磁体研磨生产线的制作方法

1.本实用新型涉及磁体生产制造技术领域，具体而言，涉及一种磁体研磨生产线。


背景技术：

2.生产钕铁硼磁体的主要工序有压制、烧结、研磨、检分等。在对一种磁体的研磨工序中，需要对该磁体的6个面及4个倒角进行研磨，并且对每个面或倒角的研磨都需要经过粗磨和精磨，对一个磁体进行研磨总共需要15道工序。
3.目前行业内大多采用单机、一人上料、一人下料的生产模式，这样，共需要30人才能完成全部工序的研磨工作，用工量非常大。


技术实现要素：

4.本实用新型的主要目的在于提供一种磁体研磨生产线，能够降低用工量。
5.为了实现上述目的，本实用新型提供了一种磁体研磨生产线，包括：粗磨设备，用于对磁体进行粗磨；精磨设备，用于对磁体进行精磨，粗磨设备和精磨设备依次设置；输送设备，粗磨设备设置在输送设备的一侧，且部分粗磨设备位于输送设备的上方，精磨设备设置在输送设备的一侧，且部分精磨设备位于输送设备的上方，输送设备用于将经过粗磨设备粗磨后的磁体输送至精磨设备，以进行精磨。
6.进一步地，粗磨设备包括第一粗磨装置，第一粗磨装置包括第一粗磨本体和设置在第一粗磨本体上的两个第一粗磨件，两个第一粗磨件相对设置，两个第一粗磨件均相对于第一粗磨本体可转动，且两个第一粗磨件的转动轴线的延伸方向均垂直于磁体的输送方向，两个第一粗磨件分别用于对磁体的相对设置的第一侧面和第二侧面进行粗磨。
7.进一步地，粗磨设备还包括第二粗磨装置，沿磁体的输送方向，第一粗磨装置和第二粗磨装置依次设置；磁体研磨生产线还包括第一翻转结构，第一翻转结构位于第一粗磨装置和第二粗磨装置之间，第一翻转结构设置在第一粗磨装置或第二粗磨装置上；第一翻转结构用于对经过第一粗磨装置粗磨后的磁体进行翻转，以使第二粗磨装置能够对磁体的相对设置的第三侧面和第四侧面进行粗磨，其中，磁体的第三侧面与磁体的第一侧面相邻设置，磁体的第四侧面与磁体的第二侧面相邻设置。
8.进一步地，第一翻转结构包括翻转结构本体、设置在翻转结构本体上的入口和设置在翻转结构本体上的出口，翻转结构本体具有过渡腔，入口和出口分别设置在翻转结构本体的相对两端且均与过渡腔连通，其中，过渡腔为螺旋状腔体，以使入口的延伸方向与出口的延伸方向之间具有夹角；和/或，输送设备包括依次设置的第一输送装置和第二输送装置，第一输送装置与第一粗磨装置对应设置，第二输送装置与第二粗磨装置对应设置，第一输送装置用于将经过第一粗磨装置粗磨后的磁体输送至第二输送装置。
9.进一步地，粗磨设备还包括第三粗磨装置，沿磁体的输送方向，第二粗磨装置和第三粗磨装置依次设置；磁体研磨生产线还包括第二翻转结构，第二翻转结构位于第二粗磨装置和第三粗磨装置之间，第二翻转结构设置在第二粗磨装置或第三粗磨装置上；第二翻
转结构用于对经过第二粗磨装置粗磨后的磁体进行翻转，以使第三粗磨装置能够对磁体的相对设置的第五侧面和第六侧面进行粗磨，其中，磁体的第五侧面与磁体的第一侧面和第三侧面均相邻设置，磁体的第六侧面与磁体的第二侧面和第四侧面均相邻设置。
10.进一步地，第二翻转结构为块状结构，第二翻转结构具有斜面，至少部分第二翻转结构位于输送设备的上方，且第二翻转结构的延伸方向与磁体的输送方向之间具有夹角，斜面位于第二翻转结构的靠近第二粗磨装置的一侧，斜面沿磁体的输送方向倾斜设置，斜面能够与磁体抵接，以翻转磁体；和/或，输送设备还包括依次设置的第二输送装置和第三输送装置，第二输送装置与第二粗磨装置对应设置，第三输送装置与第三粗磨装置对应设置，第二输送装置用于将经过第二粗磨装置粗磨后的磁体输送至第三输送装置。
11.进一步地，磁体研磨生产线还包括半精磨设备，半精磨设备位于粗磨设备和精磨设备之间，半精磨设备设置在输送设备的一侧，且部分半精磨设备位于输送设备的上方，半精磨设备用于对磁体进行半精磨。
12.进一步地，半精磨设备包括第一半精磨装置，沿磁体的输送方向，第一半精磨装置位于粗磨设备的下游；第一半精磨装置用于对磁体的第一侧面和第二侧面进行半精磨。
13.进一步地，半精磨设备还包括第二半精磨装置，沿磁体的输送方向，第一半精磨装置和第二半精磨装置依次设置；第一半精磨装置和第二半精磨装置之间设有第三翻转结构，第三翻转结构设置在第一半精磨装置或第二半精磨装置上；第三翻转结构用于对经过第一半精磨装置半精磨后的磁体进行翻转，以使第二半精磨装置能够对磁体的第三侧面和第四侧面进行半精磨。
14.进一步地，精磨设备包括第一精磨装置，磁体研磨生产线还包括第一倒角研磨装置，沿磁体的输送方向，第一精磨装置和第一倒角研磨装置依次设置；第一倒角研磨装置设置在输送设备的一侧，且部分第一倒角研磨装置位于输送设备的上方，第一倒角研磨装置用于对磁体的第五侧面和第四侧面之间的连接位置处以及磁体的第六侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角。
15.进一步地，精磨设备包括第一精磨装置，精磨设备还包括第二精磨装置，沿磁体的输送方向，第一精磨装置和第二精磨装置依次设置；第一精磨装置和第二精磨装置之间设有第四翻转结构，第四翻转结构设置在第一精磨装置或第二精磨装置上；第四翻转结构用于对经过第一精磨装置精磨后的磁体进行翻转，以使第二精磨装置能够对磁体的第一侧面和第二侧面进行第一次精磨。
16.进一步地，精磨设备还包括第三精磨装置，沿磁体的输送方向，第二精磨装置和第三精磨装置依次设置；第三精磨装置用于对经过第一次精磨后的磁体的第一侧面和第二侧面进行第二次精磨。
17.进一步地，磁体研磨生产线还包括第二倒角研磨装置，沿磁体的输送方向，第三精磨装置和第二倒角研磨装置依次设置；第二倒角研磨装置设置在输送设备的一侧，且部分第二倒角研磨装置位于输送设备的上方，第二倒角研磨装置用于对磁体的第一侧面和第四侧面之间的连接位置处以及对磁体的第二侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角；和/或，磁体研磨生产线还包括第三倒角研磨装置，沿磁体的输送方向，第三精磨装置和第三倒角研磨装置依次设置；第三倒角研磨装置设置在输送设备的一侧，且部分第三倒角研磨装置位于输送设备的上方，第三倒角研磨装置用于对磁体的第一侧面和第三侧
