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一种光学防伪元件及其产品的制作方法

2022-06-01 15:15:59 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种光学防伪元件,其特征在于,该光学防伪元件包括:基材;反射曲面镜阵列,位于所述基材的一表面上;以及微图文阵列,形成在所述反射曲面镜阵列上,所述微图文阵列与所述反射曲面镜阵列处于同一平面内,且无间隔重叠,其中所述反射曲面镜阵列采样合成与之具有耦合效应的所述微图文阵列后,形成动感效果。2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射曲面镜阵列为由多个曲面单元构成的周期性阵列、局部周期性阵列、非周期性阵列和/或随机性阵列,且所述微图文阵列为与所述反射曲面镜阵列相匹配的具有耦合效应的周期性排列、非周期性排列、或随机性排列。3.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜包含凹面镜和/或凸面镜。4.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜的基座为以下中的一者或任意组合:圆形、椭圆形、多边形,或沿面内某方向无限延伸。5.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射曲面镜阵列内的反射曲面镜的横截面为以下中的一者或任意组合:圆形、椭圆形、多边形、锯齿形、抛物线形和正弦形。6.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射曲面镜阵列为一维的或二维的。7.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微图文阵列内的微图文单元为凹槽、平面或者凸起。8.根据权利要求7所述的光学防伪元件,其特征在于,所述凹槽内或所述凸起上分布有微结构,使得微图文区域与反射曲面镜区域产生光线反射的强弱对比。9.根据权利要求8所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微结构为以下任意一种:一维亚微米结构、二维亚微米结构、结构色。10.根据权利要求7所述的光学防伪元件,其特征在于,当所述微图文单元为凹槽、凸起时,其横截面可以为以下任意一种:矩形、锯齿形、三角形、正弦波形。11.根据权利要求7所述的光学防伪元件,其特征在于,该光学防伪元件还包括分别位于所述微图文阵列与所述反射曲面镜阵列上的第一颜色功能层和第二颜色功能层。12.根据权利要求11所述的光学防伪元件,其特征在于,在所述微图文阵列内的微图文单元为凹槽或者凸起的情况下,所述第一颜色功能层和第二颜色功能层的颜色是相同的或不同的;或在所述微图文阵列内的微图文单元为平面的情况下,所述第一颜色功能层和第二颜色功能层的颜色是不同的。13.根据权利要求11所述的光学防伪元件,其特征在于,所述第一颜色功能层和第二颜色功能层具有衍射光变特征、干涉光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征、荧光特征和/或用于机读的磁、光、电、放射性特征。14.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,该光学防伪元件还包括:反射层,位于所述微图文阵列和所述反射曲面镜阵列上。
15.根据权利要求14所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射层为以下中的一者或任意组合:单层金属镀层、多层金属镀层、由吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层、高折射率介质层镀层、由第一高折射率介质层、低折射率介质层和第二高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层、以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层。16.根据权利要求1所述的防伪元件,其特征在于,所述反射曲面镜阵列的周期为5微米至200微米。17.根据权利要求1所述的防伪元件,其特征在于,所述微图文阵列内的微图文单元的线条宽度为0.2微米至100微米。18.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述基材为由以下材料中的一者或多者构成的对可见光透明的有色或无色薄膜:聚对苯二甲酸二醇酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯、金属、玻璃以及纸张。19.一种光学防伪产品,其特征在于,包括根据权利要求1至18中任意一项权利要求所述的光学防伪元件。

技术总结
本发明实施例提供一种光学防伪元件及其产品。该光学防伪元件包括:基材;反射曲面镜阵列,位于所述基材的一表面上;以及微图文阵列,形成在所述反射曲面镜阵列上,所述微图文阵列与所述反射曲面镜阵列处于同一平面内,且无间隔重叠,其中所述反射曲面镜阵列采样合成与之具有耦合效应的所述微图文阵列后,形成动感效果。果。果。


技术研发人员:崔海波 张宝利 朱军 王晓利
受保护的技术使用者:中国印钞造币总公司
技术研发日:2020.11.24
技术公布日:2022/5/31
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