一种光学防伪元件及其产品的制作方法

1.本发明涉及防伪领域，尤其涉及一种适用于钞票、信用卡、护照和有价证券等各类高安全产品和高附加值产品的光学防伪元件，还涉及使用该光学防伪元件的产品，诸如钞票、信用卡、护照和有价证券等。


背景技术：

2.由于光学防伪元件具有独特的视觉效果和易识别性，所以被广泛应用于钞票、信用卡、护照和有价证券等高安全产品以及其它高附加值产品中。
3.cn1906547b和cn101379423b公开了在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件，其中微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近，通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用来再现具有一定景深或呈现动态效果的图案。
4.cn104024921b公开了具有减小厚度的可转移光学系统，消除了对用于提供聚焦元件与它们的相关微图文结构之间必需焦距的光学间隔物的需要，微图文结构接触但不完全地嵌入其内部，在工程化复制过程中，聚焦元件与微图文结构分别进行uv胶浇铸复制，进行两次嵌套uv胶浇铸复制，该工艺需求对于微结构复制设备和材料具有高标准要求，增加工艺难度。
5.cn1906547b公开了一种膜材料，在其中所公开的光学微结构防伪元件中，微透镜阵列和微图文阵列分别位于各自的平面内，因此在制作过程中，首先需要对微图文阵列和微透镜阵列分别进行原版制备，然后在生产中在薄膜基材的两侧上分别对微图文阵列和微透镜阵列进行批量复制。这种结构的防伪元件的缺陷在于：(1)该结构要求微透镜阵列、微图文阵列均为周期性排列，在制作原版时其周期误差在亚微米级，因此制作难度高；(2)在生产过程中，需要在基材的两个表面上依次分别进行加工，因此工艺流程复杂；(3)在生产过程中，需要解决微透镜阵列和微图文阵列的对位问题，因此工艺可控性低；(4)由于生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位，所以一些防伪效果无法达到预期甚至无法实现。


技术实现要素：

6.本发明针对现有技术中的上述缺点，提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品，本发明所提供的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品在制造过程中无需微透镜阵列和微图文阵列的对位。
7.为了实现上述目的，本发明实施例提供一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：基材；反射曲面镜阵列，位于所述基材的一表面上；以及微图文阵列，形成在所述反射曲面镜阵列上，所述微图文阵列与所述反射曲面镜阵列处于同一平面内，且无间隔重叠，其中所述反射曲面镜阵列采样合成与之具有耦合效应的所述微图文阵列后，形成动感效果。
8.其中，所述反射曲面镜阵列为由多个曲面单元构成的周期性阵列、局部周期性阵列、非周期性阵列和/或随机性阵列，且所述微图文阵列为与所述反射曲面镜阵列相匹配的
具有耦合效应的周期性排列、非周期性排列、或随机性排列。
9.其中，所述微图文单元的排布具体形式为周期性阵列和/或非周期性阵列，且由反射曲面采样工具的排布形式和所要实现的宏观动画效果共同决定。当宏观动画效果为水平平移、垂直平移、正交平移、上浮、下沉时，其微图文排列是周期性的；当动感效果为缩放、双通道、立体时，每一个角度反射入人眼的光线是不同的，即，微图文排列是非周期性的，或随机的。需要说明的是，本发明所述的反射曲面镜阵列对微图文阵列的采样合成过程，最终形成采样合成图像，这些采样合成图像是人眼可以直接观察到的宏观合成图像，可以具体形成若干动感效果，所述动感效果包括平移、双通道、多通道、动画、立体。
10.其中，由于反射曲面的功能在于反射光学入人眼，其形貌是光滑的、连续的，所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜包含凹面镜和/或凸面镜。
11.其中，所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜的基座为以下中的一者或任意组合：圆形、椭圆形、多边形，或沿面内某方向无限延伸(即，体现为柱透镜的形式)。
12.其中，所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜的横截面为以下中的一者或任意组合：圆形、椭圆形、多边形、锯齿形、抛物线形和正弦形。
13.其中，所述反射曲面镜阵列为一维的或二维的。
14.其中，所述微图文阵列内的微图文单元为凹槽、平面或者凸起。
15.其中，所述凹槽内或所述凸起上分布有微结构，使得微图文区域与反射曲面镜区域产生光线反射的强弱对比。
