一种立体印花面料及其制备方法

技术特征：
1.一种立体印花面料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在基布的至少一个表面形成具有预设图案的发泡印花涂层；通过stober法在所述发泡印花涂层的表面生长sio2纳米粒子，并使所述sio2纳米粒子自组装形成层叠在所述发泡印花涂层上的光子晶体层，得到所述立体印花面料。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在基布的至少一个表面形成具有预设图案的发泡印花涂层包括：配置包含热塑性树脂、发泡剂、尿素和添加剂的发泡浆料；将所述发泡浆料通过网版在基布的至少一个表面印制涂层后，经加热处理形成所述具有预设图案的发泡印花涂层。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，通过stober法在所述发泡印花涂层表面生长sio2纳米粒子，并使所述sio2纳米粒子自组装形成层叠在所述发泡印花涂层上的光子晶体层包括：在无水乙醇中加入所述无水乙醇质量7-12％的去离子水和质量5-10％的氨水，充分混合后加入所述无水乙醇质量5-15％的正硅酸乙酯形成反应液；使具有发泡印花涂层的基布与所述反应液在40-45℃接触反应18-22h，然后将所述基布于60-70℃烘干，以便形成所述光子晶体层。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，通过stober法在所述发泡印花涂层表面生长sio2纳米粒子之前包括：在所述发泡印花涂层的表面形成保护层；对所述基布除所述发泡印花涂层之外的表面进行拒水拒油整理后去除所述保护层。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，通过stober法在所述发泡印花涂层表面生长sio2纳米粒子具体包括：将去除所述保护层的基布浸入所述反应液，以200-400r/min的搅拌速度于40-45℃下反应18-22h。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在形成所述光子晶体层之后，还包括：在所述光子晶体层上形成封装层，所述封装层包覆所述光子晶体层并延伸至与所述基布连接。7.根据权利要求6所述的制备方法，所述封装层是通过在所述光子晶体层上涂覆光固化封装剂并经光固化处理获得；可选的，所述光固化封装剂包含三乙二醇二甲基丙烯酸酯、樟脑醌和过氧化二异丙苯。8.一种立体印花面料，经权利要求1-7任一项所述的制备方法制备得到，其特征在于，包括：基布；发泡印花涂层，所述发泡印花涂层形成在所述基布的至少一个表面且具有预设图案；以及光子晶体层，所述光子晶体层层叠在所述发泡印花涂层的表面。9.根据权利要求8所述的立体印花面料，其特征在于，还包括：形成在所述光子晶体层上的封装层，所述封装层包覆所述光子晶体层并延伸至与所述基布连接。
10.根据权利要求9所述的立体印花面料，其特征在于，所述光子晶体层的厚度为10-15μm：和/或，所述封装层的厚度为15-20μm。

技术总结
本申请的实施例公开了一种立体印花面料及其制备方法。所述立体印花面料的制备方法包括以下步骤：在基布的至少一个表面形成具有预设图案的发泡印花涂层；通过Stober法在所述发泡印花涂层的表面生长SiO2纳米粒子，并使所述SiO2纳米粒子自组装形成层叠在所述发泡印花涂层上的光子晶体层，得到所述立体印花面料。本发明首次提出采用双层法工艺制备基于结构生色的立体印花面料，本申请的制备工序简便、易于实施、普适性强、着色持久稳定，制备得到的结构生色面料表面具有立体的“浮雕”效果，且其色彩明亮、自然、深邃、栩栩如生，克服了传统立体发泡印花工艺的缺点，在制备过程中不使用染料、颜料等化学色素，具有生态环保的优势。具有生态环保的优势。具有生态环保的优势。


技术研发人员：金梦婷 刘国金 张耘箫 周岚 向娇娇 李宇城
受保护的技术使用者：浙江理工大学
技术研发日：2022.08.09
技术公布日：2022/11/18