掩膜框架及掩膜板的制作方法

技术特征：
1.一种掩膜框架，其特征在于，所述掩膜框架包括支撑条，所述支撑条包括沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条和多个第三支撑条、以及沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第一支撑条、所述第二支撑条和所述第三支撑条沿第三方向依次叠层设置，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向均垂直；其中，所述第一支撑条和所述第二支撑条中的至少一个包括第一凹槽，所述第一凹槽设置于所述第一支撑条与所述第二支撑条的贴合位置处的表面；所述第三支撑条和所述第二支撑条中的至少一个包括第二凹槽，所述第二凹槽设置于所述第三支撑条和所述第二支撑条的贴合位置处的表面。2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述第一支撑条和所述第二支撑条均包括所述第一凹槽；所述第一支撑条上的第一凹槽朝向所述第二支撑条设置，所述第二支撑条上的第一凹槽朝向所述第一支撑条设置。3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述第二支撑条上设置有所述第一凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第二支撑条上的第一凹槽的深度之和，不小于所述第一支撑条上的第一凹槽的深度；所述第一支撑条上设置有所述第一凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第一支撑条上的第一凹槽的深度之和，不小于所述第二支撑条上的第一凹槽的深度。4.根据权利要求1至3任一项所述的掩膜框架，其特征在于，所述第三支撑条和所述第二支撑条均包括所述第二凹槽；所述第三支撑条上的第二凹槽朝向所述第二支撑条设置，所述第二支撑条上的第二凹槽朝向所述第三支撑条设置。5.根据权利要求4所述的掩膜框架，其特征在于，所述第二支撑条上设置有所述第二凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第二支撑条上的第二凹槽的深度之和，不小于所述第三支撑条上的第二凹槽的深度；所述第三支撑条上设置有所述第二凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第三支撑条上的第二凹槽的深度之和，不小于所述第二支撑条上的第二凹槽的深度。6.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，任意两个所述第一支撑条之间设置有一个所述第三支撑条，任意两个所述第三支撑条之间设置有一个所述第一支撑条。7.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述第一凹槽的底面与所述第一支撑条的朝向所述第二支撑条一侧的表面形成第一预定夹角；所述第二凹槽的底面与所述第三支撑条的朝向所述第二支撑条一侧的表面形成第二预定夹角。8.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述第一凹槽的底面和所述第二凹槽的底面开设有通孔。9.根据权利要求8所述的掩膜框架，其特征在于，所述通孔的孔径自凹槽的底面向远离凹槽的底面的方向上逐渐增大。10.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜框架，所述掩膜框架为权利要求1至9任一项所述的掩膜框架；掩膜条，所述掩膜条固定设置在所述掩膜框架上。

技术总结
本申请公开了一种掩膜框架及掩膜板，其中，所述掩膜框架包括支撑条，支撑条包括沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条和多个第三支撑条、以及沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条，第一方向与第二方向相交，第一支撑条、第二支撑条和第三支撑条沿第三方向依次叠层设置，第三方向与第一方向和第二方向均垂直；其中，第一支撑条和第二支撑条中的至少一个包括第一凹槽，第一凹槽设置于第一支撑条与第二支撑条的贴合位置处的表面；第三支撑条和第二支撑条中的至少一个包括第二凹槽，第二凹槽设置于第三支撑条和第二支撑条的贴合位置处的表面。通过上述方式，本申请能够减少各支撑条之间的偏移，提高遮挡效果，防止出现蒸镀材料漏蒸。蒸。蒸。


技术研发人员：臧公正
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
技术研发日：2022.11.10
技术公布日：2022/12/30