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离合器胶圈磨削加工装置的制作方法

2023-02-16 11:19:25 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及胶圈加工装置领域,具体涉及一种离合器胶圈磨削加工装置。


背景技术:

2.现有技术的离合器通常包括有飞架,在飞架上常安装有胶圈。由于离合器对各部件的尺寸精度要求高,因此对胶圈的外形也提出了要求。鉴于直接采购的胶圈的形状及尺寸通常无法直接匹配离合器的需求,因此离合器的生产厂家还需要对胶圈进行二次加工使其达到规定的尺寸。但是,现有技术中对胶圈的加工方法只是简单地将胶圈固定好后再用砂轮等磨削装置进行磨削,不仅加工效率不高,并且由于多采用手工磨削,精度也不高。


技术实现要素:

3.本实用新型所要解决的技术问题是:现有技术中磨削胶圈的方案不仅效率低,精度也不高。
4.为了解决上述技术问题,本实用新型提供的技术方案如下:
5.本方案提供了一种离合器胶圈磨削加工装置,包括:
6.磨削组件,用于磨削胶圈;
7.胶圈安装装置,至少包括两个用于安装胶圈的定位座,每个所述定位座连接有位移驱动装置,所述位移驱动装置用于驱动所述定位座靠近或远离所述磨削组件。
8.在一种优选的方案中,所述位移驱动装置包括:移动平台,所述定位座安装于所述移动平台上;推动装置,用于驱动所述移动平台移动以使得所述定位座靠近或远离所述磨削组件。
9.在一种进一步优选的方案中,所述移动平台连接有用于引导所述移动平台移动的滑轨。
10.在一种进一步优选的方案中,所述离合器胶圈磨削加工装置还包括:缓冲器,安装于所述移动平台上并可随所述移动平台移动;限位部件,位于靠近所述磨削组件的位置处并可被所述缓冲器识别;其中,所述缓冲器与所述推动装置电连接,当所述缓冲器检测到所述缓冲器与所述限位部件之间的距离小于预定值时,所述缓冲器驱使所述推动装置减速并最终使得所述移动平台在靠近所述磨削组件的位置处停止运动。
11.在一种优选的方案中,所述磨削装置包括砂轮和用于驱动所述砂轮旋转的砂轮驱动组件。
12.在一种优选的方案中,离合器胶圈磨削加工装置还设有集尘罩,所述集尘罩在所述磨削装置磨削胶圈时罩住胶圈,所述集尘罩上设有可供所述定位座穿过的移入孔。
13.在一种进一步优选的方案中,所述集尘罩上设有用于外接吸尘风机的风机连接位。
14.在一种优选的方案中,所述定位座连接有用于驱动所述定位座旋转的旋转驱动装置。
15.在一种优选的方案中,所述磨削组件可在自动和手动之间自由切换。
16.在一种优选的方案中,还设有用于驱使离合器胶圈磨削加工装置整体停止工作的急停开关。
17.上述方案的优点在于,该方案所提供的离合器胶圈磨削加工装置的优选实施例可以自动完成对胶圈的磨削加工。由于定位座连接有位移驱动装置,可以实现对定位座位置的调节,不仅可以自动完成进料和退料,而且还可以调整加工时定位座与磨削组件之间的距离,从而调整加工出的胶圈的形状。同时,由于设有两个以上的定位座,可以同时加工多个胶圈,因此也具有效率高的优点。
附图说明
18.图1所示为离合器胶圈磨削加工装置的一种优选实施例的示意图;
19.图2所示为离合器胶圈磨削加工装置的一种优选实施例的另一方向的结构示意图;
20.图3所示为离合器胶圈磨削加工装置的一种优选实施例的内部各组件的示意图;
21.图4所示为离合器胶圈磨削加工装置的一种优选实施例在隐藏外罩状态下的结构示意图;
22.图5所示为优选实施例中胶圈安装装置的结构示意图;
23.图6所示为优选实施例中的集尘罩的结构示意图;
24.图7所示为优选实施例中的集尘罩的另一方向的结构示意图。
25.附图标记说明:10、工作台;11、定位座;12、移动平台;13、安装板;131、限位部件;14、滑轨;15、缓冲器;16、推动装置;2、旋转驱动装置;3、机架;4、砂轮;41、砂轮驱动组件;5、集尘罩;51、前集尘罩;510、移入孔;511、砂轮避让孔;52、后集尘罩;520、风机连接位;6、控制组件;60、控制面板;61、外罩;62、控制箱;63、开关。
具体实施方式
26.为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
27.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
28.在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,一体地连接,也可以是可拆卸连接;可以是两个元件内部的连通;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
