矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置的制作方法

技术特征：
1.矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)上端左右两侧对称固定连接有支撑板(2)，所述支撑板(2)上端固定连接有磁控溅射靶装置本体(3)；所述磁控溅射靶装置本体(3)内部设有用于驱散该装置工作时产生的热量用的散热机构，所述底板(1)上端设有用于提升散热机构用的扩散机构。2.根据权利要求1所述的矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置，其特征在于：所述扩散机构包括第一电机(4)、往复丝杆(5)、滑动块(6)、第一伸缩杆(7)、转动盘(8)和连杆(9)。3.根据权利要求2所述的矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置，其特征在于：左右两侧所述支撑板(2)表面设有滑槽(10)，所述第一电机(4)与右侧滑槽(10)滑动连接且左侧滑槽(10)内滑动连接有滑块(11)，所述往复丝杆(5)与第一电机(4)输出轴固定连接且与滑块(11)转动连接；所述转动盘(8)分布与底板(1)的左右两侧位置且左侧转动盘(8)与往复丝杆(5)固定连接，右侧所述转动盘(8)与第一电机(4)输出轴右端固定连接，所述连杆(9)与转动盘(8)表面边缘位置转动连接且连杆(9)另一端与支撑板(2)转动连接；所述往复丝杆(5)与滑动块(6)螺纹配合，所述滑动块(6)与底板(1)上端面滑动配合且滑块(11)上端与第一伸缩杆(7)转动连接。4.根据权利要求2所述的矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置，其特征在于：所述散热机构包括散热筒(12)、第二电机(13)、扇叶(14)和第二伸缩杆(15)。5.根据权利要求4所述的矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置，其特征在于：所述散热筒(12)位于滑动块(6)上端位置且散热筒(12)与第一伸缩杆(7)转动连接；所述第二电机(13)位于散热筒(12)内部且第二电机(13)与散热筒(12)固定连接，所述第二电机(13)输出轴与扇叶(14)固定连接；所述第二伸缩杆(15)分布在散热筒(12)左右两端位置且第二伸缩杆(15)一端与散热筒(12)转动连接，所述第二伸缩杆(15)另一端与磁控溅射靶装置本体(3)固定连接。

技术总结
本实用新型公开了磁控溅射技术领域的矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置，包括底板，底板上端左右两侧对称固定连接有支撑板，支撑板上端固定连接有磁控溅射靶装置本体；磁控溅射靶装置本体内部设有用于驱散该装置工作时产生的热量用的散热机构，底板上端设有用于提升散热机构用的扩散机构；该装置操作简单，使用方便，通过一个散热风扇即可给装置内部较大的范围进行散热，有效的提升了散热范围和散热效果。和散热效果。和散热效果。


技术研发人员：孔伟华
受保护的技术使用者：江苏东玖光电科技有限公司
技术研发日：2021.10.29
技术公布日：2022/4/6