掩模对准装置及光刻设备的制作方法

1.本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种掩模对准装置及光刻设备。


背景技术：

2.在光刻设备中，通过使用掩模对准装置中的对准标记进行对准扫描以得到对准信息，对这些信息进行相应处理，得到掩模版和工件台的位置关系，实现掩模版和工件台的对准，该光刻设备的掩模对准装置包括：照明组件、照射窗口及其控制板、掩模版及其掩模对准标记、掩模台、掩模台位置探测器、投影组件、基准板及其基准参考标记、工件台位置探测器、光子晶体转换元件和辐射探测器；照射窗口及其控制板用于形成窗口以将辐射光线透射到掩模对准标记上形成透射像或反射像，该透射像或反射像通过投影组件投射形成空间像，空间像透射过基准参考标记后形成辐射光斑，辐射光斑的能量被光子晶体转换元件吸收后激发出可见光，最终被辐射探测器接收。掩模台位置探测器和工件台位置探测器分别探测对准扫描过程中的掩模台和工件台的空间位置，最后结合辐射探测器收集的辐射能量按照一定的模型计算得到对准位置，该对准位置即掩模版与工件台之间的位置关系。
3.由于光子晶体转换元件的尺寸有限，当投影组件的数值孔径过大或掩模对准标记具有至少两组光栅且相邻光栅之间的间距过大时，辐射光斑的发散角过大，导致辐射光斑的一部分经过光子晶体转换元件的长度不足，能量转化率较低，导致辐射光斑的这部分能量不能被探测到，能量缺失会影响对准精度。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种掩模对准装置及光刻设备，提升辐射光斑的能量转化率，消除了辐射光斑能量缺失的问题。
5.为了达到上述目的，本发明提供了一种掩模对准装置，用于实现掩模版和工件台的对准，包括：
6.照明组件，用于发出辐射光线照射位于所述掩模版上的掩模对准标记；
7.投影组件，用于将所述掩模对准标记投影成空间像；
8.基准板，位于所述工件台上，用于承载基准参考标记；
9.图像探测组件，包括汇聚镜组、光子晶体转换元件及辐射探测器，所述汇聚镜组将空间像透过所述基准参考标记后形成的辐射光斑汇聚至所述光子晶体转换元件中，所述辐射探测器探测所述辐射光斑透过所述光子晶体转换元件后的辐射信息。
10.可选的，所述掩模对准标记及所述基准参考标记均包括至少两组光栅，所述掩模对准标记的每组光栅沿预定方向上的间距均为d
11
，所述基准参考标记的相邻光栅沿所述预定方向上的间距依次为d
21
…d2n
，且满足如下关系：
[0011][0012]
其中，d为大于0的常数，m为所述投影组件的投影倍率，n为所述基准参考标记的相邻光栅之间的间距的序号，n的取值为1～n-1，n为所述基准参考标记中的光栅的组数，且n为大于或等于2的整数，δd为所述空间像投影至所述基准板上后沿所述预定方向的宽度。
[0013]
可选的，所述汇聚镜组为一汇聚镜片。
[0014]
可选的，所述汇聚镜片为凸透镜、菲涅尔透镜或微透镜阵列。
[0015]
可选的，所述汇聚镜片的直径d满足如下关系：
[0016][0017]
其中，l为所述基准参考标记中的每组光栅沿所述预定方向的宽度，z1为所述基准板与所述光子晶体转换元件之间的距离，θ为所述辐射光斑的发散角。
[0018]
可选的，当所述汇聚镜片为凸透镜或菲涅尔透镜时，所述汇聚镜片的焦距f满足如下关系：
[0019][0020]
其中，l为所述基准参考标记中的每组光栅沿所述预定方向的宽度，z1为所述基准板与所述光子晶体转换元件之间的距离，θ为所述辐射光斑的发散角。
[0021]
可选的，当所述汇聚镜片为微透镜阵列时，所述汇聚镜片的焦距f满足如下关系：
[0022][0023]
其中，l为所述基准参考标记中的每组光栅沿所述预定方向的宽度，z1为所述基准板与所述光子晶体转换元件之间的距离，θ为所述辐射光斑的发散角，i为所述微透镜阵列沿垂直于所述预定方向的微透镜的数量。
[0024]
可选的，所述汇聚镜片为一三棱镜。
[0025]
可选的，所述三棱镜沿所述预定方向上的宽度width1和沿垂直于所述预定方向上的宽度width2满足如下关系：