面之间的连接位置处以及对磁体的第二侧面和第三侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角。
18.进一步地，磁体研磨生产线还包括弧面研磨装置，沿磁体的输送方向，弧面研磨装置位于精磨设备的下游；弧面研磨装置设置在输送设备的一侧，且部分弧面研磨装置位于输送设备的上方，弧面研磨装置用于对磁体的第三侧面进行研磨，以在磁体的第三侧面形成弧面。
19.进一步地，在弧面研磨装置的作用下，磁体的第三侧面形成多个弧面；磁体研磨生产线还包括弧面倒角研磨装置，沿磁体的输送方向，弧面研磨装置和弧面倒角研磨装置依次设置；弧面倒角研磨装置设置在输送设备的一侧，且部分弧面倒角研磨装置位于输送设备的上方；弧面倒角研磨装置用于对相邻两个弧面之间的连接位置处进行研磨，以形成弧面倒角。
20.进一步地，磁体研磨生产线呈u型布置。
21.应用本实用新型的技术方案，粗磨设备用于对磁体进行粗磨，精磨设备用于对磁体进行精磨，输送设备用于输送磁体。粗磨设备和精磨设备依次设置，通过输送设备能够将经过粗磨设备粗磨后的磁体输送至精磨设备，便于对磁体进行精磨。通过设置输送设备可以将经过粗磨工序后的磁体直接输送至精磨工序，本技术的技术方案无需上料和下料，从而能够降低用工量。
附图说明
22.构成本技术的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
23.图1示出了根据本实用新型的磁体研磨生产线的实施例的结构示意图；
24.图2示出了图1的磁体研磨生产线的第一粗磨装置的部分结构示意图；
25.图3示出了图1的磁体研磨生产线的第二粗磨装置的部分结构示意图；
26.图4示出了图1的磁体研磨生产线的第三粗磨装置的部分结构示意图；
27.图5示出了图1的磁体研磨生产线的第一半精磨装置的部分结构示意图；
28.图6示出了图1的磁体研磨生产线的第二半精磨装置的部分结构示意图；
29.图7示出了图1的磁体研磨生产线的第一精磨装置的部分结构示意图；
30.图8示出了图1的磁体研磨生产线的第一倒角研磨装置的部分结构示意图；
31.图9示出了图1的磁体研磨生产线的第二精磨装置的部分结构示意图；
32.图10示出了图1的磁体研磨生产线的第三精磨装置的部分结构示意图；
33.图11示出了图1的磁体研磨生产线的第二倒角研磨装置的部分结构示意图；
34.图12示出了图1的磁体研磨生产线的第三倒角研磨装置的部分结构示意图；
35.图13示出了图1的磁体研磨生产线的弧面研磨装置的部分结构示意图；
36.图14示出了图1的磁体研磨生产线的弧面倒角研磨装置的部分结构示意图；
37.图15示出了图1的磁体研磨生产线的第二翻转结构和第三输送装置连接的结构示意图；
38.图16示出了图15的另一结构示意图；
39.图17示出了图1的磁体研磨生产线的第一翻转结构的结构示意图；以及
40.图18示出了图17的第一翻转结构的左视图。
41.其中，上述附图包括以下附图标记：
42.10、第一粗磨装置；11、第一粗磨件；20、第二粗磨装置；21、第二粗磨件；30、第一翻转结构；31、翻转结构本体；32、入口；33、出口；40、第三粗磨装置；41、第三粗磨件；50、第二翻转结构；51、斜面；60、第一输送装置；70、第二输送装置；80、第三输送装置；90、第一半精磨装置；91、第一半精磨件；100、第二半精磨装置；101、第二半精磨件；110、第一精磨装置；111、第一精磨件；120、第一倒角研磨装置；121、第一倒角研磨件；130、第二精磨装置；131、第二精磨件；140、第三精磨装置；141、第三精磨件；150、第二倒角研磨装置；151、第二倒角研磨件；160、第三倒角研磨装置；161、第三倒角研磨件；170、弧面研磨装置；171、弧面研磨件；180、弧面倒角研磨装置；181、弧面倒角研磨件；190、第四输送装置；200、磁体；210、第五输送装置；220、第六输送装置；230、第七输送装置；240、第八输送装置；250、第九输送装置；260、第十输送装置；270、第十一输送装置；280、第十二输送装置；290、第十三输送装置。
具体实施方式
43.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
44.需要指出的是，除非另有指明，本技术使用的所有技术和科学术语具有与本技术所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
45.在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。
46.在生产磁体的研磨工序中，目前行业内大多采用单机、一人上料、一人下料的生产模式，这样，需要多人才能完成全部工序的研磨工作，用工量非常大，且无形中增加了中间在库，设备场地占用大。
47.为了解决上述问题，本实用新型及本实用新型的实施例提供了一种磁体研磨生产线。
48.需要说明的是，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线适用于稀土钕铁硼磁体研磨工序，属于稀土钕铁硼磁体生产制造技术领域。
49.如图1所示，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线包括粗磨设备、精磨设备和输送设备，粗磨设备用于对磁体200进行粗磨；精磨设备用于对磁体200进行精磨，粗磨设备和精磨设备依次设置；粗磨设备设置在输送设备的一侧，且部分粗磨设备位于输送设备的上方，精磨设备设置在输送设备的一侧，且部分精磨设备位于输送设备的上方，输送设备用于将经过粗磨设备粗磨后的磁体200输送至精磨设备，以进行精磨。
50.上述设置中，粗磨设备用于对磁体200进行粗磨，精磨设备用于对磁体200进行精磨，输送设备用于输送磁体200。粗磨设备和精磨设备依次设置，通过输送设备能够将经过粗磨设备粗磨后的磁体200输送至精磨设备，便于对磁体200进行精磨。通过设置输送设备可以将经过粗磨工序后的磁体200直接输送至精磨工序，相较于需要人工上料和下料的技
