掩膜框架及掩膜板的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，尤其是涉及一种掩膜框架及掩膜板。


背景技术：

2.oled显示屏由于具备自发光、对比度高、厚度薄、反应速度快、可弯曲等优异特点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。目前oled工艺中的蒸镀工艺段，主要用精密掩膜板(fine metal mask，fmm)控制有机材料沉积在基板上的位置，进而完成像素的蒸镀。fmm由sheet mask、frame框架、支撑条等组成，sheet和支撑条通过激光焊接固定在frame上。目前x/y方向支撑条采用上下叠层结构设计，互相之间无约束，在蒸镀贴合过程中受到玻璃基板的挤压作用容易发生偏位，导致遮挡或者精度出现问题，出现蒸镀材料漏蒸。


技术实现要素：

3.本技术主要解决的技术问题是提供一种掩膜框架及掩膜板，能够减少各支撑条之间的偏移，提高遮挡效果，防止出现蒸镀材料漏蒸。
4.为解决上述技术问题，本技术采用的第一技术方案是提供一种掩膜框架，所述掩膜框架包括支撑条，所述支撑条包括沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条和多个第三支撑条、以及沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第一支撑条、所述第二支撑条和所述第三支撑条沿第三方向依次叠层设置，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向均垂直；其中，所述第一支撑条和所述第二支撑条中的至少一个包括第一凹槽，所述第一凹槽设置于所述第一支撑条与所述第二支撑条的贴合位置处的表面；所述第三支撑条和所述第二支撑条中的至少一个包括第二凹槽，所述第二凹槽设置于所述第三支撑条和所述第二支撑条的贴合位置处的表面。
5.其中，所述第一支撑条和所述第二支撑条均包括所述第一凹槽；所述第一支撑条上的第一凹槽朝向所述第二支撑条设置，所述第二支撑条上的第一凹槽朝向所述第一支撑条设置。
6.其中，所述第二支撑条上设置有所述第一凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第二支撑条上的第一凹槽的深度之和，不小于所述第一支撑条上的第一凹槽的深度；所述第一支撑条上设置有所述第一凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第一支撑条上的第一凹槽的深度之和，不小于所述第二支撑条上的第一凹槽的深度。
7.其中，所述第三支撑条和所述第二支撑条均包括所述第二凹槽；所述第三支撑条上的第二凹槽朝向所述第二支撑条设置，所述第二支撑条上的第二凹槽朝向所述第三支撑条设置。
8.其中，所述第二支撑条上设置有所述第二凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第二支撑条上的第二凹槽的深度之和，不小于所述第三支撑条上的第二凹槽的深度；所述第三支撑条上设置有所述第二凹槽的位置的剩余厚度的一半，与所述第三支撑条上的第二凹槽的深度之和，不小于所述第二支撑条上的第二凹槽的深度。
9.其中，任意两个所述第一支撑条之间设置有一个所述第三支撑条，任意两个所述第三支撑条之间设置有一个所述第一支撑条。
10.其中，所述第一凹槽的底面与所述第一支撑条的朝向所述第二支撑条一侧的表面形成第一预定夹角；所述第二凹槽的底面与所述第三支撑条的朝向所述第二支撑条一侧的表面形成第二预定夹角。
11.其中，所述第一凹槽的底面和所述第二凹槽的底面开设有通孔。
12.其中，所述通孔的孔径自凹槽的底面向远离凹槽的底面的方向上逐渐增大。
13.为解决上述技术问题，本技术采用的第二技术方案是提供一种掩膜板，所述掩膜板包括：掩膜框架，所述掩膜框架为上述任意一种掩膜框架；掩膜条，所述掩膜条固定设置在所述掩膜框架上。
14.本技术的有益效果是：区别于现有技术，本技术提供一种掩膜框架及掩膜板，掩膜框架包括支撑条，支撑条包括沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条和多个第三支撑条、以及沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条，第一方向与第二方向相交，所述第一支撑条、所述第二支撑条和所述第三支撑条沿第三方向依次叠层设置，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向均垂直；其中，第一支撑条和第二支撑条中的至少一个包括第一凹槽，第一凹槽设置于第一支撑条与第二支撑条的贴合位置处的表面；第三支撑条和第二支撑条中的至少一个包括第二凹槽，第二凹槽设置于第三支撑条和第二支撑条的贴合位置处的表面。