一种硼掺杂纳米硅的制备方法与流程

技术特征：
1.一种硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)取氧化硅、镁粉和氧化硼混合，在室温下进行球磨，得到混合均匀的混合物；(2)向步骤(1)得到的混合物中加入戊醇，再加入重量百分比浓度为5％wt
‑
20％wt的稀盐酸，浸没20
‑
40分钟，固液分离，得到纳米硅固体；(3)向步骤(2)得到的纳米硅固体中依次加入乙醇和水进行洗涤，固液分离得到固体，在60
‑
80℃的温度下真空加热干燥固体，得到硼掺杂纳米硅。2.根据权利要求1所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，还包括步骤：(4)步骤(3)得到的硼掺杂纳米硅使用hf溶液刻蚀，除去所述硼掺杂纳米硅的表面氧化层，乙醇洗涤，固液分离得到固体，在60
‑
80℃的温度下真空加热干燥固体，得到无氧化层的硼掺杂纳米硅。3.根据权利要求1所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述氧化硼在所述混合物中质量分数为1
‑
10％，所述氧化硅与镁粉的质量比为1
‑
1.5。4.根据权利要求1所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，球料比为10:1
‑
50:1，球磨时间为200
‑
600min。5.根据权利要求1所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，固液分离采用离心分离或过滤分离，其中离心分离的转速为10000
‑
15000rpm。6.根据权利要求1所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，干燥固体在真空条件下进行，在60
‑
80℃的温度下真空加热干燥3
‑
5h。7.根据权利要求2所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，hf溶液的重量百分比浓度为0.1％wt
‑
40％wt。8.根据权利要求2所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，固液分离采用离心分离或过滤分离，其中离心分离的转速为10000
‑
15000rpm。9.根据权利要求2所述的硼掺杂纳米硅的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，干燥固体在真空条件下进行，在60
‑
80℃的温度下真空加热干燥3
‑
5h。

技术总结
本发明公开了一种硼掺杂纳米硅的制备方法，包括以下步骤：(1)取氧化硅、镁粉和氧化硼混合，在室温下进行球磨，得到混合均匀的混合物；(2)向步骤(1)得到的混合物中加入戊醇，再加入重量百分比浓度为5％wt


技术研发人员：陈顺鹏 郑捷 李星国
受保护的技术使用者：北京大学
技术研发日：2021.07.27
技术公布日：2021/11/2