术而言，本技术的技术方案无需上料和下料，从而能够降低用工量。
51.本实用新型的实施例中，通过输送设备直接输送磁体200，提高了机械化和自动化程度，可以避免人工上料和下料的问题，降低员工人数，从而能够降低用工量。
52.现有技术中需要对生产中的磁体进行下料，这就需要一定的场地来存放下料的磁体，在无形中增加了磁体中间在库情况，并会导致设备场地占用大的问题。本技术的技术方案中，输送设备直接将磁体200从粗磨工序输送至精磨工序，生产过程中无需下料，因此，通过本技术的技术方案能够降低场地占用面积，并杜绝中间在库情况。
53.如图1和图2所示，本实用新型的实施例中，粗磨设备包括第一粗磨装置10，第一粗磨装置10包括第一粗磨本体和设置在第一粗磨本体上的两个第一粗磨件11，两个第一粗磨件11相对设置，两个第一粗磨件11均相对于第一粗磨本体可转动，且两个第一粗磨件11的转动轴线的延伸方向均垂直于磁体200的输送方向，两个第一粗磨件11分别用于对磁体200的相对设置的第一侧面和第二侧面进行粗磨。
54.本实用新型的实施例中，磁体200为六面体结构，第一粗磨装置10用于对磁体200的沿宽度方向的相对设置的第一侧面和第二侧面进行粗磨。也就是说，本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第一道工序为对磁体200的沿宽度方向相对设置的第一侧面和第二侧面进行粗磨的工序。
55.如图2所示，本实用新型的实施例中，第一粗磨装置10为双端面磨床。第一粗磨件11为砂轮。第一粗磨装置10的型号为m7650。沿磁体200的宽度方向，第一侧面和第二侧面之间的距离为102毫米。
56.如图1和图3所示，本实用新型的实施例中，粗磨设备还包括第二粗磨装置20，沿磁体200的输送方向，第一粗磨装置10和第二粗磨装置20依次设置；磁体研磨生产线还包括第一翻转结构30，第一翻转结构30位于第一粗磨装置10和第二粗磨装置20之间，第一翻转结构30设置在第二粗磨装置20上；第一翻转结构30用于对经过第一粗磨装置10粗磨后的磁体200进行翻转，以使第二粗磨装置20能够对磁体200的相对设置的第三侧面和第四侧面进行粗磨，其中，磁体200的第三侧面与磁体200的第一侧面相邻设置，磁体200的第四侧面与磁体200的第二侧面相邻设置。
57.上述设置中，沿磁体200的输送方向，第一粗磨装置10和第二粗磨装置20依次设置，第二粗磨装置20用于对磁体200的相对设置的第三侧面和第四侧面进行粗磨。
58.由于磁体200的第三侧面与磁体200的第一侧面相邻设置，磁体200的第四侧面与磁体200的第二侧面相邻设置，因此，在磁体200经过第一粗磨装置10的粗磨后，需要对磁体200进行翻转，便于第二粗磨装置20对磁体200的第三侧面和第四侧面进行粗磨。
59.第一翻转结构30用于对经过第一粗磨装置10粗磨后的磁体200进行翻转，以便于第二粗磨装置20对磁体200的第三侧面和第四侧面进行粗磨。
60.第一翻转结构30设置在第二粗磨装置20上，第二粗磨装置20对第一翻转结构30具有安装和支撑的作用。
61.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，使第一翻转结构30设置在第一粗磨装置10上。
62.本实用新型的实施例中，磁体200为六面体结构，第二粗磨装置20用于对磁体200的沿厚度方向的相对设置的第三侧面和第四侧面进行粗磨。也就是说，本实用新型的实施
例中，对磁体200的研磨工序的第二道工序为对磁体200的沿厚度方向相对设置的第三侧面和第四侧面进行粗磨的工序。
63.如图3所示，本实用新型的实施例中，第二粗磨装置20为双端面磨床。第二粗磨装置20包括第二粗磨件21，第二粗磨件21用于对磁体200进行粗磨。优选地，第二粗磨装置20具有与第一粗磨装置10相同的结构。优选地，第二粗磨件21为砂轮。
64.本实用新型的实施例中，第二粗磨装置20的型号为m7660。沿磁体200的厚度方向，第三侧面和第四侧面之间的距离为18毫米。
65.本实用新型的实施例中，第二粗磨装置20的磨头变频转动，小面低速，小面磨到25毫米宽。
66.如图17和图18所示，本实用新型的实施例中，第一翻转结构30包括翻转结构本体31、设置在翻转结构本体31上的入口32和设置在翻转结构本体31上的出口33，翻转结构本体31具有过渡腔，入口32和出口33分别设置在翻转结构本体31的相对两端且均与过渡腔连通，其中，过渡腔为螺旋状腔体，以使入口32的延伸方向与出口33的延伸方向之间具有夹角。
67.上述设置中，第一翻转结构30用于对磁体200进行翻转，使磁体200能够从经第一粗磨装置10对磁体200的第一侧面和第二侧面进行粗磨的状态翻转为便于第二粗磨装置20对磁体200的第三侧面和第四侧面进行粗磨的状态。经过第一粗磨装置10粗磨后的磁体200，经入口32进入过渡腔，由于过渡腔为螺旋状腔体，因此，磁体200在经过过渡腔的过程中，逐渐偏斜，最终自出口33输出。入口32的延伸方向与出口33的延伸方向之间具有夹角，使得自入口32进入并自出口33输出的磁体200实现翻转，从而实现第一翻转结构30对磁体200进行翻转的目的。
68.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备包括依次设置的第一输送装置60和第二输送装置70，第一输送装置60与第一粗磨装置10对应设置，第二输送装置70与第二粗磨装置20对应设置，第一输送装置60用于将经过第一粗磨装置10粗磨后的磁体200输送至第二输送装置70。
69.上述设置中，第一输送装置60和第二输送装置70均用于输送磁体200。第一输送装置60输送磁体200，使磁体200经过第一粗磨装置10，完成对磁体200的第一侧面和第二侧面的粗磨。第二输送装置70输送磁体200，使磁体200经过第二粗磨装置20，完成对磁体200的第三侧面和第四侧面的粗磨。沿磁体200的输送方向，第一输送装置60和第二输送装置70依次设置，这样，通过第一输送装置60能够将经过第一粗磨装置10粗磨后的磁体200输送至第二输送装置70，并经第二输送装置70输送至第二粗磨装置20，实现连续研磨。
