一种真空镀膜机的分体式镀锅的制作方法

技术特征：
1.一种真空镀膜机的分体式镀锅，所述分体式镀锅位于真空镀膜机的腔室的顶部，其特征在于，所述分体式镀锅包括骨架(1)、伞面件(2)和固定件(3)，所述骨架(1)分别与伞面件(2)和固定件(3)连接，所述固定件(3)与骨架(1)固定并与驱动部件连接，所述驱动部件为所述分体式镀锅提供旋转的动能，所述骨架(1)包括中心圆环部(11)、边沿圆环部(12)和伞骨(13)，所述中心圆环部(11)位于边沿圆环部(12)的上方且中心处，伞骨(13)的一端连接中心圆环部(11)另一端连接边沿圆环部(12)，伞骨(13)有多个且均匀分布，中心圆环部(11)和边沿圆环部(12)之间被伞骨(13)形成多个均匀的伞面室(14)，伞骨(13)、伞面件(2)和伞面室(14)的数量相同，中心圆环部(11)的外边沿、伞骨(13)的内边沿和伞骨(13)的两个侧边沿均为梯形，伞面件(2)的形状和大小与伞面室(14)相对应，伞面件(2)能够放置在伞面室(14)上，伞面件(2)包括通孔(21)，通孔(21)上能够放置被镀膜工件。2.如权利要求1所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，所述骨架(1)具有2
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12个伞骨(13)和伞面室(14)。3.如权利要求2所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，所述中心圆环部(11)由中心圆环主体部(111)和中心圆环外边沿部(112)组成，中心圆环外边沿部(112)设置在中心圆环主体部(111)的外边沿，中心圆环外边沿部(112)的底面与中心圆环主体部(111)的底面持平，中心圆环外边沿部(112)的高度小于中心圆环主体部(111)的高度。4.如权利要求2所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，边沿圆环部(12)由边沿圆环主体部(121)和边沿圆环内边沿部(122)组成，边沿圆环内边沿部(122)设置在边沿圆环主体部(121)的内边沿，边沿圆环内边沿部(122)的底面与边沿圆环主体部(121)的底面持平，边沿圆环内边沿部(122)的高度小于边沿圆环主体部(121)的高度。5.如权利要求2所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，伞骨(13)由伞骨主体部(131)和设置在伞骨主体部(131)的两个侧边沿的伞骨边沿部(132)组成，伞骨边沿部(132)的底面与伞骨主体部(131)的底面持平，伞骨边沿部(132)的高度小于伞骨主体部(131)的高度。6.如权利要求1所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，所述伞面件(2)还包括把手(22)，一个伞面件(2)有两个把手(22)，两个把手(22)分别位于伞面件(2)的两个侧边。7.如权利要求1所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，伞面件(2)上的通孔(21)有多个，通孔(21)均匀分布在伞面件(2)上。8.如权利要求1所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，伞面件(2)还包括托盘(23)、压盖(24)、和压条(25)，托盘(23)为中空的薄片，将被镀膜工件放置在托盘(23)上，压盖(24)盖在被镀膜工件上，压条(25)压住压盖(24)，使得托盘(23)、被镀膜工件及压盖(24)与伞面件(2)固定。9.如权利要求8所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，一个压盖(24)设置有一个或者多个压条(25)，压条(25)的一端通过螺丝与伞面件(2)连接，压条(25)能够进行旋转，压条(25)螺丝固定的这端的水平面高于压条(25)的另一端，因此压条(25)的另一端放在压盖(24)上时，能够对压盖(24)产生压力，使得托盘(23)、被镀膜工件及压盖(24)与伞面件(2)固定。10.如权利要求1所述的真空镀膜机的分体式镀锅，其特征在于，所述固定件(3)通过螺丝或螺钉与骨架(1)的中心圆环部(11)固定；所述固定件(3)包括外圆环部(31)、电机连接
部(32)和连接件(33)，外圆环部(31)的尺寸与骨架(1)的中心圆环部(11)相同，电机连接部(32)与所述驱动部件连接，电机连接部(32)位于外圆环部(31)的中心，连接件(33)有多个并将外圆环部(31)与电机连接部(32)连接固定。

技术总结
本申请提供一种真空镀膜机的分体式镀锅，所述分体式镀锅位于真空镀膜机的腔室的顶部，所述分体式镀锅包括骨架、伞面件和固定件，所述骨架分别与伞面件和固定件连接，固定件与骨架固定并与驱动部件连接，骨架包括中心圆环部、边沿圆环部和伞骨，中心圆环部位于边沿圆环部的上方且中心处，伞骨的一端连接中心圆环部另一端连接边沿圆环部，伞骨有多个且均匀分布，中心圆环部和边沿圆环部之间被伞骨形成多个均匀的伞面室，伞骨、伞面件和伞面室的数量相同，中心圆环部的外边沿、伞骨的内边沿和伞骨的两个侧边沿均为梯形，伞面件的形状和大小与伞面室相对应，伞面件能够放置在伞面室上，伞面件包括通孔，通孔上能够放置被镀膜工件。通孔上能够放置被镀膜工件。通孔上能够放置被镀膜工件。


技术研发人员：薛蒙晓
受保护的技术使用者：苏州佑伦真空设备科技有限公司
技术研发日：2021.06.30
技术公布日：2021/12/14