通过将沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条设置于沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条的一侧，将沿第一方向间隔排布的多个第三支撑条设置于沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条的另一侧，第一方向与第二方向相交，第一支撑条、第二支撑条和第三支撑条沿第三方向依次叠层设置，第三方向与第一方向和第二方向均垂直，使得沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条和多个第三支撑条、以及沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条交替重叠排布形成网状结构，并且，通过在第一支撑条与第二支撑条的贴合位置处的表面设置第一凹槽，在第三支撑条和第二支撑条的贴合位置处的表面设置第二凹槽，使得在基板与掩膜板蒸镀贴合的过程中，掩膜框架在收到贴合压力时会因为第一凹槽和第二凹槽，与设置在第一凹槽和第二凹槽内的支撑条互相牵制，从而可以减小各支撑条之间的偏移，从而可以提高支撑条的遮挡效果，防止出现蒸镀材料漏蒸的情况。
附图说明
15.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1是本技术掩膜框架的一实施例的结构示意图；
17.图2是图1的局部结构a的示意详图；
18.图3a是图1中的第一支撑条或第三支撑条的一实施方式的侧视结构示意图；
19.图3b是图1中的第一支撑条或第三支撑条的一实施方式的俯视结构示意图；
20.图4a是图1中的第二支撑条的一实施方式的侧视结构示意图；
21.图4b是图1中的第二支撑条的一实施方式的俯视结构示意图；
22.图4c是图1中的第二支撑条的一实施方式的仰视结构示意图；
23.图5是图3a中的局部结构b的一实施方式的示意详图；
24.图6是图3a中的局部结构b的一实施方式的示意详图。
具体实施方式
25.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本技术保护的范围。
26.在本技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上文清楚地表示其他含义，“多种”一般包含至少两种，但是不排除包含至少一种的情况。
27.应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
28.应当理解，本文中使用的术语“包括”、“包含”或者其他任何变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
29.本技术提供一种掩膜框架10。请参阅图1和图2，其中，图1是本技术掩膜框架的一实施例的结构示意图，图2是图1的局部结构a的示意详图。在本实施例中，掩膜框架10包括支撑条11，支撑条11包括沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111和多个第三支撑条113、以及沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112，第一方向p1与第二方向p2相交，第一支撑条111、第二支撑条112和第三支撑条113沿第三方向p3依次叠层设置，第三方向p3与第一方向p1和第二方向p2均垂直；其中，第一支撑条111和第二支撑条112中的至少一个包括第一凹槽12，第一凹槽12设置于第一支撑条111与第二支撑条112的贴合位置处的表面；第三支撑条113和第二支撑条112中的至少一个包括第二凹槽13，第二凹槽13设置于第三支撑条113和第二支撑条112的贴合位置处的表面。
30.本技术实施例的掩膜框架10中，通过将沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111设置于沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112的一侧，将沿第一方向p1间隔排布的多个第三支撑条113设置于沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112的另一侧，第一方向p1与第二方向p2相交，如图1所示，第一支撑条111设置于第二支撑条112的下方，第三支撑条113设置于第二支撑条112的上方，使得沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111和多个第三支撑条113、以及沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112交替重叠排布形成网状结构，并且，通过在第一支撑条111与第二支撑条112的贴合位置处的表面设置第一凹槽12，在第三支撑条113和第二支撑条112的贴合位置处的表面设置第二凹槽13，使得在基板与掩膜板蒸镀贴合的过程中，掩膜框架10在收到贴合压力时会因为第一凹槽12和
第二凹槽13，与设置在第一凹槽12和第二凹槽13内的支撑条11互相牵制，从而可以减小各支撑条11之间的偏移，从而可以提高支撑条11的遮挡效果，防止出现蒸镀材料漏蒸的情况。
