氮化硅激光熔覆的方法与流程

技术特征：
1.一种涂覆生物医学植入物的表面的方法，其包括：提供所述生物医学植入物；使所述生物医学植入物的至少一个表面粗糙化；在所述至少一个粗糙化的表面上激光熔覆氮化硅的涂层，所述激光熔覆包括：将激光束引导至所述生物医学植入物的至少一个粗糙化的表面；以及将粉末混合物预先施加或同时将包括氮化硅粉末的粉末混合物引导至所述生物医学植入物的所述至少一个粗糙化的表面；以及重复激光熔覆步骤直到氮化硅的涂层具有至少10μm的厚度。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述生物医学植入物包括氧化锆、氧化铝、氧化铝/氧化锆复合材料(zta)、钛、钛合金、聚乙烯、聚氨酯、聚醚醚酮和/或聚醚酮酮。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述生物医学植入物包括氧化钇稳定的氧化锆。4.根据权利要求2所述的方法，其中所述生物医学植入物包括ti6al4v。5.根据权利要求1所述的方法，其中氮化硅的涂层包括约5wt.％至约15wt.％的氮化硅。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述氮化硅粉末包括α-si3n4、β-si3n4、β-siyalon、sialon或siyon。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述氮化硅粉末由研磨的针状β-si3n4晶粒和si-y-o-n晶界相形成。8.根据权利要求1所述的方法，其中使所述生物医学植入物的所述至少一个表面粗糙化包括使用游离研磨机械加工或喷砂来形成随机划痕。9.根据权利要求7所述的方法，其中划痕为约5μm至500μm宽。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述激光束具有约1064nm的波长和约4ms的脉冲速率。11.根据权利要求1所述的方法，其中激光器是100瓦皮秒激光器，其被调谐成分别以5,500mm/s的光栅速度、以25％的功率水平和200μm至500μm的脉冲宽度发射纳秒脉冲，以1000khz操作，影线距离为0.03mm，影线重叠60.34％，并且激光冲击的距离为0.0055mm。12.根据权利要求1所述的方法，其中激光熔覆被重复至少三次。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述氮化硅的涂层具有至少15μm的厚度。14.根据权利要求1所述的方法，其中所述激光熔覆进一步包括:供应恒定流量的氮气。15.一种生物医学植入物，其包括使用权利要求1所述的方法涂覆的表面。16.一种促进骨生成的方法，其包括：使包括激光熔覆的氮化硅涂层的生物医学植入物与组织接触。17.根据权利要求16所述的方法，其中与没有所述激光熔覆的氮化硅涂层的植入物相比，在所述生物医学植入物上骨组织产生增加。18.根据权利要求17所述的方法，其中与没有所述激光熔覆的氮化硅涂层的植入物相比，在所述生物医学植入物上骨钙素和骨桥蛋白的分布增加。19.根据权利要求17所述的方法，其中与没有所述激光熔覆的氮化硅涂层的植入物相比，所述骨组织在所述生物医学植入物上具有更高程度的交联。
20.根据权利要求17所述的方法，其中与没有所述激光熔覆的氮化硅涂层的植入物相比，在所述生物医学植入物上矿化组织增加。21.根据权利要求18所述的方法，其中与没有所述激光熔覆的氮化硅涂层的植入物相比，在所述生物医学植入物上存在矿物羟基磷灰石的增加。

技术总结
本文公开了用于在生物医学植入物的表面激光熔覆涂层的方法。生物医学植入物可以是具有用于促进骨生成的激光熔覆的氮化硅涂层的植入物。植入物。植入物。


技术研发人员：B
受保护的技术使用者：辛特科技公司
技术研发日：2021.04.22
技术公布日：2023/2/13