无缝全像图图案转移方法与流程

1.本发明是有关一种全像图图案转移制程，尤指一种形成无接缝全像图的图案转移方法。


背景技术：

2.以往在制作全像图图案转移时，请参考图1、图2，先于滚轮10上组装薄片状的全像版11，再将全像版11上的全像纹路图案转移至材料20上，使材料20具有相对应的全像纹路图案21。上述全像纹路图案转移方式，转移后的材料20上两相邻的全像纹路图案21之间，会留下对应于全像板11的接缝12的间隙22。因此，转移后的材料20在后续使用时，因为间隙22的存在而会造成材料20极大的浪费。一种改良的技术如图3所示，利用制作光阻、显影以将图案转移，其中当形成光阻层时，滚轮10倾斜设置，光阻材料系利用滴涂(drip coating)的方式慢慢涂布于滚轮10上，此种制程程序需耗费十几个工作天，且涂布的均匀度不是非常好，导致影响后续转印制程。
3.有鉴于上述已知结构的缺失，制造质量良好、符合成本效益又适合于全像图图案转移的图案转移方法便是目前极需努力的目标。


技术实现要素：

4.本发明提供一种无缝全像图图案转移方法，直接以蚀刻方式将图案转移至金属滚轮上，以达良率及成本优化。
5.本发明一实施例的一种无缝全像图图案转移方法，用于将一图案形成于一金属滚轮上，包括以下步骤：形成一光阻层于金属滚轮；于光阻层进行一微影制程步骤使光阻层图案化为一图案化光阻层；施加一电场于金属滚轮，以图案化光阻层为屏蔽进行一异向性蚀刻步骤，以将图案蚀刻于金属滚轮上；以及移除图案化光阻层。
6.以下借由具体实施例配合所附的图式详加说明，当更容易了解本发明的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。
附图说明
7.在此描述的附图仅用于解释目的，而不意图以任何方式来限制本发明公开的范围。另外，图中的各部件的形状和比例尺寸等仅为示意性的，用于帮助对本发明的理解，并不是具体限定本发明各部件的形状和比例尺寸。本领域的技术人员在本发明的教导下，可以根据具体情况选择各种可能的形状和比例尺寸来实施本发明。
8.图1至图3为本发明的现有技术的示意图。
9.图4为本发明的一实施例的无缝全像图图案转移方法的流程示意图。
10.图5-1至图5-4显示本发明的一实施例的图案化感光层制造方法的结构剖视示意图。
11.附图标记说明：
12.10、滚轮；
13.11、全像版；
14.12、接缝；
15.20、材料；
16.21、全像纹路图案；
17.22、间隙；
18.100、金属滚轮；
19.200、光阻层；
20.201、图案化光阻层；
21.202、第一图案化感光胶层；
22.l、线宽；
23.s、线距；
24.h、深度；
25.s100、形成一光阻层于金属滚轮；
26.s101、于光阻层进行一微影制程步骤使光阻层图案化为一图案化光阻层；
27.s102、施加一电场于金属滚轮，以图案化光阻层为屏蔽进行一异向性蚀刻步骤，以将图案蚀刻于金属滚轮上；
28.s103、移除图案化光阻层。
具体实施方式
29.以下将详述本发明的各实施例，并配合图式作为例示。除了这些详细说明之外，本发明亦可广泛地施行于其它的实施例中，任何所述实施例的轻易替代、修改、等效变化都包含在本发明的范围内，并以权利要求范围为准。在说明书的描述中，为了使读者对本发明有较完整的了解，提供了许多特定细节；然而，本发明可能在省略部分或全部特定细节的前提下，仍可实施。此外，众所周知的步骤或组件并未描述于细节中，以避免对本发明形成不必要的限制。图式中相同或类似的组件将以相同或类似符号来表示。特别注意的是，图式仅为示意之用，并非代表组件实际的尺寸或数量，有些细节可能未完全绘出，以求图式的简洁。
30.本发明的一实施例的一种无缝全像图图案转移方法，用于将一图案形成于一金属滚轮上，其包括以下步骤：先以适当方式形成一光阻层于金属滚轮上，接着，图案化光阻层，再来，将光阻层上的图案转移至金属滚轮上。详细说明如下。
31.请先参考图4及图5-1至图5-4，图4显示本发明的一实施例的无缝全像图图案转移方法的流程示意图；而图5-1至图5-4显示本发明的一实施例的制造方法的结构剖视示意图。首先，请参考图4与图5-1，提供一金属滚轮100，于一实施例中，金属滚轮为圆柱形金属滚轮，其中金属滚轮的材质包含但不限于不锈钢。以适当方式，形成一光阻层200于金属滚轮上100(步骤s100)。接着，对光阻层200进行一微影制程步骤(lithography)使光阻层200图案化为一图案化光阻层201(步骤s101)，可以理解的是，微影制程包含曝光、显影等步骤，此即不再赘述。于一实施例中，请参考图5-2，于微影制程步骤中，图案的一线宽l与一线距s的比值为1，而于又一实施例中，依据不同的图案设计，图案的线宽l的长度范围可为0.1微米(um)至1.5微米(um)且线距s的长度范围可为0.1微米(um)至1.5微米(um)。
32.接续上述，请参考图5-3，施加一电场于金属滚轮100，并以图案化光阻层201为屏蔽进行一异向性蚀刻步骤，以将图案蚀刻于金属滚轮100上(步骤s102)。于一实施例中，异向性蚀刻步骤包含但不限于一电化学加工蚀刻步骤(electro-chemical machining，ecm)。于又一实施例中，图案蚀于金属滚轮的最大深度h为0.1微米(um)至2微米(um)之间。最后，移除图案化光阻层(步骤s103)，移除后的结构如图5-4所示。本发明直接将图案刻在金属滚轮上，可有效降低成本。
33.根据上述，本发明的无缝全像图图案转移方法，使用涂布方式形成光阻，且不使用电镀制程，有较降低制程时间与成本。而最终无缝全像图产品(end product)，可使用薄膜对薄膜(film-to-film)热压制程，以有效达成无接缝的目的。
34.综合上述，本发明的无缝全像图图案转移方法，直接以蚀刻方式将图案转移至金属滚轮上，以达良率及成本优化。
35.以上所述的实施例仅是为说明本发明的技术思想及特点，其目的在使本领域技术人员能够了解本发明的内容并据以实施，当不能以之限定本发明的权利要求范围，即大凡依本发明所提出的精神所作的均等变化或修饰，仍应涵盖在本发明的专利范围内。