31.在一实施例中，掩膜框架10包括支撑框架(未图示)，各支撑条11固定设置于支撑框架上。具体地，掩膜框架10还可以包括用于固定支撑条11的支撑框架，第一支撑条111、第二支撑条112以及第三支撑条113分别与支撑框架固定连接，例如，可以将多个第一支撑条111沿第一方向p1等间距焊接在支撑框架上，然后将多个第二支撑条112沿第二方向p2等间距焊接在支撑框架上，此时第二支撑条112搭接在第一支撑条111上，之后再将多个第三支撑条113沿第一方向p1等间距焊接在支撑框架上，于是第三支撑条113搭接在第二支撑条112上，使得沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111和多个第三支撑条113、以及沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112交替重叠排布形成网状结构；并且，通过在第一支撑条111与第二支撑条112的贴合位置处的表面设置第一凹槽12，使得在将第二支撑条112搭接在第一支撑条111上后，第一凹槽12可以限制第二支撑条112与第一支撑条111之间的移动，而通过在第三支撑条113与第二支撑条112的贴合位置处的表面设置第二凹槽13，使得在将第三支撑条113搭接在第二支撑条112上后，第二凹槽13可以限制第二支撑条112与第三支撑条113之间的移动，于是在基板与掩膜板蒸镀贴合的过程中，掩膜框架10在收到贴合压力时会因为第一凹槽12和第二凹槽13，与设置在第一凹槽12和第二凹槽13内的支撑条11互相牵制，从而可以减小各支撑条11之间的偏移，从而可以提高支撑条11的遮挡效果，防止出现蒸镀材料漏蒸的情况。
32.请参阅图3a、图3b、图4a和图4c，其中，图3a是图1中的第一支撑条或第三支撑条的一实施方式的侧视结构示意图，图3b是图1中的第一支撑条或第三支撑条的一实施方式的俯视结构示意图，图4a是图1中的第二支撑条的一实施方式的侧视结构示意图，图4c是图1中的第二支撑条的一实施方式的仰视结构示意图。在一优选实施例中，第一支撑条111和第二支撑条112均包括第一凹槽12；第一支撑条111上的第一凹槽12朝向第二支撑条112设置，第二支撑条112上的第一凹槽12朝向第一支撑条111设置。如图3a所示，在第一支撑条111的上表面蚀刻出第一凹槽12，对应的，如图4a所示，在第二支撑条112的下表面也蚀刻出第一凹槽12，于是在将第二支撑条112搭接在第一支撑条111上时，第二支撑条112上的第一凹槽12与第一支撑条111上的第一凹槽12之间可以相互扣合而形成制约，以限制第二支撑条112与第一支撑条111之间的移动。
33.进一步地，第二支撑条112上与第一凹槽12相对应位置的剩余厚度的一半，与第二支撑条112上的第一凹槽12的深度之和，不小于第一支撑条111上的第一凹槽12的深度；第一支撑条111上与第一凹槽12相对应位置的剩余厚度的一半，与第一支撑条111上的第一凹槽12的深度之和，不小于第二支撑条112上的第一凹槽12的深度。具体地，第一支撑条111上的第一凹槽12的深度可以根据第二支撑条112上与第一凹槽12相对应位置的厚度来确定，同样地，第二支撑条112上的第一凹槽12的深度可以根据第一支撑条111上与第一凹槽12相对应位置的厚度来确定；通过将第二支撑条112上与第一凹槽12相对应位置的剩余厚度的一半，与第二支撑条112上的第一凹槽12的深度之和，设置为不小于第一支撑条111上的第一凹槽12的深度，可以避免第一支撑条111上的第一凹槽12的深度过大而导致第一支撑条111上对应位置的剩余厚度不足的情况，将第一支撑条111上与第一凹槽12相对应位置的剩余厚度的一半，与第一支撑条111上的第一凹槽12的深度之和，设置为不小于第二支撑条
112上的第一凹槽12的深度，可以避免第二支撑条112上的第一凹槽12的深度过大而导致第二支撑条112上对应位置的剩余厚度不足的情况，从而可以保证第一支撑条111以及第二支撑条112在第一凹槽12处的强度。
34.请参阅图3a、图3b、图4a和图4b，其中，图4b是图1中的第二支撑条的一实施方式的俯视结构示意图。在一优选实施例中，第三支撑条113和第二支撑条112均包括第二凹槽13；第三支撑条113上的第二凹槽13朝向第二支撑条112设置，第二支撑条112上的第二凹槽13朝向第三支撑条113设置。当图3a所示为第三支撑条113时，将所示的第三支撑条113通过上下翻转后进行安装，即在第三支撑条113的下表面蚀刻出第二凹槽13，对应的，如图4a所示，在第二支撑条112的上表面也蚀刻出第二凹槽13，于是在将第三支撑条113搭接在第二支撑条112上时，第二支撑条112上的第二凹槽13与第三支撑条113上的第二凹槽13之间可以相互扣合而形成制约，以限制第二支撑条112与第三支撑条113之间的移动。
