研磨用组合物的制作方法

技术特征：
1.一种研磨用组合物，其用于对硅晶圆进行研磨，且包含磨粒、碱性化合物、下述化学式1所示的含磷化合物、和水，(化学式1)所述化学式1中，r1及r2分别独立地为氢原子、羟基、或者非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基，r3为非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基。2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述化学式1中的r1、r2、及r3中的至少1者为非取代的直链状的碳数1～20的烷氧基。3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其中，所述含磷化合物为磷酸酯化合物。4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其用于硅晶圆的预研磨工序。5.一种硅晶圆外周部的平坦性改善剂，其包含下述化学式1所示的含磷化合物，(化学式1)上述化学式1中，r1及r2分别独立地为氢原子、羟基、或者非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基，r3为非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基。6.一种研磨方法，其为硅晶圆的研磨方法，该方法使用权利要求1～4中任一项所述的研磨用组合物进行研磨。7.一种研磨方法，其为硅晶圆的研磨方法，该方法使用权利要求5所述的平坦性改善剂进行研磨。

技术总结
本发明提供：能够维持高研磨速度，并且改善硅晶圆的外周部的平坦性的方法。本发明为一种研磨用组合物，其用于对硅晶圆进行研磨，且包含磨粒、碱性化合物、下述化学式1所示的含磷化合物、和水，所述化学式1中，R1及R2分别独立地为氢原子、羟基、或者非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基，R3为非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基。或支链状的碳数1～20的烷氧基。或支链状的碳数1～20的烷氧基。


技术研发人员：田边谊之 谷口惠
受保护的技术使用者：福吉米株式会社
技术研发日：2020.08.18
技术公布日：2022/5/10