70.本实用新型的实施例中，多个磁体200连续生产，第一输送装置60将经过第一粗磨装置10粗磨后的多个磁体200依次输送至第二输送装置70，在第二输送装置70依次输送多个磁体200的过程中，第一个磁体200经入口32进入过渡腔，在第二输送装置70的输送作用下，其余磁体200持续运动，其余磁体200推动第一个磁体200运动并逐渐向出口33方向运动，依次类推，实现对多个磁体200的翻转功能。也就是说，第二输送装置70为磁体200在翻转结构本体31的过渡腔内的运动提供动力。
71.优选地，第一输送装置60包括输送带，输送带用于输送磁体200。优选地，第二输送装置70包括输送带，输送带用于输送磁体200。
72.需要说明的是，本实用新型的实施例中，第一输送装置60和第二输送装置70均可采用领域内的常规输送装置，对第一输送装置60和第二输送装置70的具体结构此处不做具体描述。
73.优选地，第一翻转结构30设置在第二输送装置70上，第二输送装置70用于安装和支撑第一翻转结构30。
74.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，将第一翻转结构30设置在第一输送装置60上；或者，使第一输送装置60和第二输送装置70均与第一翻转结构30连接。
75.如图1和图4所示，本实用新型的实施例中，粗磨设备还包括第三粗磨装置40，沿磁体200的输送方向，第二粗磨装置20和第三粗磨装置40依次设置；磁体研磨生产线还包括第二翻转结构50，第二翻转结构50位于第二粗磨装置20和第三粗磨装置40之间，第二翻转结构50设置在第三粗磨装置40上；第二翻转结构50用于对经过第二粗磨装置20粗磨后的磁体200进行翻转，以使第三粗磨装置40能够对磁体200的相对设置的第五侧面和第六侧面进行粗磨，其中，磁体200的第五侧面与磁体200的第一侧面和第三侧面均相邻设置，磁体200的第六侧面与磁体200的第二侧面和第四侧面均相邻设置。
76.上述设置中，沿磁体200的输送方向，第二粗磨装置20和第三粗磨装置40依次设置，第三粗磨装置40用于对磁体200的相对设置的第五侧面和第六侧面进行粗磨。
77.由于磁体200的第五侧面与磁体200的第一侧面和第三侧面均相邻设置，磁体200的第六侧面与磁体200的第二侧面和第四侧面均相邻设置，因此，在磁体200经过第二粗磨装置20的粗磨后，需要对磁体200进行翻转，才能方便的对磁体200的第五侧面和第六侧面进行粗磨。
78.第二翻转结构50用于对经过第二粗磨装置20粗磨后的磁体200进行翻转，以便于第三粗磨装置40对磁体200的相对设置的第五侧面和第六侧面进行粗磨。
79.第二翻转结构50设置在第三粗磨装置40上，第三粗磨装置40对第二翻转结构50具有安装和支撑的作用。
80.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，使第二翻转结构50设置在第二粗磨装置20上。
81.本实用新型的实施例中，磁体200为六面体结构，第三粗磨装置40用于对磁体200的沿长度方向的相对设置的第五侧面和第六侧面进行研磨。也就是说，本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第三道工序为对磁体200的沿长度方向相对设置的第五侧和第六侧进行粗磨的工序。
82.需要说明的是，本技术的技术方案中，对上述第一道工序、第二道工序和第三道工序的操作顺序不做限定，可以根据实际需要，调整、改变上述三道工序的操作顺序。
83.如图4所示，本实用新型的实施例中，第三粗磨装置40为双端面磨床。第三粗磨装置40包括第三粗磨件41，第三粗磨件41用于对磁体200进行粗磨。优选地，第三粗磨装置40具有与第一粗磨装置10相同的结构。优选地，第三粗磨件41为砂轮。
84.本实用新型的实施例中，第三粗磨装置40的型号为m7675。沿磁体200的长度方向，第五侧面和第六侧面之间的距离为60毫米。
85.如图15和图16所示，本实用新型的实施例中，第二翻转结构50为块状结构，第二翻转结构50具有斜面51，至少部分第二翻转结构50位于输送设备的上方，且第二翻转结构50
的延伸方向与磁体200的输送方向之间具有夹角，斜面51位于第二翻转结构50的靠近第二粗磨装置20的一侧，斜面51沿磁体200的输送方向倾斜设置，斜面51能够与磁体200抵接，以翻转磁体200。
86.上述设置中，第二翻转结构50为块状结构，第二翻转结构50的靠近第二粗磨装置20的一侧设有斜面51，斜面51沿磁体200的输送方向倾斜设置，这样，当经过第二粗磨装置20粗磨后的磁体200运动至第二翻转结构50处时，磁体200能够与斜面51抵接，斜面51对与斜面51抵接的部分磁体200具有止挡作用，而磁体200的其余部分结构依然在运动，这样，持续运动的磁体200的部分结构就转到被斜面51止挡的磁体200的部分结构的前方，从而实现第二翻转结构50对磁体200的翻转作用。
87.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括依次设置的第二输送装置70和第三输送装置80，第二输送装置70与第二粗磨装置20对应设置，第三输送装置80与第三粗磨装置40对应设置，第二输送装置70用于将经过第二粗磨装置20粗磨后的磁体200输送至第三输送装置80。
88.上述设置中，第二输送装置70和第三输送装置80均用于输送磁体200。第二输送装置70输送磁体200，使磁体200经过第二粗磨装置20，完成对磁体200的第三侧面和第四侧面的粗磨。第三输送装置80输送磁体200，使磁体200经过第三粗磨装置40，完成对磁体200的第五侧面和第六侧面的粗磨。沿磁体200的输送方向，第二输送装置70和第三输送装置80依次设置，这样，通过第二输送装置70能够将经过第二粗磨装置20粗磨后的磁体200输送至第三输送装置80，并经第三输送装置80输送至第三粗磨装置40，实现连续粗磨。