35.进一步地，第二支撑条112上与第二凹槽13相对应位置的剩余厚度的一半，与第二支撑条112上的第二凹槽13的深度之和，不小于第三支撑条113上的第二凹槽13的深度；第三支撑条113上与第二凹槽13相对应位置的剩余厚度的一半，与第三支撑条113上的第二凹槽13的深度之和，不小于第二支撑条112上的第二凹槽13的深度。具体地，第三支撑条113上的第二凹槽13的深度可以根据第二支撑条112上与第二凹槽13相对应位置的厚度来确定，同样地，第二支撑条112上的第二凹槽13的深度可以根据第三支撑条113上与第二凹槽13相对应位置的厚度来确定；通过将第二支撑条112上与第二凹槽13相对应位置的剩余厚度的一半，与第二支撑条112上的第二凹槽13的深度之和，设置为不小于第三支撑条113上的第二凹槽13的深度，可以避免第三支撑条113上的第二凹槽13的深度过大而导致第三支撑条113上对应位置的剩余厚度不足的情况，将第三支撑条113上与第二凹槽13相对应位置的厚度的一半，与第三支撑条113上的第二凹槽13的深度之和，设置为不小于第二支撑条112上的第二凹槽13的深度，可以避免第二支撑条112上的第二凹槽13的深度过大而导致第二支撑条112上对应位置的剩余厚度不足的情况，从而可以保证第三支撑条113以及第二支撑条112在第二凹槽13处的强度。
36.在一优选实施例中，多个第一支撑条111与多个第三支撑条113之间间隔设置，任意两个第一支撑条111之间设置有一个第三支撑条113，任意两个第三支撑条113之间设置有一个第一支撑条111。通过将多个第一支撑条111和多个第三支撑条113沿第一方向p1间隔并交替排布的形式，由于第一支撑条111设置于第二支撑条112的一侧，第三支撑条113设置于第二支撑条112的背对第一支撑条111的另一侧，使得沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111和多个第三支撑条113，与沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112之间交替重叠排布形成紧密的网状结构。
37.请结合图5，图5是图3a中的局部结构b的一实施方式的示意详图。在一实施例中，第一凹槽12的底面与第一支撑条111的朝向第二支撑条112一侧的表面形成第一预定夹角；第二凹槽13的底面与第三支撑条113的朝向第二支撑条112一侧的表面形成第二预定夹角。通过在第一凹槽12的底面与第一支撑条111的朝向第二支撑条112一侧的表面形成第一预定夹角，使得第一凹槽12的底面相对于掩膜框架10的承载面来说倾斜设置，使得在蒸镀过程中药液可以沿着倾斜设置的第一凹槽12的底面向掩膜框架10的下方流出，可以避免药液过多残留在第一凹槽12内而向掩膜框架10的上方溢出；同样地，第二凹槽13的底面与第三
支撑条113的朝向第二支撑条112一侧的表面形成第二预定夹角，使得第二凹槽13的底面相对于掩膜框架10的承载面来说倾斜设置，使得在蒸镀过程中药液可以沿着倾斜设置的第二凹槽13的底面向掩膜框架10的下方流出，可以避免药液过多残留在第二凹槽13内而向掩膜框架10的上方溢出。
38.请结合图6，图6是图3a中的局部结构b的一实施方式的示意详图。在一实施例中，第一凹槽12的底面和第二凹槽13的底面开设有通孔14。通过在第一凹槽12的底面开设通孔14，使得在蒸镀过程中残留在第一凹槽12内的药液可以通过通孔14排出，同样地，在第二凹槽13的底面开设通孔14，使得在蒸镀过程中残留在第二凹槽13内的药液可以通过通孔14排出。在一实施例中，通孔14的横截面可以为方形，在其他实施例中，通孔14的横截面也可以为圆形或者其他形状。
39.进一步地，位于第一凹槽12的底面的通孔14，其孔径自第一凹槽12的底面向远离第一凹槽12的底面的方向上逐渐增大；位于第二凹槽13的底面的通孔14，其孔径自第二凹槽13的底面向远离第二凹槽13的底面的方向上逐渐增大。通过设置孔径逐渐增大的通孔14，可以防止药液残留在第一凹槽12和第二凹槽13内。
40.本技术还提供了一种掩膜板(未图示)，掩膜板包括掩膜框架10和掩膜条(未图示)，掩膜框架为上述任意一种掩膜框架10，掩膜条固定设置在掩膜框架10上。
41.综上所述，在本技术的掩膜板的掩膜框架10中，通过将沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111设置于沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112的一侧，将沿第一方向p1间隔排布的多个第三支撑条113设置于沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112的背对第一支撑条111的另一侧，第一方向p1与第二方向p2相交，第一支撑条111、第二支撑条112和第三支撑条113沿第三方向p3依次叠层设置，第三方向p3与第一方向p1和第二方向p2均垂直，使得沿第一方向p1间隔排布的多个第一支撑条111和多个第三支撑条113、以及沿第二方向p2间隔排布的多个第二支撑条112交替重叠排布形成网状结构，并且，通过在第一支撑条111与第二支撑条112的贴合位置处的表面设置第一凹槽12，在第三支撑条113和第二支撑条112的贴合位置处的表面设置第二凹槽13，使得在基板与掩膜板蒸镀贴合的过程中，掩膜框架10在收到贴合压力时会因为第一凹槽12和第二凹槽13，与设置在第一凹槽12和第二凹槽13内的支撑条11互相牵制，从而可以减小各支撑条11之间的偏移，从而可以提高支撑条11的遮挡效果，防止出现蒸镀材料漏蒸的情况。
42.以上所述仅为本技术的实施方式，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本技术的专利保护范围内。