16.其中，所述微结构为以下任意一种：一维亚微米结构、二维亚微米结构、结构色，其可结合以下提及的金属镀层或者光变镀层，进行着色，以形成与凹槽或凸起结构之外区域的颜色对比。
17.其中，当所述微图文单元为凹槽、凸起时，其横截面可以为以下任意一种：矩形、锯齿形、三角形、正弦波形。
18.其中，该光学防伪元件还包括分别位于所述微图文阵列与所述反射曲面镜阵列上的第一颜色功能层和第二颜色功能层。
19.其中，在所述微图文阵列内的微图文单元为凹槽或者凸起的情况下，所述第一颜色功能层和第二颜色功能层的颜色是相同的或不同。在这种情况下，第一颜色功能层和第二颜色功能层可根据凹槽或凸起的高低不平，使得颜色功能层呈现颜色饱和度对比，从而实现着色；
20.其中，在所述微图文阵列内的微图文单元为平面的情况下，所述第一颜色功能层和第二颜色功能层的颜色是不同的。在该情况下，通过填充不同的颜料，从而实现着色。
21.其中，所述第一颜色功能层和第二颜色功能层包括单层镀层、多层镀层、油墨、颜料、染料，可以是上述的一种或者任意组合。
22.其中，所述第一颜色功能层和第二颜色功能层具有衍射光变特征、干涉光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征、荧光特征和/或用于机读的磁、光、电、放射性特征。
23.其中，该光学防伪元件还包括：反射层，位于所述微图文阵列和所述反射曲面镜阵列上。
24.其中，所述反射层为以下中的一者或任意组合：单层金属镀层、多层金属镀层、由
吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层、高折射率介质层镀层、由第一高折射率介质层、低折射率介质层和第二高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层、以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层。
25.其中，所述反射曲面镜阵列的周期为5微米至200微米。
26.其中，所述微图文阵列内的微图文单元的线条宽度为0.2微米至100微米。
27.其中，所述基材为由以下材料中的一者或多者构成的对可见光透明的有色或无色薄膜：聚对苯二甲酸二醇酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯、金属、玻璃以及纸张。
28.另一方面，本发明提供一种光学防伪产品，该光学防伪产品包括上述光学防伪元件。
29.通过上述技术方案，使得所述微图文阵列与反射曲面镜阵列处于同一平面内，且无间隔重叠；反射曲面镜阵列采样合成与之具有耦合效应的微图文阵列后，形成光学动感、立体效果。籍此，可解决微透镜阵列和微图文阵列的制作难度及相互之间需严格对位问题，提高工艺可控性，亦可保证实现预期的防伪效果。
30.本发明实施例的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
31.附图是用来提供对本发明实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明实施例，但并不构成对本发明实施例的限制。在附图中：
32.图1a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图。
33.图1b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的剖面图。
34.图1c是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的光学原理图。
35.图2a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的微图文设计图。
36.图2b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图。
37.图3是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的剖面图。
38.图4是根据本发明一种实施方式的的光学防伪元件中的微图文笔画和微图文笔画之间的区域的剖面示意图。
39.图5a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的微图文设计方法示意图。
40.图5b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的宏观再现图。
41.图6a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的微图文设计方法示意图。
42.图6b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的宏观再现图。
43.图7是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的宏观再现图。
