用于沉积应用的高温面板的制作方法

技术特征：
1.一种用于处理腔室的面板，包括：主体，所述主体具有穿过所述主体形成的多个孔；加热组件，所述加热组件设置在所述主体内，所述加热组件环绕所述多个孔；以及支撑环，所述支撑环设置在所述主体中，所述支撑环环绕所述加热组件，所述支撑环包括主要体和从所述主要体径向向内延伸的悬臂，所述悬臂接触所述面板的所述主体。2.如权利要求1所述的面板，其中所述主体包括铝，并且所述支撑环包括铝、氧化铝、氮化铝、氧化硅、氮化硅、或不锈钢。3.如权利要求1所述的面板，进一步其中在所述悬臂的径向向内表面与所述面板的所述主体之间形成间隙。4.如权利要求1所述的面板，进一步其中在所述悬臂的下表面与所述面板的所述主体之间形成间隙。5.如权利要求1所述的面板，进一步其中在所述支撑环的所述主要体的径向向内表面与所述面板的所述主体之间形成第一间隙，并且在所述主体的上表面与所述面板的所述主体之间形成第二间隙。6.如权利要求5所述的面板，其中所述第一间隙和所述第二间隙各自在约0.1mm至5mm的范围内。7.如权利要求1所述的面板，其中所述悬臂的厚度在约8mm至20mm的范围内。8.如权利要求1所述的面板，其中所述主体包括各自从所述主体的外表面向外延伸的第一延伸部和第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部一起限定用于接收所述支撑环的凹陷。9.如权利要求8所述的面板，所述第一延伸部和所述第二延伸部中的每一者在其径向向外边缘处相比于在其径向向内边缘处具有更大的厚度。10.如权利要求9所述的面板，其中所述第一延伸部和所述第二延伸部中的每一者的所述径向向外边缘接触所述支撑环，并且所述第一支撑环和所述第二支撑环中的每一者的所述径向向内边缘与所述支撑环间隔开。11.一种用于处理腔室的面板，包括：主体，所述主体具有穿过所述主体形成的多个孔，所述主体包括各自从所述主体的外表面向外延伸的第一延伸部和第二延伸部，所述第一延伸部和所述第二延伸部一起限定凹陷，所述第一延伸部和所述第二延伸部中的每一者在其径向向外边缘处相比于在其径向向内边缘处具有更大的厚度；加热组件，所述加热组件设置在所述主体内，所述加热组件环绕所述多个孔，所述加热组件位于所述第一延伸部和所述第二延伸部的径向内侧；以及支撑环，所述支撑环设置在所述主体的所述凹陷中，所述支撑环包括主要体并且环绕所述加热组件，其中所述第一延伸部和所述第二延伸部中的每一者的所述径向向外边缘接触所述支撑环，并且所述第一支撑环和所述第二支撑环中的每一者的所述径向向内边缘与所述支撑环间隔开。12.如权利要求11所述的面板，其中所述主体包括铝，并且所述支撑环包括铝、氧化铝、氮化铝、氧化硅、氮化硅、或不锈钢。13.如权利要求12所述的面板，其中所述支撑环进一步包括从所述主要体径向向内延
伸的悬臂。14.如权利要求13所述的面板，进一步其中在所述悬臂的径向向内表面与所述面板的所述主体之间形成间隙。15.如权利要求14所述的面板，其中所述间隙在约0.1mm至5mm的范围内。16.如权利要求14所述的面板，进一步其中在所述悬臂的下表面与所述面板的所述主体之间形成间隙。17.如权利要求16所述的面板，其中所述间隙在约0.1mm至5mm的范围内。18.种处理腔室，包括：腔室主体；基板支撑件，所述基板支撑件设置在所述腔室主体中；以及盖组件，所述盖组件设置在所述腔室主体上，所述盖组件包括：面板，所述面板包括：主体，所述主体具有穿过所述主体形成的多个孔；加热组件，所述加热组件设置在所述主体内，所述加热组件环绕所述多个孔；以及支撑环，所述支撑环设置在所述主体中，所述支撑环环绕所述加热组件，所述支撑环包括主要体和从所述主要体径向向内延伸的悬臂，所述悬臂接触所述面板的所述主体。19.如权利要求18所述的处理腔室，其中所述主体包括铝，并且所述支撑环包括铝、氧化铝、氮化铝、氧化硅、氮化硅、或不锈钢。20.如权利要求18所述的面板，进一步其中在所述悬臂的径向向内表面与所述面板的所述主体之间形成间隙。

技术总结
本公开的实施例涉及用于处理腔室的面板。在一个示例中，面板包括主体，主体具有穿过主体形成的多个孔。加热组件设置在主体内，并且加热组件环绕多个孔。支撑环设置在主体中。支撑环环绕加热组件。支撑环包括主要体和从主要体径向向内延伸的悬臂。悬臂接触面板的主体。悬臂接触面板的主体。悬臂接触面板的主体。


技术研发人员：A
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2021.05.18
技术公布日：2023/2/13