11的流量、处理槽流出配管fp3的流量以及外槽流出配管fp4的流量中的至少一个，以不浸泡蒸镀掩模msk。例如，处理水的水位调节可以通过所述流量调节工具实现。朝向蒸镀掩模msk喷射的臭氧水可以向处理槽bth_ow_1的底部落下而被收集，并通过处理槽流出配管fp3向外部排出。
126.通过上述那样的模式转换，蒸镀掩模清洗装置1灵活地应对工艺变更，能够节约设置空间，并节减工艺费用以及维护管理费用等。
127.参照图6，蒸镀掩模清洗装置1可以还包括收集从处理槽bth_ow_1流出的处理水而
向处理水供应配管fp1再次供应的再循环配管fp7。
128.可以是，再循环配管fp7的一端连接于处理水流出配管fp5，再循环配管fp7的另一端连接于处理水供应配管fp1。在这种情况下，再循环配管fp7的另一端可以连接于泡沫产生部mbg与处理水产生部owg之间的处理水供应配管fp1。但是，不限于此，再循环配管fp7的一端也可以连接于外槽流出配管fp4或处理槽流出配管fp3，再循环配管fp7的另一端也可以连接于处理槽与浓度测定部omd之间或者浓度测定部omd与泡沫产生部mbg之间。尽管未图示，在图5以及图14的实施例中，当然也可以应用所述再循环配管fp7。
129.蒸镀掩模清洗装置1可以以将在处理槽bth_ow_1或外槽bth_ow_2中使用的处理水向外部放出的开放模式以及再循环并再使用所述处理水的封闭模式中的至少一种运转。蒸镀掩模清洗装置1也可以混合所述开放模式和封闭模式而运转。如上所述那样的工作可以通过控制部cu以及在再循环配管fp7以及与其连接的配管配置的至少一个流量调节工具，例如阀门进行控制。例如，在开放模式下，在处理槽bth_ow_1内喷射的处理水可以经过处理槽流出配管fp3、处理水流出配管fp5以及第二污染物质去除部oru2而向外部排出。举出又另一例，在封闭模式下，在处理槽bth_ow_1内收集的处理水可以经过连接于处理水流出配管fp5的再循环配管fp7而再次供应至处理水供应配管fp1。
130.图6至图8的实施例除了处理水缸bth_ow的结构外，与图1至图5的实施例实质上相同或相似，因此以下省略重复说明。
131.图9是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。图10是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗方法的顺序图。
132.参照图9，蒸镀掩模清洗装置1可以包括多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al，多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al还包括挥发性有机溶剂缸bth_al。
133.挥发性有机溶剂缸bth_al可以盛装挥发性有机溶剂。挥发性有机溶剂可以包括例如苯、甲苯、二甲苯、丙酮以及乙醇(异丙醇)等之类具有比水低的沸点的溶剂。残留于蒸镀掩模msk的水，例如超纯水通过挥发性有机溶剂置换，从而蒸镀掩模msk能够迅速干燥。
134.蒸镀掩模清洗装置1的多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al可以根据清洗工艺以不同的顺序排列。如图9所述，多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al可以以有机溶剂缸bth_c、超纯水缸bth_dw、处理水缸bth_ow以及挥发性有机溶剂缸bth_al的顺序排列。蒸镀掩模msk可以以有机溶剂缸bth_c、超纯水缸bth_dw、处理水缸bth_ow以及挥发性有机溶剂缸bth_al的顺序浸泡。在一些实施例中，也可以省略超纯水缸bth_dw。在一些实施例中，超纯水缸bth_dw也可以配置于处理水缸bth_ow与挥发性有机溶剂缸bth_al之间。
135.如上所述，向处理水缸bth_ow的处理水可以提供微细尺寸的泡沫。在处理水缸bth_ow中，如图5所示，也可以在处理槽bth_ow_1内不配置喷洒部spr，如图6所示，也可以在处理槽bth_ow_1内配置喷洒部spr。如上所述，在配置喷洒部spr的情况下，处理水缸bth_ow也可以仅以喷射模式运转，当然可以选择地以浸泡模式以及喷射模式中的任一种运转。
136.进一步参照图10，蒸镀掩模msk的清洗可以以将蒸镀掩模msk浸泡于清洗液的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于超纯水的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于处理水的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于挥发性有机溶剂的步骤以及干燥蒸镀掩模msk的步骤的顺序实现。