[0026][0027]
width2≥w 2z1tanθ；
[0028]
其中，l为所述基准参考标记中的每组光栅沿所述预定方向的宽度，z1为所述基准板与所述光子晶体转换元件之间的距离，θ为所述辐射光斑的发散角，w为所述基准参考标
记中的每组光栅沿垂直于所述预定方向上的宽度。
[0029]
可选的，所述三棱镜的顶角α满足如下关系：
[0030][0031]
其中，θ为所述辐射光斑的发散角，n0为所述三棱镜的折射率。
[0032]
可选的，所述辐射光斑之间不重叠，所述汇聚镜组包括至少两个汇聚镜片，一个所述汇聚镜片对应所述基准参考标记的一组光栅。
[0033]
可选的，所述汇聚镜片为凸透镜、菲涅尔透镜或微透镜阵列。
[0034]
本发明还提供了一种光刻设备，包括所述的掩模对准装置。
[0035]
在本发明提供的掩模对准装置及光刻设备中，在基准板和光子晶体转换元件之间设置汇聚镜组，汇聚镜组可将空间像透过基准参考标记后形成的辐射光斑汇聚至光子晶体转换元件中，并被辐射探测器探测到，相当于将辐射光斑的光线偏折进光子晶体转换元件中，延长辐射光斑的部分光线经过所述光子晶体转换元件的长度，避免了辐射光斑的能量损失，提升了光子晶体转换元件的能量转化率，进而提高的对准精度。
附图说明
[0036]
图1为本发明实施例一提供的掩模对准装置的结构示意图；
[0037]
图2a为本发明实施例一提供的掩模对准标记及其空间像的结构示意图；
[0038]
图2b为本发明实施例一提供的基准参考标记的结构示意图；
[0039]
图3为本发明实施例一提供的汇聚镜片的结构示意图；
[0040]
图4为本发明实施例二提供的汇聚镜片的示意图；
[0041]
图5a为本发明实施例三提供的掩模对准标记及其空间像的示意图；
[0042]
图5b为本发明实施例三提供的基准参考标记的示意图；
[0043]
图6为本发明实施例四提供的汇聚镜片的示意图；
[0044]
图7为本发明实施例五提供的汇聚镜片的示意图；
[0045]
图8为本发明实施例六提供的汇聚镜片的示意图；
[0046]
其中，附图标记为：
[0047]
1-照明组件；21-照射窗口；22-控制板；3-掩模组件；31-掩模台；32-掩模版；321-掩模对准标记；33-第一位置探测器；4-投影组件；5-工件台组件；51-工件台；52-基准板；521-基准参考标记；53-第二位置探测器；6-图像探测组件；61-汇聚镜组；611-凸透镜；612-三棱镜；613-菲涅尔透镜；614-微透镜阵列；615-第一凸透镜；616-第二凸透镜；62-辐射探测器；63-光子晶体转换元件；
[0048]
321a、321b-掩模对准标记的两组光栅；
[0049]
521a、521b-基准参考标记的两组光栅；
[0050]
322-空间像；322a、322b-光栅321a及光栅321b形成的空间像。
具体实施方式
[0051]
下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准
的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
[0052]
图1是本实施例提供的掩模对准装置的结构示意图。如图1所示，本实施例提供了一种光刻设备及所述光刻设备包含的掩模对准装置，所述掩模对准装置从上自下依次为照明组件1、控制板22、掩模组件3、投影组件4及工件台组件5及图像探测组件6。
[0053]
所述照明组件1作为光源，用于向整个所述掩模对准装置提供辐射光线(通常可以是紫外光线)，所述控制板22上具有一个照射窗口21，所述控制板22移动时，所述照射窗口21的位置随之改变，所述照射窗口21及所述控制板22可以用于形成窗口将所述照明组件1提供的辐射光线透射至所述掩模组件3的设定位置处。所述掩模组件3包括掩模台31、掩模版32及第一位置探测器33，所述掩模版32及所述第一位置探测器33均设置于所述掩模台31上且能够随着所述掩模台31移动，所述掩模版32上设置有掩模对准标记321，所述第一位置探测器33用于探测所述掩模台31的空间位置信息。