44.图8a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图。
45.图8b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的剖面图。
46.图9a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图。
47.图9b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图。
具体实施方式
48.下面将结合附图来详细说明根据本发明的光学防伪元件及使用该光学防伪元件
的光学防伪产品。应当理解，所述附图和详细描述只是对本发明优选实施方式的描述，并非以任何方式来限制本发明的保护范围。并且，本领域技术人员应当理解，所有附图中的灰度以及尺寸比例仅为示意性的，不代表实际的颜色和尺寸比例。
49.在本技术的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
50.另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本技术的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
51.图1a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图，图1b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的剖面图。如图1a和图1b所示，本发明一种实施方式提供了一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：基材1和位于基材表面2上的反射曲面镜采样阵列21；形成在所述反射曲面镜阵列上的微图文阵列22；以及反射层23，位于所述微图文阵列22和所述反射曲面镜阵列21上。所述微图文阵列22与反射曲面镜阵列21处于同一平面内，且两阵列在空间位置上实现无间隔重叠。如图1b所示，微图文阵列22在剖面图内被表现为反射曲面镜阵列21内的凹槽，该凹槽通过对所述反射曲面镜阵列21进行刻蚀(例如，激光刻蚀)而形成，进而反映出微图文阵列22的形貌。可见微图文阵列22是嵌入在反射曲面镜阵列21内的，其与反射曲面镜阵列21处于同一平面。当反射曲面镜阵列21和微图文阵列22具有阵列耦合效应时，所述反射曲面镜阵列21对微图文阵列22进行空间采样，经过反射层3反射入人眼，合成宏观的光学影像以及动态特征。
52.所述光学防伪元件俯视图如图1a，剖面图如图1b所示，图中示出了一周期性实例下的曲面镜阵列与微图文阵列之间的空间排列规律。需要说明的是，所述反射层23只是为了达成更好的观看效果而设置，其并非是必须的。
53.为产生任意动画效果，需要一般性的微图文阵列设计方法，该方法包含以下三步：
54.1)确定各个观察角度下所看到的宏观放大图像θ和分别为样品以y轴转动的倾角和以x轴转动的倾角，i和j分别为样品以y轴转动和以x轴转动的动画帧的序号，设i和j范围为1,2,3
…
m。即在x和y方向各取m帧，总帧数即为m*m帧。
55.2)将每一张宏观放大图像按照宏观图像的实际尺寸和微采样工具的尺寸进行像素化，每个像素对应一个微采样工具；举例来说，设宏观图像为正方形，边长为l，微采样工具的间距为p，那么在l的长度内包括的微采样工具数目为n＝l/p。将宏观放大图像缩放为n*n像素即可实现每个像素对应一个微采样工具。
56.3)按照观察角度将每个像素投影到微采样工具所对应的微图文区域。遍历所有宏观图像和所有微采样工具后即完成微图文阵列的设计。
57.根据上述动画设计原则，图1c示出了反射曲面镜阵列与微图文阵列的设计过程。以柱透镜为例，其宏观图像“5”由12*12像素组成，每个像素对应一个微采样工具的贡献。对
于第m行，第n列的像素(m,n)将对应第m行，第n列的微采样工具下的某个位置，该位置便由所考虑的宏观图像对应的观察角度θ和的帧序号i和j决定。由对应的观察角度即可将像素(m,n)的值赋给微图文阵列的像素(i,j)。遍历观察角度θ和下m*m张宏观放大图像和所涉及的n*n个微采样工具，即可生成包含(m*n)2个微像素的总的微图文信息。
58.特殊说明的是，本发明为反射型元件阵列与微图文阵列之间的采样合成原理，其宏观放大图像的运动方向、上浮方向、下沉方向与上述折射型原理中的设计方向相反。在采样阵列中，缺陷位置可形成连续的图像，其图像的宏观颜色特征为：若曲面镜的反射光线进入人眼，则形成亮背景；若微图文阵列的图文笔画处的光线无法进入人眼，则形成暗图像。
59.这里，需要说明的是，微图文与曲面镜的空间无间隔重叠程度，即，微图文分布在曲面镜横截面上的位置深度，不会改变暗图像的灰度。但是，在实际应用中，微图文尽量无间隔重叠在曲面镜表面，优选地，微图文距离曲面镜表面深度小于1微米，这样在表面覆盖反射层(例如，金属镀层)后，宏观合成图像的清晰度更好。
