原子沉积镀膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种原子沉积镀膜设备。


背景技术：

2.原子层沉积技术(ald)是一种将物质以单原子膜的形式逐层沉积在基底表面的方法。在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应与前一层直接相关。这样，每次反应只沉积一层原子。原子层沉积的每个循环包括两个半反应。各步骤的化学吸附和表面化学反应具有明显的自限性和互补性。这种自限特性是原子层沉积技术的基础。不断重复这种自限反应形成所需的薄膜。一个原子层沉积循环可分为四个步骤：1)将第一前驱体气体通入衬底，衬底将吸附或与衬底表面反应；2)用惰性气体冲洗剩余气体；3)通过第二前体气体，与吸附在基板表面的第一前体气体发生化学反应形成涂层，或者与第一前体反应的产物与基板继续反应形成涂层；4)次使用冲洗气体冲洗掉多余的气体。通过控制沉积周期，可以实现薄膜厚度的精确控制。
3.相关中的原子层沉积镀膜设备通常包括镀膜腔室，以及与镀膜腔室连接的源进气装置，以向镀膜腔室输送源气体，该原子层沉积镀膜设备存在源气体分散不均匀的情况，影响镀膜效率。


技术实现要素：

4.本实用新型要解决的技术问题在于，提供一种原子沉积镀膜设备。
5.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种原子沉积镀膜设备，包括镀膜真空腔室、与所述镀膜真空腔室连接的源进气装置、与所述镀膜真空腔室连接的抽气装置以及与所述镀膜真空腔室连接的喷淋进气组件；
6.所述喷淋进气组件包括可拆卸安装于所述镀膜真空腔室上的壳体，设于所述壳体上侧的进气管，所述进气管一端连接气源、另一端延伸进入所述壳体内腔且其喷淋口朝向下设置，以向所述镀膜真空腔室内部吹扫。
7.优选地，所述进气管包括进气主管以及与所述进气主管连通的进气支管。
8.优选地，所述进气支管为两个。
9.优选地，所述进气管的喷淋口设有滤网。
10.优选地，所述镀膜真空腔室与所述壳体之间还设有分散孔板，所述进气管的喷淋口朝向所述分散孔板设置。
11.优选地，所述壳体底面设有安装台阶；
12.所述分散孔板的周沿通过紧固件可拆卸安装于所述安装台阶上。
13.优选地，所述分散孔板设有若干气孔。
14.优选地，所述气孔为圆孔或异形孔中的一种或多种。
15.优选地，所述抽气装置包括抽气管与所述抽气管连接的真空泵；
16.还包括与所述抽气管连接的支管，所述支管上设有压力计。
17.优选地，所述压力计包括量程不同的两个压力计。
18.实施本实用新型具有以下有益效果：原子沉积镀膜设备设有喷淋进气组件可以使得源气体分散更均匀，可提高镀膜效率及良品率。
附图说明
19.下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
20.图1是本实用新型一些实施例中原子沉积镀膜设备的结构示意图；
21.图2是图1中原子沉积镀膜设备沿a-a剖线的剖视图；
22.图3是本实用新型一些实施例中分散孔板的的结构示意图。
具体实施方式
23.为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。以下描述中，需要理解的是，“前”、“后”、“上”、“下”、“左”、“右”、“纵”、“横”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“头”、“尾”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系、以特定的方位构造和操作，仅是为了便于描述本技术方案，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本实用新型的限制。
24.还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“设置”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。当一个元件被称为在另一元件“上”或“下”时，该元件能够“直接地”或“间接地”位于另一元件之上，或者也可能存在一个或更多个居间元件。术语“第一”、“第二”、“第三”等仅是为了便于描述本技术方案，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量，由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
25.请参阅图1至图2，是本实用新型一些实施例中的一种原子沉积镀膜设备，期包括镀膜真空腔室1、与镀膜真空腔室1连接的源进气装置(未图示)，该源进气装置向镀膜真空腔室1内输入源气体。
26.在本实施中，该镀膜真空腔室1可以是可滑动安装于支架上，其设有一进出口，以与支架上设置的腔门配合，该腔门上设有样品台。
27.该原子沉积镀膜设备还包括与镀膜真空腔室1连接的抽气装置2以及与镀膜真空腔室1连接的喷淋进气组件3。抽气装置2包括抽气管21与抽气管21 连接的真空泵22，还包括与抽气管21连接的支管23，支管23上设有压力计 24。压力计24可以包括量程不同的两个压力计，以实现粗略测量和精准测量。
28.在本实施例中，该喷淋进气组件3包括可拆卸安装于镀膜真空腔室1上的壳体31，设于壳体31上侧的进气管32，进气管32一端连接气源、另一端延伸进入壳体31内腔且其喷淋口朝向下设置，以向镀膜真空腔室1内部吹扫。在本实施例中，该镀膜真空腔室1上端为敞口，该壳体31可拆卸安装到该敞口处且对敞口进行密封，壳体31可以是通过螺纹连接方式、
卡扣连接方式或者压板连接方式进行安装固定。
29.在本实施例中，该进气管32可以是设置一个或多个。在一些实施例中，该进气管32可以包括进气主管321以及与进气主管321连通的进气支管322，该进气支管322为两个，当然，该进气支管322也可以是设置一个。该进气主管321与进气支管322的内径可以相同，以实现通气一致，进一步的，该进气主管321与进气支管322上可以设置阀门，以实现单独导通或截止。
30.优选地，该进气管32的喷淋口设有滤网，以过滤杂质等。
31.结合图3所示，进一步地，该镀膜真空腔室1与壳体31之间还设有分散孔板4，进气管32的喷淋口朝向分散孔板4设置。该壳体31底面设有安装台阶，该分散孔板4的周沿通过紧固件可拆卸安装于安装台阶上，该紧固件可以是螺钉或螺栓。
32.进一步的，该壳体31可以是包括板状主体311，该板状主体311的周向向下延伸形成周壁312，该周壁312突出于镀膜真空腔室1上端敞口处的部分形成安装台阶(或安装面)，该分散孔板4可以是圆形平板结构，其周沿设有螺孔，对应的，该安装台阶设有安装孔，螺钉等穿设该螺孔和安装孔以将分散孔板4安装到壳体31上，其后该壳体31再安装到镀膜真空腔室1上端敞口处。
33.优选地，分散孔板4设有若干气孔41，气孔41为圆孔或异形孔中的一种或多种，进一步的，该气孔41可以阵列式排布，该气孔41的孔径、设置位置以及设置数量可以根据需求进行选择设置，这里不做具体限定。
34.可以理解的，原子沉积镀膜设备设有喷淋进气组件3可以使得源气体分散更均匀，可提高镀膜效率及良品率。
35.应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，可以对上述技术特点进行自由组合，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。