137.首先，蒸镀掩模msk可以浸泡于有机溶剂缸bth_c的清洗液。蒸镀掩模msk上的异物可以通过清洗液剥离以及溶解。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于清洗液的步骤也可
以替换为将清洗液喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
138.之后，蒸镀掩模msk可以从有机溶剂缸bth_c取出，并浸泡于超纯水缸bth_dw的超纯水。残留于蒸镀掩模msk的清洗液可以通过超纯水冲洗处理。在一些实施例中，也可以省略将蒸镀掩模msk浸泡于超纯水的步骤。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于超纯水的步骤也可以在将蒸镀掩模msk浸泡于臭氧水的步骤与将蒸镀掩模msk浸泡于挥发性有机溶剂的步骤之间实现。
139.之后，蒸镀掩模msk可以从超纯水缸bth_dw取出，并浸泡于处理水缸bth_ow的处理水。如上所述，所述处理水可以包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种。例如，可以是，所述处理水是臭氧水，残留于蒸镀掩模msk的异物通过臭氧水的臭氧以及微细尺寸的泡沫再一次清洗。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于处理水的步骤也可以替换为将处理水喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
140.之后，蒸镀掩模msk可以从处理水缸bth_ow取出，并浸泡于挥发性有机溶剂缸bth_al的挥发性有机溶剂。
141.之后，蒸镀掩模msk可以从挥发性有机溶剂缸bth_al取出，并通过干燥装置drd干燥或自然干燥。
142.即，蒸镀掩模msk的清洗顺序可以根据所需的清洗力、清洗液的种类、处理水以及泡沫的清洗力以及蒸镀掩模msk上的异物等进行各种改变。
143.图9以及图10的实施例除了多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al的结构以及基于其的清洗工艺外，与图1至图5的实施例实质上相同或相似，因此以下省略重复说明。
144.图11是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。图12是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗方法的顺序图。
145.参照图11，图11的实施例可以与图9的实施例相似地，还包括挥发性有机溶剂缸bth_al。但是，图11的实施例与图9的实施例主要的不同点在于多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al的排列顺序改变。
146.如图11所示，多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al可以以处理水缸bth_ow、有机溶剂缸bth_c、超纯水缸bth_dw以及挥发性有机溶剂缸bth_al的顺序排列。蒸镀掩模msk可以以处理水缸bth_ow、有机溶剂缸bth_c、超纯水缸bth_dw以及挥发性有机溶剂缸bth_al的顺序浸泡。在一些实施例中，也可以省略挥发性有机溶剂缸bth_al。
147.进一步参照图12，蒸镀掩模msk的清洗可以以将蒸镀掩模msk浸泡于处理水的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于清洗液的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于超纯水的步骤、将蒸镀掩模msk浸泡于挥发性有机溶剂的步骤以及干燥蒸镀掩模msk的步骤的顺序实现。
148.首先，蒸镀掩模msk可以浸泡于处理水缸bth_ow的处理水。如上所述，所述处理水可以包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种。例如，在所述处理水是臭氧水的情况下，残留于蒸镀掩模msk的异物可以通过臭氧水的臭氧以及微细尺寸的泡沫进行一次清洗。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于处理水的步骤也可以替换为将处理水喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
149.之后，蒸镀掩模msk可以从处理水缸bth_ow取出，并浸泡于有机溶剂缸bth_c的清洗液。残留于蒸镀掩模msk的异物可以通过清洗液再一次清洗。在一些实施例中，将蒸镀掩模msk浸泡于清洗液的步骤也可以替换为将清洗液喷射于蒸镀掩模msk的步骤。
150.之后，蒸镀掩模msk可以从有机溶剂缸bth_c取出，并浸泡于超纯水缸bth_dw的超纯水。残留于蒸镀掩模msk的异物、清洗液以及处理水等可以通过超纯水冲洗处理。
