一种蒸镀机的掩膜板基台和蒸镀机的制作方法

1.本实用新型实施例涉及蒸镀技术，尤其涉及一种蒸镀机的掩膜板基台。


背景技术：

2.蒸镀机是显示面板制造过程中的重要设备，其性能直接影响生产出的显示面板质量。因此随着显示面板的发展，蒸镀机越来越受到人们的关注。
3.现有蒸镀机的不同制程腔体和不同掩膜板之间的匹配较差，由此导致掩膜板和待蒸镀的基板不能紧密贴合，进而导致掩膜板的开孔和基板待蒸镀区域存在偏移量，二者不能很好地嵌合。
4.解决上述问题的通常方式只能通过实际镀膜，用荧光光致发光量测系统量测不同位置的镀膜偏移量。如果在实际生产中发现镀膜偏移问题，也就是混色，只能将蒸镀腔体降温开腔来处理，会浪费大量的量产产能和有机材料。


技术实现要素：

5.本实用新型提供一种蒸镀机的掩膜板基台和蒸镀机，用以对齐掩膜板的开孔和基板待蒸镀区域，大大降低了量产产能的浪费和有机材料的浪费。
6.第一方面，本实用新型实施例提供了一种蒸镀机的掩膜板基台，所述掩膜板基台包括：
7.控制单元；
8.中空区域；
9.边框区域，所述边框区域围绕所述中空区域设置，用于承托掩膜板的边沿，所述边框区域包括：
10.至少一个升降装置，所述升降装置包括：
11.开孔，所述开孔设置于所述边框区域与所述掩膜板的边沿的接触面；
12.升降支撑单元，所述升降支撑单元至少部分容置于所述开孔内；
13.升降动作模块，所述升降动作模块连接所述升降支撑单元，所述升降动作模块的被控端连接所述控制单元。
14.可选的，所述升降支撑单元还包括压力感知器，所述压力感知器的输入输出端连接所述控制单元。
15.可选的，所述边框区域包括至少三个边框，每个所述边框包括至少一个所述升降装置。
16.可选的，所述边框区域包括四个所述边框。
17.可选的，所述边框区域包括四个边框，四个所述边框中相对的两个所述边框设置有所述升降装置。
18.可选的，设置有所述升降装置的所述边框设置有多个所述升降装置，所述升降装置沿所在所述边框的延伸方向分布。
19.可选的，设置有所述升降装置的所述边框上的所述升降装置，沿所在所述边框的延伸方向呈双排分布。
20.可选的，设置有所述升降装置的所述边框上的所述升降装置，沿所在所述边框的延伸方向等间隔分布。
21.可选的，所述边框区域沿轴对称，所述轴位于所述边框区域所在平面内，所述边框区域中相对的两个所述边框上的多个所述升降装置沿所述轴对称。
22.第二方面，本实用新型实施例还提供了一种蒸镀机，使用上述任一蒸镀机的掩膜板基台。
23.本实用新型实施例中的掩膜板基台包括：控制单元；中空区域；边框区域，所述边框区域围绕所述中空区域设置，用于承托掩膜板的边沿，所述边框区域包括：至少一个升降装置，所述升降装置包括：开孔，所述开孔设置于所述边框区域与所述掩膜板的边沿的接触面；升降支撑单元，所述升降支撑单元至少部分容置于所述开孔内；升降动作模块，所述升降动作模块连接所述升降支撑单元，所述升降动作模块的被控端连接所述控制单元。通过升降装置的调节，减小掩膜板与位于掩膜板上方的基板边缘间的缝隙，使得掩膜板与基板平整贴合。因此大大减小了掩膜板的开孔和基板待蒸镀区域的偏移量。大大降低了量产产能的浪费和有机材料的浪费。
附图说明
24.图1为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的平面结构示意图；
25.图2为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的剖面结构示意图；
26.图3为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一剖面结构示意图；
27.图4为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一剖面结构示意图；
28.图5为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一剖面结构示意图；
29.图6为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图；
30.图7为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图；
31.图8为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图；
32.图9为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图；
33.图10为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图。
具体实施方式
34.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
35.在本实用新型实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本实用新型。需要注意的是，本实用新型实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本实用新型实施例的限定。此外在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件被形成在另一个元件“上”或“下”时，其不仅能够直接形成在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接形成在另一元件“上”或者“下”。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是
用来区分不同的组成部分。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
36.图1为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的平面结构示意图，图2为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的剖面结构示意图。其中图2为图1虚线处剖面的剖面图，参考图1和图2。本实用新型实施例提供了一种蒸镀机的掩膜板基台，掩膜板基台包括：控制单元(图中未示出)；中空区域1；边框区域2，边框区域2围绕中空区域1设置，用于承托掩膜板的边沿，边框区域2包括：至少一个升降装置，升降装置包括：
