掩模制造装置的制作方法

技术特征：
1.一种掩模制造装置，包括：台，支承对象掩模；以及光照射部，布置在所述台上，并且向所述对象掩模照射激光；其中，所述对象掩模包括：对象掩模片，包括前表面和后表面；以及掩模框架，包括与所述后表面面对的上表面和与所述上表面相对的下表面，所述台包括：第一支承部，支承所述对象掩模片；以及第二支承部，支承所述掩模框架，其中，所述第一支承部和所述第二支承部能够在厚度方向上具有阶梯差。2.根据权利要求1所述的掩模制造装置，其中，所述第一支承部包括与所述对象掩模片的所述后表面或所述前表面面对的第一表面，所述第二支承部包括与所述掩模框架的所述下表面或所述上表面面对的第二表面，以及所述阶梯差在所述厚度方向上对应于所述第一表面与所述第二表面之间的距离。3.根据权利要求1所述的掩模制造装置，其中，所述第一支承部和所述第二支承部形成为一体。4.根据权利要求1所述的掩模制造装置，其中，所述第二支承部围绕所述第一支承部。5.根据权利要求2所述的掩模制造装置，其中，所述台包括所述第一表面面对所述对象掩模片的所述前表面的第一状态和所述第一表面面对所述对象掩模片的所述后表面的第二状态，以及在所述第一状态下，所述激光照射到所述对象掩模片的所述后表面上，且在所述第二状态下，所述激光照射到所述对象掩模片的所述前表面上。6.根据权利要求5所述的掩模制造装置，其中，在所述第一状态下的所述台还包括布置在所述第二支承部上的第三支承部，其中，所述第一支承部和所述第三支承部中的每个支承所述对象掩模片的所述前表面，以及所述第三支承部的厚度与所述阶梯差相同。7.根据权利要求5所述的掩模制造装置，其中，所述第二支承部对应于所述第一状态和所述第二状态中的每个而在所述厚度方向上移动。8.根据权利要求7所述的掩模制造装置，其中，在所述第一状态下，所述第二支承部的所述第二表面在截面上与所述第一表面齐平，且所述第一支承部和所述第二支承部中的每个支承所述对象掩模片的所述前表面，以及在所述第二状态下，所述第二支承部的所述第二表面在截面上与所述第一表面具有所述阶梯差，且所述第一支承部支承所述对象掩模片的所述后表面，且所述第二支承部支承所述掩模框架的所述下表面。9.根据权利要求8所述的掩模制造装置，其中，
所述阶梯差在所述厚度方向上等于所述对象掩模片的所述后表面与所述掩模框架的所述下表面之间的高度差。10.根据权利要求1所述的掩模制造装置，其中，所述第一支承部包括静电卡盘和磁体中的至少一种。

技术总结
本发明一实施例的掩模制造装置可以包括：台，支承对象掩模；以及光照射部，布置在所述台上，并且向所述对象掩模照射激光。对象掩模可以包括：对象掩模片，包括前表面和后表面；以及掩模框架，包括与后表面面对的上表面与上表面相对的下表面。台可以包括：第一支承部，支承对象掩模片：以及第二支承部，支承掩模框架，其中，第一支承部和第二支承部在厚度方向上具有阶梯差。阶梯差。阶梯差。


技术研发人员：黄圭焕 金桢国 金辉 南刚铉 朴相河 李娥凛 赵恩翡 晋丞民 洪宰敏
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2022.03.30
技术公布日：2023/2/17