151.之后，蒸镀掩模msk可以从超纯水缸bth_dw取出，并浸泡于挥发性有机溶剂缸bth_al的挥发性有机溶剂。在一些实施例中，也可以省略将蒸镀掩模msk浸泡于挥发性有机溶剂的步骤。
152.之后，蒸镀掩模msk可以从挥发性有机溶剂缸bth_al取出，并通过干燥装置drd干燥或自然干燥。
153.图11以及图12的实施例除了多个沉淀缸bth_c、bth_dw、bth_ow、bth_al的排列顺序以及基于其的清洗工艺外，与图9的实施例实质上相同或相似，因此以下省略重复说明。
154.图13是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置的截面图。
155.参照图13，图13的实施例与图1至图5的实施例主要的不同点在于向超纯水以及清洗液也提供微细尺寸的泡沫。
156.如图13所示，向超纯水缸bth_dw内的超纯水以及有机溶剂缸bth_c内的清洗液中也可以提供与提供于处理水缸bth_ow的处理水的泡沫实质上相同或相似的泡沫。由此，能够提升清洗液的清洗力以及超纯水的冲洗力。例如，所述泡沫可以具有约10nm～500nm的尺寸。举出又另一例，所述泡沫可以包括大泡沫、微泡沫、亚微泡沫以及纳米超细泡沫。向有机溶剂缸bth_c以及超纯水缸bth_dw内也可以提供具有比较均匀尺寸的一种泡沫，也可以同时或依次提供具有彼此不同尺寸的两种以上的泡沫。
157.清洗液中的泡沫以及超纯水中的泡沫可以以与处理水中的泡沫实质上相同或相似的方式提供。例如，尽管未图示，有机溶剂缸bth_c以及超纯水缸bth_dw可以具有与在图5、图6以及后述的图14中示例的处理水缸bth_ow实质上相同或相似的结构。在这种情况下，超纯水供应部ws可以替换为清洗液供应部，也可以省略前驱气体供应部os以及处理气体产生部og。
158.图13的实施例除了向超纯水以及清洗液提供微细尺寸的泡沫外，与图1至图5的实施例实质上相同或相似，因此以下省略重复说明。
159.图14是根据又另一实施例的蒸镀掩模清洗装置1的截面图。
160.参照图14，图14的实施例与图5的实施例不同，主要的不同点在于向处理水缸bth_ow的处理水中可以依次或同时提供具有彼此不同尺寸的彼此不同种类的泡沫。
161.基于泡沫尺寸的泡沫种类以及泡沫的产生方法与参照图1至图5上述的相同。
162.泡沫产生部mbg也可以选择性地应用在图5中示例的各种方式中的任一种而生成具有比较均匀尺寸的一种泡沫，也可以同时应用2种以上方式而同时或依次生成具有彼此不同尺寸的多种种类的泡沫。
163.例如，泡沫产生部mbg也可以仅生成上述的大泡沫、微泡沫、亚微泡沫以及纳米超细泡沫中的任一种类的泡沫，也可以同时或依次生成2种以上种类的泡沫。在这种情况下，大泡沫以及微泡沫可以通过上述加压方式、剪切方式或者剪切旋转方式等生成，亚微泡沫以及纳米超细泡沫可以通过所述减压方式、空化方式以及气液混合方式等生成。包括如上述那样的泡沫尺寸的选择及/或泡沫生成方式的选择的泡沫产生部mbg的整体工作可以通过控制部cu控制。
164.在一些实施例中，泡沫产生部mbg也可以还包括改变泡沫的尺寸的泡沫尺寸改变
部或泡沫尺寸改变装置。例如，所述泡沫尺寸改变部可以通过在图5中示例的各种泡沫产生方式以及用于实现其的装置的组合实现，但是不限于此。
165.控制部cu可以根据预设模式控制泡沫产生部生成预设尺寸的泡沫。所述预设模式可以包括将均匀尺寸的泡沫供应于处理槽bth_ow_1内的单一模式以及将彼此不同尺寸的泡沫供应于处理槽bth_ow_1内的混合模式。
166.在混合模式的情况下，控制部cu可以控制泡沫产生部mbg在预设时间期间生成2种以上种类的泡沫。泡沫的种类及/或泡沫的尺寸可以进行各种改变。例如，控制部cu可以控制泡沫产生部mbg在预设时间期间同时生成第一尺寸的第一泡沫以及与第一尺寸不同的第二尺寸的第二泡沫。进而，控制部cu可以控制泡沫产生部mbg在预设时间期间同时生成与第一尺寸以及第二尺寸不同的第三尺寸的第三泡沫。在这种情况下，所述第一泡沫、第二泡沫以及第三泡沫可以是大泡沫、微泡沫、亚微泡沫以及纳米超细泡沫中的任一个，但是不限于此。举出又另一例，控制部cu可以控制泡沫产生部mbg在第一预设时间期间生成第一泡沫后，在与所述第一预设时间不同的第二预设时间期间生成第二泡沫。进而，控制部cu可以控制泡沫产生部mbg在生成第二泡沫后，在第三预设时间期间生成第三泡沫。即，具有各种尺寸的泡沫可以依次或同时供应于处理槽bth_ow_1内。通过此，能够优化蒸镀掩模msk的清洗。
167.图14的实施例除了泡沫尺寸的控制外，与图1至图5的实施例实质上相同或相似，因此以下省略重复说明。
168.以上，参照所附的附图说明了本发明的实施例，但是在本发明所属技术领域中具有通常知识的人可以理解能够不变更本发明的其技术构思或必要特性地以其它具体形式实施。因此，应该理解为以上叙述的实施例在所有方面是示例性的而不是限定性的。