89.本实用新型的实施例中，多个磁体200连续生产，第二输送装置70将经过第二粗磨装置20粗磨后的磁体200输送至第三输送装置80，在第三输送装置80依次输送多个磁体200的过程中，第一个磁体200经斜面51止挡实现翻转，在其余磁体200的推动下，能够对磁体200实现校正，使磁体200的第五侧面和第六侧面能够经第三粗磨装置40粗磨。
90.优选地，第三输送装置80包括输送带，输送带用于输送磁体200。
91.需要说明的是，本实用新型的实施例中，第三输送装置80可采用领域内的常规输送装置，对第三输送装置80的具体结构此处不做具体描述。
92.如图15和图16所示，第二翻转结构50设置在第三输送装置80上，第三输送装置80用于安装和支撑第二翻转结构50。
93.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，将第二翻转结构50设置在第二输送装置70上；或者，使第二输送装置70和第三输送装置80均与第二翻转结构50连接。
94.本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括半精磨设备，半精磨设备位于粗磨设备和精磨设备之间，半精磨设备设置在输送设备的一侧，且部分半精磨设备位于输送设备的上方，半精磨设备用于对磁体200进行半精磨。
95.如图1和图5所示，本实用新型的实施例中，半精磨设备包括第一半精磨装置90，沿磁体200的输送方向，第一半精磨装置90位于粗磨设备的下游；第一半精磨装置90用于对磁体200的第一侧面和第二侧面进行半精磨。
96.本实用新型的实施例中，第一半精磨装置90用于对磁体200的第一侧面和第二侧面进行半精磨。也就是说，本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第四道工序为对磁体200的第一侧面和第二侧面进行半精磨的工序。
97.如图5所示，本实用新型的实施例中，第一半精磨装置90为顶推式双端面磨床。第一半精磨装置90的型号为m7650-dt。第一半精磨装置90包括第一半精磨件91，第一半精磨件91用于对磁体200进行半精磨。优选地，第一半精磨件91为砂轮。优选地，第一半精磨件91的研磨精度大于第一粗磨件11的研磨精度。
98.本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第一半精磨装置90对应设置的第四输送装置190，沿磁体200的输送方向，第三输送装置80与第四输送装置190依次设置，第四输送装置190用于输送磁体200，使磁体200能够经过第一半精磨装置90进行半精磨。
99.本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第三道工序为对磁体200的沿长度方向相对设置的第五侧和第六侧进行粗磨的工序，第四道工序为对磁体200的沿宽度方向相对设置的第一侧面和第二侧面进行半精磨的工序。也就是说，为了使磁体200在经过第三道工序后能够进行第四道工序，需要对磁体200进行翻转。
100.本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括第五翻转结构，第五翻转结构设置在第四输送装置190上，第五翻转结构用于对磁体200进行翻转，以便于第一半精磨装置90对磁体200的第一侧面和第二侧面进行半精磨。
101.优选地，本实用新型的实施例中，第五翻转结构与第二翻转结构50的结构相同。
102.如图1和图6所示，本实用新型的实施例中，半精磨设备还包括第二半精磨装置100，沿磁体200的输送方向，第一半精磨装置90和第二半精磨装置100依次设置；第一半精磨装置90和第二半精磨装置100之间设有第三翻转结构，第三翻转结构设置在第二半精磨装置100上；第三翻转结构用于对经过第一半精磨装置90半精磨后的磁体200进行翻转，以使第二半精磨装置100能够对磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨。
103.上述设置中，沿磁体200的输送方向，第一半精磨装置90和第二半精磨装置100依次设置，第二半精磨装置100用于对经过第一半精磨装置90半精磨后的磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨。
104.本实用新型的实施例中，经过第二半精磨装置100对磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨后，磁体200的第三侧面和第四侧面精度合格。
105.第三翻转结构用于对经过第一半精磨装置90半精磨后的磁体200进行翻转，以便于第二半精磨装置100对磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨。
106.第三翻转结构设置在第二半精磨装置100上，第二半精磨装置100对第三翻转结构具有安装和支撑的作用。
107.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，使第三翻转结构设置在第一半精磨装置90上。
108.本实用新型的实施例中，第二半精磨装置100用于对磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨。也就是说，本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第五道工序为对磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨的工序。
109.需要说明的是，本技术的技术方案中，对上述第四道工序和第五道工序的操作顺序不做限定，可以根据实际需要，调整、改变上述两道工序的操作顺序。
110.如图6所示，本实用新型的实施例中，第二半精磨装置100为双端面磨床。第二半精磨装置100包括第二半精磨件101，第二半精磨件101用于对磁体200进行半精磨。优选地，第二半精磨装置100具有与第一粗磨装置10相同的结构。优选地，第二半精磨件101为砂轮。优
选地，第二半精磨件101的研磨精度大于第二粗磨件21的研磨精度。