所述投影组件4可以包括一投影物镜，所述投影物镜的投影倍率为m。所述工件台组件5包括工件台51、基准板52及第二位置探测器53，所述基准板52及所述第二位置探测器53均设置于所述工件台51上且能够随着所述工件台51移动，所述基准板52上设置有基准参考标记521，所述第二位置探测器53用于探测所述工件台51的空间位置信息。所述图像探测组件6包括汇聚镜组61、辐射探测器62及光子晶体转换元件63，所述汇聚镜组61、所述辐射探测器62及所述光子晶体转换元件63均设置于所述工件台51上且能够随着所述工件台51移动，所述汇聚镜组61位于所述基准参考标记521的下方，所述光子晶体转换元件63位于所述汇聚镜组61的下方，所述辐射探测器62位于所述光子晶体转换元件63的下方。
[0054]
进一步，所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521均包括至少一组光栅；所述照射窗口21及所述控制板3将所述辐射光线透射到所述掩模对准标记321上，以形成透射像；所述投影组件4将该透射像投影至所述基准板52的表面以形成至少一个空间像；所述空间像透过所述基准参考标记521后形成辐射光斑；所述辐射光斑透射至所述汇聚镜组61中，所述汇聚镜组61将所述空间像透过所述基准参考标记521产生的辐射光斑汇聚至所述光子晶体转换元件63中，所述光子晶体转换元件63吸收所述辐射光斑的能量后激发出能够被所述辐射探测器62探测到的可见光，所述辐射探测器62获取所述可见光的辐射信息从而探测到所述空间像，所述第一位置探测器33及所述第二位置探测器53分别探测对准扫描过程中所述掩模台31及所述工件台57的空间位置信息。
[0055]
所述掩模对准装置还包括一计算组件(未示出)，所述计算组件根据所述辐射探测器62探测到的辐射信息与所述第一位置探测器33及所述第二位置探测器53分别探测到的空间位置信息可以计算出多个粗掩模对准位置，然后根据多个粗掩模对准位置可以得到精度更高的精掩模对准位置，可以理解的是，这里的掩模对准位置指的是所述掩模版32上的所述掩模对准标记321与所述基准板52上的所述基准参考标记521之间的位置关系。
[0056]
可以理解的，所述辐射探测器62探测到的辐射信息可以是辐射振幅信息、辐射能量信息、辐射相位信息中的任一种；当然，所述辐射信息也可以是辐射振幅信息或辐射能量信息中的一种与辐射相位信息的组合。
[0057]
实施例一
[0058]
本实施例以所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521均包括两组光栅进行举例说明。图2a为本实施例提供的掩模对准标记及其空间像的结构示意图，图2b为本实施
例提供的基准参考标记的结构示意图。如图2a所示，所述掩模对准标记321包括两组光栅，分别为光栅321a及光栅321b，所述光栅321a及所述光栅321b沿x方向上的间距为d
11
，其中，d
11
＝d，d为大于0的常数。所述投影组件4将所述掩模对准标记321的透射像投影至所述基准板52的表面以形成两个互不重叠的空间像，分别为空间像322a及空间像322b，其中，所述空间像322a是所述光栅321a产生的空间像，所述空间像322b是所述光栅321b产生的空间像，由于所述投影组件4的投影倍率为m，所述空间像322a及所述空间像322b分别是所述光栅321a、321b的等比例缩小，所以空间像322a及所述空间像322b投影至所述基准板52上后沿x方向上的间距为md。
[0059]
如图2b所示，所述基准参考标记521也包括两组光栅，分别为光栅521a及光栅521b，所述光栅521a及所述521b沿x方向上的间距d
21
＞md 1
·