60.其中，所述反射曲面镜阵列为由多个曲面镜单元构成的周期性阵列或局部周期性阵列，与之匹配的具有耦合效应的微图文阵列为周期性排列、或非周期性排列。所述反射曲面镜阵列也可以为由多个曲面单元构成的非周期性阵列和/或随机性阵列，与之匹配的具有耦合效应的微图文阵列为非周期性排列、或随机性排列。
61.虚影是反射型曲面镜阵列对于微图文阵列采样合成后的必然存在，是光学效果中需要尽量避免的，否则会导致图像模糊的弊端。由于设备制作工艺缺陷，导致反射曲面平滑度不够，在曲面镜对微图文采样过程中，发生错误采样、重复采样等现象，从而导致虚影现象发生。为避免上述问题，需要尽量采用排布规律简单的曲面镜阵列设计。优选地，所述反射曲面镜阵列为矩形排列和六角形排列，该实施例中采用矩形排列。
62.优选地，所述反射曲面镜阵列周期为5微米至200微米，该实施例中采用25微米。优选地，所述微图文单元线条宽度为0.2微米至100微米，该实施例中采用2微米。
63.图2a是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的微图文设计图，图2b是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的俯视图。该光学防伪元件包括：柱图文阵列1，与反射球面透镜阵列2，柱图文阵列嵌入在反射球面透镜阵列中，如图2b所示。图2a示出了柱图文的排列方式，即数字“5”，在水平方向上宽度不变，在垂直方向上进行拉伸，拉伸长度为宏观尺寸，与实际光学效果大小一致。
64.这里，需要说明的是，采用二维球面镜与二维微图文排列(微图文的排列方式与球面镜一致，只有图文周期和角度在微观上有一些改变)，对观察光源有要求。在点光源条件下，光学效果最好，当环境中存在多个光源时，则会形成多个图像，且发生重叠而产生模糊。所以，本实施例中采用柱图文排列方式，仅在一个方向上存在放大效果，另一个方向则不受光源的影响，使得实际光学效果变得更清晰可变。
65.优选地，所述反射曲面镜阵列周期为5微米至200微米，该实施例中采用25微米。优选地，柱图文周期为5微米至200微米，该实施例中采用24.9微米，所述微图文单元线条宽度为0.2微米至100微米，该实施例中采用2微米。
66.对于所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜而言，其可为凹面镜和/或凸面镜，以上图1b示出了其为凸面镜的情况，以下图3给出了其为凹面镜的情况下，具体给出了根据本发
明一个实施方式的凹面反射镜阵列的剖面图。如图3所示，该光学防伪元件包括：基材1和位于基材表面上的反射凹面镜采样阵列21；以及形成在所述反射曲面镜阵列上的微图文阵列22，以及覆盖在曲面镜阵列表面的反射层23。
67.需要说明的是，反射凸面镜表面覆盖金属镀层后，可以实现双面观察。对于图1b中的光学防伪元件示例，从基材下端向上观察时，其为微结构剖面图如图3所示。曲面的表面对于采样微图文阵列的贡献在于实现不同角度下的微图文选择，凹面镜或者凸面镜，对于角度选择的贡献相同，所以凸面镜和凹面镜形成的宏观图像的光学效果大致一样。
68.需要强调的是，所述微图文阵列在曲面镜上的分布可以为凹槽、或凸起、或颜色功能层平面，或图文笔画凹槽内或凸起上填充小尺寸结构。优选地，所述微图文结构为凹槽或者凸起，该实施例中采用凸起的微图文阵列结构。
69.优选地，所述反射曲面镜阵列周期为5微米至200微米，该实施例中采用25微米。优选地，所述微图文单元线条宽度为0.2微米至100微米，该实施例中采用2微米。
70.图4示出了在微图文凹槽内可以填充小尺寸结构或者不填充任何小尺寸结构，结合颜色功能色，形成颜色对比的图文的剖面图。
71.如图4所示，该光学防伪元件包括：基材1和位于基材表面上的反射曲面镜采样阵列21；以及形成在所述反射曲面镜阵列上的微图文阵列22，以及覆盖在反射曲面镜阵列21和微图文阵列22的表面的反射层23，以及填充微图文阵列21的凹槽内的颜料功能层41、结构色42、亚波长结构43。
72.客观地，人眼对于暗图像在视觉上的反应敏感度不强，为形成具有鲜明颜色特征图文，在所述微图文笔画内填充小尺寸结构，结合金属镀层与微结构的衍射效果、干涉效果、微结构效果、颜料涂层等，可实现微图文笔画的着色。
73.需要说明的是，小尺寸微结构必须依附在大尺寸结构上，只有同形覆盖时，即小尺寸微结构形成的微图文笔画依附在曲面镜表面或者内部，微图文笔画沟槽的形貌与曲面镜形貌具有相同曲率。微图文笔画处的反射光线才能反射入人眼，在特定光学原理下，形成结构色，从而形成彩色的光学放大效果。
74.上述的小尺寸结构可以为以下任意一种：一维亚微米结构(图中为正弦形)、二维亚微米结构(图中为正弦形)、结构色(图中为圆形)、涂料层。小尺寸结构结合发射层33(例如，金属镀层或者光变镀层)，进行着色，以形成与凹槽结构之外区域的颜色对比。