111.本实用新型的实施例中，第二半精磨装置100的型号为m7675。第二半精磨装置100的磨头变频。
112.本实用新型的实施例中，第三翻转结构与第一翻转结构30的结构相同。
113.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第二半精磨装置100对应设置的第五输送装置210，第五输送装置210用于输送磁体200，以使磁体200能够经过第二半精磨装置100进行半精磨。
114.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，使半精磨设备还包括第三半精磨装置，第三半精磨装置用于对磁体200的第五侧面和第六侧面进行半精磨。相应地，输送设备还包括与第三半精磨装置对应设置的输送装置，磁体研磨生产线还包括与第三半精磨装置对应设置的翻转结构。
115.如图1和图7所示，本实用新型的实施例中，精磨设备包括第一精磨装置110，第一精磨装置110用于对磁体200的第五侧和第六侧进行精磨。
116.本实用新型的实施例中，经过第一精磨装置110的精磨后，磁体200的第五侧和第六侧的精度合格。
117.本实用新型的实施例中，第一精磨装置110用于对磁体200的第五侧和第六侧进行精磨。也就是说，本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第六道工序为对磁体200的第五侧和第六侧进行精磨的工序。
118.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第一精磨装置110对应设置的第六输送装置220，第一精磨装置110设置在第六输送装置220的一侧，且部分第一精磨装置110位于第六输送装置220的上方，第六输送装置220用于输送磁体200，使磁体200能够经过第一精磨装置110进行精磨。
119.如图1所示，本实用新型的实施例中，沿磁体200的输送方向，第二半精磨装置100和第一精磨装置110依次设置，第二半精磨装置100用于对磁体200的第三侧面和第四侧面进行半精磨，第一精磨装置110用于对磁体200的第五侧和第六侧进行精磨。为了使磁体200在经过第二半精磨装置100的半精磨后能够经过第一精磨装置110进行精磨，需要对磁体200进行翻转。
120.本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括第六翻转结构，第六翻转结构设置在第六输送装置220上，第六输送装置220对第六翻转结构具有安装和支撑的作用。第六翻转结构用于对磁体200进行翻转，以便于第一精磨装置110对磁体200的第五侧和第六侧进行精磨。
121.优选地，第六翻转结构与第二翻转结构50的结构相同。
122.如图7所示，本实用新型的实施例中，第一精磨装置110为双端面磨床。第一精磨装置110包括第一精磨件111，第一精磨件111用于对磁体200进行精磨。优选地，第一精磨件111为砂轮。第一精磨装置110的型号为m7675。
123.如图1和图8所示，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括第一倒角研磨装置120，沿磁体200的输送方向，第一精磨装置110和第一倒角研磨装置120依次设置；第一倒角研磨装置120设置在输送设备的一侧，且部分第一倒角研磨装置120位于输送设备的上方，第一倒角研磨装置120用于对磁体200的第五侧面和第四侧面之间的连接位置处以及磁
体200的第六侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角。
124.本实用新型的实施例中，第一倒角研磨装置120用于对磁体200的第五侧面和第四侧面之间的连接位置处以及磁体200的第六侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角。也就是说，本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第七道工序为对磁体200的第五侧面和第四侧面之间的连接位置处以及磁体200的第六侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角的工序。
125.如图8所示，本实用新型的实施例中，第一倒角研磨装置120为双斜边磨床。第一倒角研磨装置120包括第一倒角研磨件121，第一倒角研磨件121用于对磁体200进行研磨，以形成倒角。优选地，第一倒角研磨装置120为zcm4-xb-x型3kw斜边磨。
126.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第一倒角研磨装置120对应设置的第七输送装置230，第一倒角研磨装置120设置在第七输送装置230的一侧，且部分第一倒角研磨装置120位于第七输送装置230的上方，第七输送装置230用于输送磁体200，使磁体200能够经过第一倒角研磨装置120，以加工倒角。
127.如图1和图9所示，本实用新型的实施例中，精磨设备还包括第二精磨装置130，沿磁体200的输送方向，第一精磨装置110和第二精磨装置130依次设置；第一精磨装置110和第二精磨装置130之间设有第四翻转结构，第四翻转结构设置在第二精磨装置130上；第四翻转结构用于对经过第一精磨装置110精磨后的磁体200进行翻转，以使第二精磨装置130能够对磁体200的第一侧面和第二侧面进行第一次精磨。
128.上述设置中，沿磁体200的输送方向，第一精磨装置110和第二精磨装置130依次设置，第二精磨装置130能够对经过第一精磨装置110精磨后的磁体200的第一侧面和第二侧面进行第一次精磨。
129.本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第八道工序为对磁体200的第一侧面和第二侧面进行第一次精磨的工序。