δd，其中，δd为所述空间像322a或所述空间像322b投影至所述基准板52上后沿x方向上的宽度。在对准扫描的过程中，所述工件台51沿着x方向移动，所述空间像322b与所述光栅521a对准时，所述辐射探测器62首先探测到所述空间像322b并出现光强的第一个峰值，随着所述工件台51的移动，所述空间像322a与所述光栅521b对准时，所述辐射探测器62再探测到所述空间像322a并出现光强的第二个峰值。通过所述辐射探测器62探测到的辐射信息和所述第一位置探测器33和第二位置探测器53探测到的掩模台31及所述工件台51的位置信息可以获得多个粗掩模对准位置，即所述空间像321a及所述空间像321b均可以对应一个粗掩模对准位置，然后根据两个粗掩模对准位置计算得出一个精度更高的精掩模对准位置。
[0060]
可以理解的是，在所述工件台51移动时，为了防止所述辐射探测器62探测到的所述空间像322a及所述空间像322b产生重叠串扰(在所述空间像322b与所述光栅521a对准时，所述空间像322a与所述光栅521b也对准)，所以d
21
＞md 1
·
δd。
[0061]
进一步，图2a和图2b仅示出了所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521均为一组的情况，用于实现x方向的对准。在本发明其他实施例中，所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521例如可以是两组，一组用于实现x方向的对准，另一组用于实现y方向的对准。当所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521为多组时，一组所述掩模对准标记321与一组所述基准参考标记521的位置对应，相对应的一组所述掩模对准标记321和所述基准参考标记521中光栅的延伸方向相同。
[0062]
如图2a和图2b所示，所述掩模对准标记321的每组光栅及所述基准参考标记521的每组光栅均包括3个细小栅，所述掩模对准标记321中细小栅沿x方向上的间距与所述基准参考标记521中细小栅沿x方向上的间距相对应，即所述掩模对准标记321形成的所述空间像322a及所述空间像322b中各细小栅沿x方向上的间距需要与所述基准参考标记521中各细小栅沿x方向上的间距相等，以便于对准。本实施例中，所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521中的光栅的组数是相等的，且所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521中每组光栅包括的细小栅的数量也相等，但应理解，所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521中光栅的组数及每组光栅包括的细小栅的数量实际上也是可以不相等的。
[0063]
本实施例中，所述汇聚镜组61为一汇聚镜片，图3为本实施例提供的汇聚镜片的示意图。结合图1及图3所示，本实施例中，所述汇聚镜片是一凸透镜611，所述凸透镜611具有汇聚光线的作用，所述空间像透过所述光栅521a或所述光栅521b之后，形成辐射光斑，所述辐射光斑具有一定的发散角θ。所述辐射光斑入射至所述凸透镜611中，所述凸透镜611将所
述辐射光斑汇聚至所述光子晶体转换元件63中，相当于将所述辐射光斑的部分光线(图3中的虚线箭头部分)偏折进所述光子晶体转换元件63中，延长所述辐射光斑的部分光线经过所述光子晶体转换元件63的长度，避免了所述辐射光斑的能量损失，提升了所述光子晶体转换元件63的能量转化率，进而提高的对准精度。
[0064]
进一步地，为了保证所述凸透镜611能够汇聚所述辐射光斑的全部光线，所述凸透镜611的直径优选大于所述辐射光斑的直径，本实施例中，所述凸透镜611的直径d满足如下关系：
[0065]
d≥d
21
2l 2z1tanθ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0066]
其中，l为所述光栅521a或所述光栅521b沿x方向的宽度，z1为所述基准板52与所述光子晶体转换元件63之间的距离。
[0067]
进一步地，所述凸透镜611的焦距越大，汇聚光线的能力越弱，为了保证所述凸透镜611能够将所述辐射光斑最外侧的光线偏折后沿z方向出射，利用几何知识可得，此时，d/2＝f
