使用独立离子源与自由基源进行衬底处理的装置以及技术本技术主张2019年12月2日提出申请且名称为“使用独立离子源与自由基源进行衬底处理的装置以及技术(apparatus and techniques for substrate processing using independent ion source and radical source)”的美国临时专利申请第62/942,430号的优先权,所述美国临时专利申请的全部内容并入本案供参考。技术领域2.本公开涉及衬底处理,且更具体来说,涉及使用多个不同的