130.第四翻转结构用于对经过第一精磨装置110精磨后的磁体200进行翻转，以便于第二精磨装置130对磁体200的第一侧面和第二侧面进行第一次精磨。第四翻转结构设置在第二精磨装置130上，第二精磨装置130对第四翻转结构具有安装和支撑的作用。
131.当然，在本技术的替代实施例中，还可以根据实际需要，使第四翻转结构设置在第一精磨装置110上。
132.本实用新型的实施例中，第四翻转结构与第二翻转结构50的结构相同。
133.如图9所示，本实用新型的实施例中，第二精磨装置130为顶推式双端面磨床。第二精磨装置130包括第二精磨件131，第二精磨件131用于对磁体200进行第一次精磨。优选地，第二精磨件131为砂轮。第二精磨装置130的型号为m7650-dt。
134.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第二精磨装置130对应设置的第八输送装置240，第二精磨装置130设置在第八输送装置240的一侧，且部分第二精磨装置130位于第八输送装置240的上方，第八输送装置240用于输送磁体200，使磁体200能够经过第二精磨装置130进行第一次精磨。
135.如图1和图10所示，本实用新型的实施例中，精磨设备还包括第三精磨装置140，沿磁体200的输送方向，第二精磨装置130和第三精磨装置140依次设置；第三精磨装置140用于对经过第一次精磨后的磁体200的第一侧面和第二侧面进行第二次精磨。
136.本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第九道工序为对磁体200的第一侧面和第二侧面进行第二次精磨的工序。
137.经过第三精磨装置140的第二次精磨，磁体200的宽度尺寸为102毫米，留0.15毫米余量，磁体200的宽度精度合格。
138.如图10所示，本实用新型的实施例中，第三精磨装置140为顶推式双端面磨床。第三精磨装置140包括第三精磨件141，第三精磨件141用于对磁体200的第一侧面和第二侧面进行第二次精磨。
139.本实用新型的实施例中，第三精磨装置140的型号为m7625-dt(电主轴)。第三精磨装置140可以一次性磨4片磁体200，顶推行程500毫米。第三精磨装置140的第三精磨件141为高速电主轴小砂轮，砂轮直径转速为4500转/分，线速度最大58.8米/秒。
140.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第三精磨装置140对应设置的第九输送装置250，第三精磨装置140设置在第九输送装置250的一侧，且部分第三精磨装置140位于第九输送装置250的上方，第九输送装置250用于输送磁体200，使磁体200能够经过第三精磨装置140进行第二次精磨。
141.如图1和图11所示，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括第二倒角研磨装置150，沿磁体200的输送方向，第三精磨装置140和第二倒角研磨装置150依次设置；第二倒角研磨装置150设置在输送设备的一侧，且部分第二倒角研磨装置150位于输送设备的上方，第二倒角研磨装置150用于对磁体200的第一侧面和第四侧面之间的连接位置处以及对磁体200的第二侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角。
142.本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第十道工序为对磁体200的第一侧面和第四侧面之间的连接位置处以及对磁体200的第二侧面和第四侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角的工序。
143.如图11所示，本实用新型的实施例中，第二倒角研磨装置150为双斜边磨床。优选地，第二倒角研磨装置150为zcm4-xb-x型3kw斜边磨。第二倒角研磨装置150包括第二倒角研磨件151，第二倒角研磨件151用于对磁体200进行研磨，以形成倒角。
144.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第二倒角研磨装置150对应设置的第十输送装置260，第二倒角研磨装置150设置在第十输送装置260的一侧，且部分第二倒角研磨装置150位于第十输送装置260的上方，第十输送装置260用于输送磁体200，使磁体200能够经过第二倒角研磨装置150进行第二次精磨。
145.如图1和图12所示，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括第三倒角研磨装置160，沿磁体200的输送方向，第三精磨装置140和第三倒角研磨装置160依次设置；第三倒角研磨装置160设置在输送设备的一侧，且部分第三倒角研磨装置160位于输送设备的上方，第三倒角研磨装置160用于对磁体200的第一侧面和第三侧面之间的连接位置处以及对磁体200的第二侧面和第三侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角。
146.本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第十一道工序为对磁体200的第一侧面和第三侧面之间的连接位置处以及对磁体200的第二侧面和第三侧面之间的连接位置处进行研磨，以形成倒角的工序。
147.如图12所示，本实用新型的实施例中，第三倒角研磨装置160为自动倒角机。第三倒角研磨装置160的型号为zdj6s-4r。第三倒角研磨装置160包括第三倒角研磨件161，第三
倒角研磨件161用于对磁体200进行研磨，以形成倒角。
148.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与第三倒角研磨装置160对应设置的第十一输送装置270，第三倒角研磨装置160设置在第十一输送装置270的一侧，且部分第三倒角研磨装置160位于第十一输送装置270的上方，第十一输送装置270用于输送磁体200，使磁体200能够经过第三倒角研磨装置160研磨形成倒角。