37.开孔(图中未示出)，开孔设置于边框区域2与掩膜板的边沿的接触面；
38.升降支撑单元31，升降支撑单元31至少部分容置于开孔内；
39.升降动作模块32，升降动作模块32连接升降支撑单元31，升降动作模块32的被控端连接控制单元。
40.其中，掩膜板基台的边框区域2承托掩膜板的边沿。在蒸镀过程中，被蒸镀物蒸汽通过掩膜板基台的中空区域1达到掩膜板和被蒸镀基板上，以实现蒸镀。升降支撑单元31可以是柱状物，可以在开孔内沿垂直于边框区域2所在面的方向移动。升降支撑单元31可以包括金属柱，升降动作模块32可以在控制单元的控制下将升降支撑单元31升起或降下，进而改变升降支撑单元31与蒸镀机背板之间的掩膜板和基板贴合的紧密程度。在实际使用时，控制单元可以根据操作手柄的控制信号，控制升降动作模块32向蒸镀机背板运动。压紧掩膜板和基板的边缘，减少掩膜板翘曲，使得掩膜板和基板的贴合更为平整，进而使掩膜板和基板对齐，减小掩膜板的开孔和基板待蒸镀区域的偏移量。其中升降动作模块32可以是任意一种能够带动升降支撑单元31运动的模块，例如可以是直线电机。控制单元可以是任意一种能够控制升降动作模块32运动的计算单元，例如单片机、微控制器、片上系统、工控计算机、可编程逻辑控制器等。本实用新型实施例不针对升降动作模块和控制单元的具体类型进行限定。
41.图3为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一剖面结构示意图，图4为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一剖面结构示意图，图5为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一剖面结构示意图，参见图3到图5。在另一些实施例中，升降支撑单元31还包括压力感知器311，压力感知器311的输入输出端连接控制单元。
42.其中，压力感知器311用于获取升降支撑单元31在运动方向上所承受的压力，本实用新型实施例不针对压力感知器311的具体类型进行限定，任何能够满足上述功能的器件均可作为压力感知器311。例如压电陶瓷传感器即可作为压力感知器311。压力感知器311可以设置在金属柱的上端、中间或下端等位置。在升降动作模块32带动升降支撑单元31运动的过程中，压力感知器311可以将升降支撑单元31所承压力传输到控制单元，由控制单元根据实时压力数据控制升降动作模块32带动升降支撑单元31上升或下降。控制方法可以根据实际需要确定。例如，控制方法可以是通过压力感知器311获取升降支撑单元31所承实时压力。当实时压力大于预设压力范围，控制单元通过控制升降动作模块32带动升降支撑单元31下降；当实时压力小于预设压力范围，控制单元通过控制升降动作模块32带动升降支撑单元31上升。其中预设压力范围可以根据实际需要确定。上述实施方式可以使掩膜板边缘与基板边缘之间的压力均一，掩膜板与基板之间因此能够平整贴合。大大减小了掩膜板的开孔和基板待蒸镀区域的偏移量。
43.图6为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图，图7为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图，参见图6和图7。在另一些实施例中，边框区域2包括至少三个边框，每个边框包括至少一个升降装置。
44.其中，掩膜板基台的边框区域2可以是由三个边框组成的三角形(图6)，四个边框组成的四边形(图7)，五个边框组成的五边形等多边形。在每一个边框上均包括至少一个升降装置。由此可以调节每一边框上的压力，通过调节使得每一边框上的压力均一且合适，使得掩膜板与基板之间的贴合更为平整。
45.在上一实施例基础上，边框区域2包括四个边框。
46.图8为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图，参见图8。在另一些实施例中，边框区域2包括四个边框，四个边框中相对的两个边框设置有升降装置。
47.其中，在四个边框中，相对的两个边框设置有升降装置，另外两个边框没有升降装置。这种实施方式可以在掩膜板与基板之间较为贴合的基础上，节省升降装置的安放数量，进而降低蒸镀机成本。
48.在上述实施例基础上，设置有升降装置的边框设置有多个升降装置，升降装置沿所在边框的延伸方向分布。
49.其中，每个设置有升降装置的边框上可以设置5
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20个升降装置，通过边框上的多个升降装置，可以进一步提升边框上的压力均一性，掩膜板与基板之间的贴合更为平整。
50.图9为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图，参见图9。在上一实施例基础上，设置有升降装置的边框上的升降装置，沿所在边框的延伸方向呈双排分布。
51.其中，可以将升降装置设置为两排，用以进一步提升边框上的压力均一性，掩膜板与基板之间的贴合更为平整。
52.在上述实施例基础上，设置有升降装置的边框上的升降装置，沿所在边框的延伸方向等间隔分布。
53.其中，由于升降装置的间隔相等，因此边框上的压力均一性更好，进而使掩膜板与基板之间的贴合更为平整。
54.图10为本实用新型实施例提供的一种掩膜板基台的另一平面结构示意图，参见图10，其中虚线为轴。在上述实施例基础上，边框区域2沿轴对称，轴位于边框区域2所在平面内，边框区域2中相对的两个边框上的多个升降装置沿轴对称。
55.其中，由于两个边框上的多个升降装置沿轴对称，因此掩膜板的受力沿轴对称，进一步提升了边框上的压力均一性，使得掩膜板与基板之间的贴合更为平整。
56.本实用新型实施例还提供了一种蒸镀机，使用了上述任一蒸镀机的掩膜板基台。由于本实用新型实施例中的蒸镀机使用了与上述实施例相同的掩膜板基台，因此具有上述实施例的有益效果。
57.注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施
例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。