75.所述颜色功能层可包括单层镀层、多层镀层、油墨、颜料、染料，可以是上述的一种或者任意组合。
76.需要说明的是，在微图文阵列和反射曲镜阵列表面分别施加颜色功能层a和颜色功能层b。上述的微图文单元可为凹槽、凸起或者平面。当微图文单元是凹槽或凸起时，其颜色功能层a和颜色功能层b是相同的或不同的。颜色功能层a和颜色功能层b可根据凹槽凸起的高低不平，使得颜色功能层呈现颜色饱和度对比，从而实现着色。当微图文单元是平面时，在图文阵列和反射曲面镜阵列表面分别施加颜色功能层a和颜色功能层b，颜色功能层a和颜色功能层b是不同的。在该情况下，通过填充不同的颜料，从而实现着色。
77.当小尺寸结构为亚波长结构43时，可以为一维光栅或二维光栅，亚波长结构的槽型可以是正弦形、矩形、锯齿形等；二维光栅的栅格分布可以是正交结构、蜂窝结构、二维布拉维点阵结构、随机结构等。应当理解的是，亚波长结构并不局限于以上描述的结构，而且
实际的光学防伪元件中可以采用这些亚波长结构的拼接或组合。其中一种拼接或组合的方式可包括反射曲面镜以及位于该反射曲面镜上的次级结构，该次级结构可为二维亚波长结构。为满足等离子体吸收条件，需在二维亚波长结构表面需蒸镀、溅射金属层。所采用的金属材料可以为金、银、铜、铝、铁、锡、锌、镍、铬等中一着或多。优选地，蒸镀铝层，厚度优选为30nm。也可以蒸镀单层介质层或者多层介质层。所采用的介质材料可以选自mgf2、sio2、al2o3、mgo、pmma、tio2、zns、zno，并且多层介质膜通常采用高低高膜系设计。优选地，采用sio2，蒸镀三层结构，光变颜色为黄变绿。在有覆盖二维亚波长结构区域，光变颜色为红色变绿；未覆盖区域，光变颜色为黄变绿。
78.图5a和5b分别示出了根据本发明一实施例的光学特征效果为平移变化时的光学防伪元件的微图文阵列以及宏观再现图。该光学防伪元件包括周期性排列的反射曲面镜阵列，至少在一个方向上具有对称轴；以及周期性排列的微图文阵列。该微图文阵列至少在一个方向上具有对称轴，且与反射曲面镜阵列的某一对称轴平行。图中仅示意性地给出了所提供x轴的视觉图像效果，即一个视觉图像的平移过程，即沿着x轴正方向或者反方向改变观察视角的过程中，该视觉图像将还原出一个视觉图像周而复始的平移过程，如图5a所示。图5b示出了防伪元件在人眼内进行左右、上下摆动时的光学平移效果特征。
79.需要说明的是，为了减少虚影的影响，增加宏观合成图像的清晰度，该实施例中采用一维柱图文设计，反射曲面镜采用二维球面曲面镜设计。如此，牺牲某一维度上的动感特征，同时减少了微图文被误采样、重复采样的概率，使得虚影的数量减少一半，从而增加清晰度。
80.优选地，所述反射曲面镜阵列周期为5微米至200微米，该实施例中采用25微米。优选地，所述微图文单元线条宽度为0.2微米至100微米，该实施例中采用2微米。
81.图6a和图6b示出了根据本发明的一实施例的光学特征效果为动感条纹变化的光学防伪元件的微图文阵列以及宏观再现图。该光学防伪元件包括周期性排列的反射曲面镜阵列以及非周期设计的微图文阵列，该微图文阵列的微观排列是非周期且无对称轴的。图中仅示意性地给出了所提供y轴的视觉图像效果，即一个视觉图像的平移过程，即沿y轴正方向或者反方向改变观察视角的过程中，该视觉图像将还原出一个视觉图像周而复始的平移过程。
82.需要说明的是，考虑虚影的影响，可以采用类似于图4中的结构设计理念。
83.优选地，所述反射曲面镜阵列周期为5微米至200微米，该实施例中采用25微米。优选地，所述微图文单元线条宽度为0.2微米至100微米，该实施例中采用2微米。
84.图7a和图7b示出了根据本发明的一实施例的光学特征效果为图文切换变化的光学防伪元件的宏观再现图。
85.在图5a中的微图文阵列分别设计为文字5和图文star，得到两张像素相同的微图文阵列设计原图。然后利用曲面镜单元的一半曲面采样微图文阵列文字5，利用另一半曲面采样微图文阵列star，如此将分别只有一半图文信息的两张微图文阵列进行组合，即可得到图7的光学设计原图。当防伪元件在人眼内进行左右、上下摆动时，可观察到微图文进行切换的光学效果特征。
86.图8a和图8b示出了根据本发明的一实施例的光学特征效果为缩放变化的光学防伪元件的微图文阵列及宏观再现图。该微图文阵列的微观排列是非周期且无对称轴的，为
图5a的光学原理的又一光学效果实施例。
87.图9a和图9b示出了根据本发明的一实施例的光学特征效果为下沉、上浮变化的光学防伪元件的微图文阵列，该微图文阵列的微观排列是周期性的，或者局部周期性的，至少在一个平面内具有对称轴，为图5a的光学原理的又一光学效果实施例。
88.还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
89.以上仅为本技术的实施例而已，并不用于限制本技术。对于本领域技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的权利要求范围之内。