149.如图1和图13所示，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线还包括弧面研磨装置170，沿磁体200的输送方向，弧面研磨装置170位于精磨设备的下游；弧面研磨装置170设置在输送设备的一侧，且部分弧面研磨装置170位于输送设备的上方，弧面研磨装置170用于对磁体200的第三侧面进行研磨，以在磁体200的第三侧面形成弧面。
150.本实用新型的实施例中，弧面研磨装置170为顶推式高精度单工位通过式磨床。弧面研磨装置170的型号为dtm14-dt-sk。通过顶推式高精度单工位通过式磨床精磨弧面。如图13所示，本实用新型的实施例中，弧面研磨装置170包括弧面研磨件171，弧面研磨件171用于对磁体200的第三侧面进行研磨，以在磁体200的第三侧面形成弧面。弧面研磨装置170采用大功率电机，砂轮直径为转速为3600转/分，线速度为47.1米/秒。弧面研磨装置170的顶推行程650毫米。顶推行程采用数控控制。本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线包括依次设置的三台弧面研磨装置170。对磁体200的研磨工序的第十二、第十三和第十四道工序均为对磁体200的第三侧面进行研磨，以在磁体200的第三侧面形成弧面的工序。
151.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与弧面研磨装置170对应设置的第十二输送装置280，弧面研磨装置170设置在第十二输送装置280的一侧，且部分弧面研磨装置170位于第十二输送装置280的上方，第十二输送装置280用于输送磁体200，使磁体200能够经过弧面研磨装置170进行研磨。第十二输送装置280的数量为三台，三台第十二输送装置280依次设置。
152.弧面研磨件171转动对磁体200进行研磨，第十二输送装置280用于输送磁体200，磁体200相对于第十二输送装置280的输送带是静止的，因此，不会对磁体200的第四侧面产生蹭痕。
153.如图1和图14所示，本实用新型的实施例中，在弧面研磨装置170的作用下，磁体200的第三侧面形成多个弧面；磁体研磨生产线还包括弧面倒角研磨装置180，沿磁体200的输送方向，弧面研磨装置170和弧面倒角研磨装置180依次设置；弧面倒角研磨装置180设置在输送设备的一侧，且部分弧面倒角研磨装置180位于输送设备的上方；弧面倒角研磨装置180用于对相邻两个弧面之间的连接位置处进行研磨，以形成弧面倒角。
154.本实用新型的实施例中，对磁体200的研磨工序的第十五道工序为对磁体200的第三侧面的相邻两个弧面之间的连接位置处进行研磨，以形成弧面倒角的工序。
155.如图14所示，本实用新型的实施例中，弧面倒角研磨装置180为自动倒角机。弧面倒角研磨装置180的型号为zdj6s。弧面倒角研磨装置180包括弧面倒角研磨件181，弧面倒角研磨件181用于对相邻两个弧面之间的连接位置处进行研磨，以形成弧面倒角。
156.如图1所示，本实用新型的实施例中，输送设备还包括与弧面倒角研磨装置180对应设置的第十三输送装置290，弧面倒角研磨装置180设置在第十三输送装置290的一侧，且部分弧面倒角研磨装置180位于第十三输送装置290的上方，第十三输送装置290用于输送磁体200，使磁体200能够经过弧面倒角研磨装置180进行研磨。
157.需要说明的是，本技术的技术方案中，输送设备包括多个输送装置，多个输送装置均可采用本领域的常规技术，此处对输送设备包括的多个输送装置的具体结构不做具体描述。
158.如图1所示，本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线呈u型布置。
159.使用u型布局解决了长距离生产线员工无法清楚的、快速的发现生产线故障的问题，减少了员工调机、故障处理等的走动距离，能更快速的发现问题及处理故障。
160.本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线可以应用于需多级研磨、研磨工序较多的磁体生产制造领域，可以根据不同系列产品的研磨工序的多少，自由选取本技术的磁体研磨生产线的连续的某一段或不连续的某一段设备进行研磨。磁体研磨生产线可适用于绝大多数目前市面上的产品的研磨。
161.本实用新型的实施例中，可以通过使用常规生产的粗磨设备、精磨设备及输送设备进行联机组合形成本技术的磁体研磨生产线。
162.本实用新型的实施例中，磁体研磨生产线具有以下优点：
163.1、可根据使用场景的不同，运用不同的机械结构，灵活性高，能够适应不同的产品形状。
164.2、结构简单、调整操作方便、通用性强、推广性大、成本低。
165.从以上的描述中，可以看出，本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果：粗磨设备用于对磁体进行粗磨，精磨设备用于对磁体进行精磨，输送设备用于输送磁体。粗磨设备和精磨设备依次设置，通过输送设备能够将经过粗磨设备粗磨后的磁体输送至精磨设备，便于对磁体进行精磨。通过设置输送设备可以将经过粗磨工序后的磁体直接输送至精磨工序，本技术的技术方案无需上料和下料，从而能够降低用工量。
166.显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
167.需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本技术的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。
168.需要说明的是，本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本技术的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
169.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。