技术特征：
1.一种无缝全像图图案转移方法，用于将一图案形成于一金属滚轮上，其特征在于，该无缝全像图图案转移方法包含以下步骤：形成一光阻层于该金属滚轮；于该光阻层进行一微影制程步骤使该光阻层图案化为一图案化光阻层；施加一电场于该金属滚轮，以该图案化光阻层为屏蔽进行一异向性蚀刻步骤，以将该图案蚀刻于该金属滚轮上；以及移除该图案化光阻层。2.如权利要求1所述的无缝全像图图案转移方法，其特征在于，该微影制程步骤中，该图案的一线宽与一线距的比值为1。3.如权利要求2所述的无缝全像图图案转移方法，其特征在于，该线宽为0.1微米至1.5微米且该线距为0.1微米至1.5微米。4.如权利要求1所述的无缝全像图图案转移方法，其特征在于，该异向性蚀刻步骤为一电化学加工蚀刻步骤。5.如权利要求1所述的无缝全像图图案转移方法，其特征在于，该图案蚀刻于该金属滚轮的最大深度为0.1微米至2微米之间。6.如权利要求1所述的无缝全像图图案转移方法，其特征在于，该金属滚轮的材质为不锈钢。

技术总结
一种无缝全像图图案转移方法，用于将一图案形成于一金属滚轮上，其包括下列步骤：形成一光阻层于金属滚轮；于光阻层进行一微影制程步骤以使光阻层图案化为一图案化光阻层；施加一电场于金属滚轮，以图案化光阻层为屏蔽进行一异向性蚀刻步骤，以将图案蚀刻于金属滚轮上；以及移除图案化光阻层。利用本发明图案转移方法，可达良率及成本优化。可达良率及成本优化。可达良率及成本优化。


技术研发人员：林刘恭
受保护的技术使用者：光群雷射科技股份有限公司
技术研发日：2020.05.11
技术公布日：2021/11/14