光栅结构、镜片及头戴显示设备的制作方法

技术特征：
1.一种光栅结构，所述光栅结构包括基底和设于所述基底一表面的多个光栅部，多个光栅部在所述基底的延伸方向上间隔排布，其特征在于，所述光栅部的至少部分表面镀设有增强层，所述增强层的折射率大于所述光栅部的折射率。2.如权利要求1所述的光栅结构，其特征在于，所述增强层的材料为二氧化钛、氧化铝和氧化镁中的一种；和/或，所述增强层的折射率是所述光栅部的折射率的1.25倍及以上。3.如权利要求2所述的光栅结构，其特征在于，每一所述光栅部包括与所述基底表面相平行的顶面、和连接于所述顶面与所述基底表面的侧面，所述顶面、侧面及所述基底设有所述光栅部的表面均设有所述增强层；和/或，所述基底的材料为二氧化硅或树脂；和/或，所述光栅部的材料为二氧化硅或树脂。4.如权利要求3所述的光栅结构，其特征在于，所述顶面、侧面及所述基底的表面中的至少两者镀设的增强层的厚度不相同。5.如权利要求4所述的光栅结构，其特征在于，在多个所述光栅部的排布方向上，所述光栅部的高度大于所述光栅部的宽度，所述顶面和所述基底的表面镀设的增强层的厚度相同，并小于所述侧面镀设的增强层的厚度。6.如权利要求5所述的光栅结构，其特征在于，所述顶面镀设的增强层的厚度为所述侧面镀设的增强层的厚度的70％～80％。7.如权利要求4所述的光栅结构，其特征在于，在多个所述光栅部的排布方向上，所述光栅部的高度小于所述光栅部的宽度，所述顶面和所述基底的表面镀设的增强层的厚度相同，并大于所述侧面镀设的增强层的厚度。8.如权利要求3所述的光栅结构，其特征在于，设定所述光栅结构的周期为a，所述增强层的厚度d的范围为4％a～6％a。9.如权利要求8所述的光栅结构，其特征在于，每一所述光栅部的高度h的范围为40％a～60％a；和/或，在多个所述光栅部的排布方向上，每一所述光栅部的宽度范围为15％a～35％a。10.如权利要求1至9任一项所述的光栅结构，其特征在于，所述增强层通过原子层沉积、化学气相沉积、物理气相沉积或磁控溅射的方式镀设；和/或，所述光栅结构为耦入光栅或耦出光栅。11.一种镜片，其特征在于，所述镜片包括衬底和如权利要求1至10中任一项所述的光栅结构，所述基底背离所述光栅部的表面贴设于所述衬底的表面。12.一种头戴显示设备，其特征在于，所述头戴显示设备包括图像源和如权利要求11所述的镜片，所述镜片位于所述图像源的出光侧。13.如权利要求12所述的头戴显示设备，其特征在于，所述光栅结构为耦入光栅时，其与所述图像源正对设置；和/或，所述图像源为硅基液晶模块、透射液晶模块、数字光处理模块或激光扫描模块。14.如权利要求12所述的头戴显示设备，其特征在于，所述图像源的视场角的范围为40
°
～60
°
；
和/或，所述图像源的出射光线波长范围为520nm～530nm。

技术总结
本发明公开了一种光栅结构、镜片及头戴显示设备，所述光栅结构包括基底和设于所述基底一表面的多个光栅部，多个光栅部在所述基底的延伸方向上间隔排布，所述光栅部的至少部分表面镀设有增强层，所述增强层的折射率大于所述光栅部的折射率。本发明的技术方案通过镀膜对光栅结构进行优化，提高光栅结构的折射率，从而提高光栅的衍射效率和均匀性。而提高光栅的衍射效率和均匀性。而提高光栅的衍射效率和均匀性。


技术研发人员：刘立川 饶轶
受保护的技术使用者：歌尔股份有限公司
技术研发日：2021.11.29
技术公布日：2022/3/21