用于体布拉格光栅的硫代磷酸酯和硫化膦衍生单体及聚合物的制作方法

技术特征：
1.一种式i的化合物：其中在式i中：x为o、s或se；ar在每次独立出现时为任选被取代的芳基取代基；r在每次独立出现时为氢或取代基，所述取代基包含一个或多个选自以下的基团：任选被取代的烷基、任选被取代的杂烷基、任选被取代的烯基、任选被取代的炔基、任选被取代的环烷基、任选被取代的杂环烷基、任选被取代的芳基、任选被取代的芳基烷基、任选被取代的杂芳基、任选被取代的杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、任选被取代的环氧化物、任选被取代的缩水甘油基、任选被取代的丙烯酸酯、任选被取代的甲基丙烯酸酯、-or
a
、-sr
a
、-oc(o)-r
a
、-n(r
a
)2、-c(o)r
a
、-c(o)or
a
、-c(o)sr
a
、-sc(o)r
a
、-oc(o)or
a
、-oc(o)n(r
a
)2、-c(o)n(r
a
)2、-n(r
a
)c(o)or
a
、-n(r
a
)c(o)r
a
、-n(r
a
)c(o)n(r
a
)2、-n(r
a
)c(nr
a
)n(r
a
)2、-n(r
a
)s(o)
t
r
a
、-s(o)
t
r
a
、-s(o)
t
or
a
、-s(o)
t
n(r
a
)2、-s(o)
t
n(r
a
)c(o)r
a
、-o(o)p(or
a
)2和-o(s)p(or
a
)2；n在每次出现时独立地为0至7的整数；t为1或2；r
a
在每次出现时独立地选自氢、任选被取代的烷基、任选被取代的杂烷基、任选被取代的烯基、任选被取代的炔基、任选被取代的环烷基、任选被取代的杂环烷基、任选被取代的芳基、任选被取代的芳基烷基、任选被取代的杂芳基和任选被取代的杂芳基烷基；和其中所述式i的化合物包含至少一个r取代基，所述r取代基包含至少一个可聚合或可交联基团。2.根据权利要求1所述的化合物，其中所述取代基包含：i.一个或多个选自以下的连接基团：-(ch2)
p-、被取代的-c
1-10
烷基-、1,2二取代苯基、1,3二取代苯基、1,4二取代苯基、二取代缩水甘油基、三取代缩水甘油基、-ch＝ch-、-c≡c-、-o-、-s-、-s(o)
2-、-c(o)-、-c(o)o-、-oc(o)-、-oc(o)o-、-nh-、-c(o)nh-、-nhc(o)-、-oc(o)nh-、-nhc(o)o-、-sc(o)nh-、-nhc(o)s-、-nhc(o)nh-、-nhc(nh)nh-、-nhs(o)
2-、-s(o)2nh-、-s(o)2o-、-os(o)
2-、-os(o)o-、(o)p(o-)3和(s)p(o-)3，其中p为1至12的整数；和/或ii.一个或多个选自以下的末端基团：氢、任选被取代的烷基、任选被取代的杂烷基、任选被取代的烯基、任选被取代的炔基、任选被取代的环烷基、任选被取代的杂环烷基、任选被取代的芳基、任选被取代的芳基烷基、任选被取代的杂芳基、任选被取代的杂芳基烷基、任选被取代的丙烯酸酯、任选被取代的甲基丙烯酸酯、任选被取代的苯乙烯、任选被取代的环氧化物、任选被取代的环硫乙烷、任选被取代的缩水甘油基、任选被取代的内酯、任选被取代的碳酸酯、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基和三甲基硅烷基；和/或iii.一个或多个选自以下的末端基团：烯基、环烯基、任选被取代的芳基和任选被取代
的杂芳基；和/或iv.一个或多个选自以下的末端基团：任选被取代的丙烯酸酯、任选被取代的甲基丙烯酸酯、任选被取代的乙烯基、任选被取代的环氧化物、任选被取代的环硫乙烷、任选被取代的缩水甘油基和任选被取代的烯丙基。3.根据权利要求1或权利要求2所述的化合物，其中所述可聚合或可交联基团选自任选被取代的烯基、任选被取代的环烯基、任选被取代的炔基、任选被取代的丙烯酸酯、任选被取代的甲基丙烯酸酯、任选被取代的苯乙烯、任选被取代的环氧化物、任选被取代的环硫乙烷、任选被取代的缩水甘油基、任选被取代的内酯、任选被取代的内酰胺和任选被取代的碳酸酯。4.根据权利要求1、权利要求2或权利要求3所述的化合物，其中ar选自被取代的苯基、被取代的苯基、被取代的萘基、被取代的蒽基、被取代的菲基、被取代的非那烯基、被取代的并四苯基、被取代的基、被取代的三亚苯基和被取代的芘基。5.根据前述权利要求中任一项所述的化合物，所述化合物具有式10：6.根据前述权利要求中任一项所述的化合物，其中n在每次独立出现时为0、1、2、3、4或5。7.根据权利要求1至4中任一项所述的化合物，其中所述化合物具有式100：8.根据前述权利要求中任一项所述的化合物，其中所述取代基包含：i.一个或多个选自以下的基团：-me、-ome、-oph、-sme、-sph、-f、-cl、-br和-i；ii.一个或多个选自以下的基团：ii.一个或多个选自以下的基团：iii.一个或多个选自以下的基团：
iv.一个或多个选自以下的基团：iv.一个或多个选自以下的基团：iv.一个或多个选自以下的基团：和/或v.一个或多个选自以下的基团：v.一个或多个选自以下的基团：
9.根据前述权利要求中任一项所述的化合物，其中所述化合物包含一个或多个选自以下的基团：
10.根据前述权利要求中任一项所述的化合物，其中x为s。11.根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物具有式1000至1007中的任一个：
12.一种用于写入体布拉格光栅的记录材料，所述材料包含树脂混合物，所述树脂混合物包含第一聚合物前体，所述第一聚合物前体包含根据前述权利要求中任一项所述的化合物，其中所述第一聚合物前体被部分地或完全地聚合或交联。13.一种记录在根据权利要求12所述的记录材料上的体布拉格光栅，其中所述光栅通过等于或大于1的q参数来表征，其中并且其中λ0为记录波长，d为所述记录材料的厚度，n0为所述记录材料的折射率，且λ为光栅常数。

技术总结
本公开提供了用于体布拉格光栅中的包含硫代磷酸酯衍生单体和聚合物的记录材料，所述体布拉格光栅包括但不限于用于全息术应用的体布拉格光栅。公开了用于布拉格光栅应用中的硫代磷酸酯衍生单体和聚合物的若干结构，从而产生具有更高折射率、低双折射和高透明度的材料。所公开的硫代磷酸酯衍生单体及其聚合物可用于任何体布拉格光栅材料中，包括两级聚合物材料，其中在第一步中固化基质，然后通过第二单体固化步骤写入体布拉格光栅。单体固化步骤写入体布拉格光栅。单体固化步骤写入体布拉格光栅。


技术研发人员：A
受保护的技术使用者：脸谱科技有限责任公司
技术研发日：2020.11.25
技术公布日：2022/7/10