·
tanθ。由于所述辐射光斑的发散角θ与所述投影物镜的数值孔径相关，上式实际上体现了所述凸透镜611的数值孔径应不小于所述投影物镜的数值孔径。
[0068]
可选的，所述凸透镜611将所述辐射光斑最外侧的光线偏折后也可以倾斜出射，但优选所述辐射光斑最外侧的光线在所述光子晶体转换元件63中的光程大于所述光子晶体转换元件63的厚度z2，所述凸透镜611的数值孔径优选大于或等于所述投影组件4的数值孔径。
[0069]
可见，所述凸透镜611的焦距f满足如下关系：
[0070][0071]
实施例二
[0072]
图4为本实施例提供的汇聚镜片的示意图。结合图1及图4所示，与实施例一的区别在于，本实施例中，所述汇聚镜片是一三棱镜612。本实施例中，所述三棱镜612沿z向的截面为等腰三角形，所述等腰三角形的底边与所述光子晶体转换元件63的上表面平行，从而实现汇聚光线的作用。
[0073]
进一步地，为了保证所述三棱镜612能够汇聚所述辐射光斑的全部光线，所述三棱镜612沿x方向的宽度width1及沿y方向上的宽度width2满足如下关系：
[0074]
width1≥d
21
2l 2z1tanθ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3)
[0075]
width2≥w 2z1tanθ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(4)
[0076]
其中，l为所述光栅521a或所述光栅521b沿x方向的宽度，z1为所述基准板52与所述光子晶体转换元件63之间的距离，w为所述光栅521a或所述光栅521b沿y方向上的宽度，θ为所述辐射光斑的发散角。
[0077]
进一步地，所述三棱镜612的顶角α越小，汇聚光线的能力越弱，为了保证所述三棱镜612能够将所述辐射光斑最外侧的光线偏折后沿z方向出射，利用折射定律可以得到nsinα＝sin(θ α)，即：所述三棱镜612的顶角α满足如下关系：
[0078][0079]
其中，n0为所述三棱镜612的折射率。
[0080]
例如，当所述三棱镜612由玻璃制成时，n0等于1.5，由于所述辐射光斑的发散角θ与所述投影物镜的数值孔径相关，取所述投影物镜的数值孔径为0.667，则α＝41.5
°
[0081]
实施例三
[0082]
图5a为本实施例提供的掩模对准标记及其空间像的示意图，图5b为实施例提供的基准参考标记的示意图。结合图1、图5a及图5b所示，与实施例一及实施例二的区别在于，本实施例中，所述掩模对准标记321及所述基准参考标记521均包括两组以上的光栅，例如是n组(n大于或等于3)。如图5a所示，所述掩模对准标记321中每组光栅沿x方向上的间距均为d
11
＝d，其被所述投影组件4投影以后形成n个空间像322，每个所述空间像沿x方向上的间距为md。图5b中，所述基准参考标记521也包括n组光栅，每组光栅沿x方向上的间距依次为d
21
、d
22
…d2n
，且满足如下关系：d
21
＞md 1
·
δd、d
22
＞md 2
·
δd
…d2n
＞md n
·
δd，由于本实施例中每个空间像的尺寸都相等，所以δd为任一所述空间像沿x方向的宽度，以防止所述辐射探测器62在探测多个空间像时产生信号串扰。
[0083]
在对准扫描的过程中，所述工件台51沿着光栅的延伸方向移动，在对准扫描过程中，当第一个空间像与所述基准参考标记521的第一组光栅对准时，所述辐射探测器62首先探测到第一个空间像并出现光强的第一个峰值，随着所述工件台51的移动，第二个空间像与第二组光栅对准时，所述辐射探测器62再探测到所述第二个空间像并出现光强的第二个峰值
…
直至所述辐射探测器62探测到n个空间像的辐射信息。然后通过所述辐射探测器62探测到的辐射信息和所述第一位置探测器33和第二位置探测器53探测到的掩模台31及所述工件台51的空间位置信息可以获得对应n个空间像的n个粗掩模对准位置，然后根据n个粗掩模对准位置计算得出一个精度更高的精掩模对准位置。