29.如图1至图3所示,在离合器胶圈磨削加工装置的一种优选的实施例中,包括了磨削组件和胶圈安装装置。其中,磨削组件可以是任意现有技术中用来磨削加工的装置,本实施例中优选的采用砂轮4作为磨削组件来对胶圈进行磨削加工。具体来说,磨削组件包括砂
轮4以及用于驱动砂轮4旋转的砂轮驱动装置41,砂轮4是一种表面粗糙的部件,在旋转时通过摩擦力来实现磨削。砂轮驱动装置41可以是电机,用于自动驱动砂轮4旋转;也可以是手摇式的驱动装置,方便手动控制砂轮4旋转,手摇式的驱动装置属于现有技术;当然也可以自动和手动两者兼用,并根据需要自动切换。砂轮驱动装置41的具体结构属于现有技术,在此不多做赘述。当然,所述的磨削组件也可以是其他任意现有技术中用于磨削的装置,在此也不再一一例举。胶圈安装装置包括定位座11和位移驱动装置。其中定位座11的结构根据所需固定安装的胶圈结构设计,使用者可以根据实际情况将定位座11设计为任意结构形状,在此不做特别的限定,所属领域技术人员可以参照现有技术进行设计。位移驱动装置用于驱使定位座11移动,使得定位座11能够靠近或远离磨削组件。在定位座11靠近磨削组件后,磨削组件可以对安装于定位座11上的胶圈进行磨削加工;而在加工完毕后,位移驱动装置再驱使定位座11远离磨削组件,从而方便取下胶圈。进一步的来说,通过调整磨削时定位座11与磨削组件之间的距离,可以起到调节磨削组件加工后的胶圈的形状的功能。
30.在本优选的实施例中,参照图5,位移驱动装置包括移动平台12、推动装置16以及滑轨14。其中,移动平台12用于安装定位座11,推动装置16用于推动移动平台12运动,共同实现驱使定位座11移动的功能。推动装置16可以是气缸或电推杆等装置。移动平台12滑动安装于滑轨14上,滑轨14起到导向的作用。为了便于安装上述各装置,本实施例中,离合器胶圈磨削加工装置还包括了机架3,在机架3上设置有工作台10,推动装置16以及滑轨14均设置与工作台10上。
31.在进一步优选的方案中,在移动平台12上还固定安装有缓冲器15,缓冲器15与推动装置16电连接。同时,在靠近磨削装置的位置处还设有可被缓冲器15所识别到的限位部件131。缓冲器15的功能是驱使移动平台12减速,防止移动平台12撞上磨削组件。具体来说,在大于预定值的范围内,移动平台12以及设于移动平台12上的各部件均与磨削组件之间保持有安全距离,不会产生碰撞;而在移动平台12与磨削组件之间的距离小于预定值后,如果移动平台12继续按原速移动,就具有移动平台12与磨削组件之间发生碰撞的风险。缓冲器15设定为当缓冲器15识别到自身与限位部件131之间的距离小于预定值时,缓冲器15向推动装置16反馈一个信号,推动装置16接收信号后减速并最终停止,使得移动平台12在合适的位置停止运动,以便磨削组件后续对安装于定位座11上的胶圈进行加工。优选的,在工作台10上靠近磨削组件的位置设置有安装板13,限位部件131安装于安装板13上。
32.参照图4、图6和图7,在工作台10上还安装有集尘罩5,集尘罩5的功能是在磨削组件工作时罩住胶圈,防止磨削组件磨削工作产生的粉尘飞散,起到防尘的功能。具体来说,集尘罩5设置在磨削组件处,在本实施例中集尘罩5罩住了砂轮4,同时定位座11靠近砂轮4后,定位座4同样位于集尘罩5内,以使得砂轮4在磨削胶圈时所产生的粉尘被集尘罩5所阻挡,放置粉尘四处飞散。集尘罩5包括前集尘罩51和后集尘罩52,前集尘罩51和后集尘罩52固定连接,共同围成一个用于集尘的腔室。在前集尘罩51上分别开设有移入孔510和砂轮避让孔511,其中移入孔510用于避让开定位座11,以便定位座11能够移入或移出集尘罩5;砂轮避让孔511用于供砂轮4穿过,防止砂轮4与集尘罩5之间出现结构上的干涉。进一步优选的方案中,后集尘罩52设有风机连接位520,风机连接位520用于外接吸尘风机,便于吸尘风机直接吸收并收集粉尘。
33.参照图5,定位座11还连接有旋转驱动装置2,在磨削胶圈时定位座11也能够旋转,
以便磨削装置能够对胶圈的各个位置进行磨削。
34.在本实施例中,在工作台10上还设有控制组件6,用于对装置整体进行控制。具体来说,控制组件6包括外罩61和控制箱62,其中外罩61内设置有用于控制砂轮驱动组件41的组件,通过设置在外罩61上的面板60控制砂轮驱动组件41的工作状态。控制箱62内设置有用于控制推动装置16的组件,并通过设置于控制箱62上的开关63进行控制。若干开关63中至少一个是急停开关,通过按下急停开关可以强制停止离合器胶圈磨削加工装置,以防止出现事故。这种优选的方案可以非常方便地实现对离合器胶圈磨削加工装置整体地控制。
35.总之,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
再多了解一些

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