[0084]
进一步地，在本实施例中，当所述汇聚镜片为凸透镜时，所述凸透镜的直径d及焦距f满足如下关系：
[0085][0086][0087]
其中，l为所述基准参考标记521中的每组光栅沿x方向的宽度，z1为所述基准板52与所述光子晶体转换元件63之间的距离，θ为所述辐射光斑的发散角。
[0088]
当所述汇聚镜片为三棱镜时，所述三棱镜沿x方向的宽度width1、沿y方向上的宽度width2、及顶角α满足如下关系：
[0089][0090]
width2≥w 2z1tanθ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(9)
[0091][0092]
其中，w为所述基准参考标记中的每组光栅沿y方向上的宽度，n0为所述三棱镜的折射率。
[0093]
实施例四
[0094]
图6为本实施例提供的汇聚镜片的示意图。如图6所示，与实施例一及实施例二的
区别在于，本实施例中，所述汇聚镜片是一菲涅尔透镜613，相较于凸透镜来说，在直径和焦距相等的情况下，所述菲涅尔透镜613厚度可以更薄且制备成本更低。
[0095]
应理解，所述菲涅尔透镜613的直径及焦距也分别满足公式(1)/(6)和公式(2)/(7)。
[0096]
实施例五
[0097]
图7为本实施例提供的汇聚镜片的示意图。如图7所示，与实施例一、实施例二及实施例四的区别在于，本实施例中，所述汇聚镜片是一微透镜阵列614，相较于凸透镜来说，所述微透镜阵列614具有单元尺寸小、集成度高的优点。
[0098]
应理解，所述微透镜阵列614的直径满足公式(1)/(6)。
[0099]
进一步地，所述微透镜阵列614的焦距越大，汇聚光线的能力越弱，为了保证所述微透镜阵列614能够将所述辐射光斑最外侧的光线偏折后沿z方向出射，利用几何知识可得，此时，d/2i＝f
·
tanθ，i为所述微透镜阵列614沿x方向上的微透镜的数量。即，所述微透镜阵列614的焦距f需满足如下关系：
[0100][0101]
实施例六
[0102]
图8为本实施例提供的汇聚镜片的示意图。如图1及图8所示，与实施例一、实施例二、实施例四及实施例五的区别在于，本实施例中，所述汇聚镜组61包括至少两个汇聚镜片。本实施例中，将以所述汇聚镜组61包括两个汇聚镜片且汇聚镜片为凸透镜为例进行说明。
[0103]
结合图2a及图2b所示，当所述光栅321a、321b沿x方向上的间距为d
11
较大时，所述空间像透过所述光栅521a或所述光栅521b之后产生的辐射光斑之间不重叠，此时，所述汇聚镜组61具有两个汇聚镜片，分别为第一凸透镜615和第二凸透镜616，所述第一凸透镜615与所述光栅521a对应且位于所述光栅521a下方，所述第二凸透镜616与所述光栅521b对应且位于所述光栅521a下方。所述第一凸透镜615和所述第二凸透镜616共同将所述辐射光斑汇聚至所述光子晶体转换元件63中。
[0104]
当然，本实施例中，所述第一凸透镜615和第二凸透镜616也可以替换为三棱镜、菲涅尔透镜或微透镜阵列。
[0105]
本实施例中，由于所述汇聚镜组61包括至少两个汇聚镜片，在尺寸相等的情况下，单个汇聚镜片的尺寸更小，易于加工和安装，降低制备所述汇聚镜片的工艺要求。
[0106]
应理解，本实施例中虽然列举了所述汇聚镜组的几种实施例，然而，所述汇聚镜组并不限于上述几种实施例，只要能够起到汇聚光线的作用的镜组均在本发明保护的范围之内。
[0107]
综上，在本实施例提供的掩模对准装置及光刻设备中，在基准板和光子晶体转换元件之间设置汇聚镜组，汇聚镜组可将空间像透过基准参考标记后形成的辐射光斑汇聚至光子晶体转换元件中，并被辐射探测器探测到，相当于将辐射光斑的光线偏折进光子晶体转换元件中，延长辐射光斑的部分光线经过所述光子晶体转换元件的长度，避免了辐射光斑的能量损失，提升了光子晶体转换元件的能量转化率，进而提高的对准精度。
[0108]
上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。