一种抛光垫调节装置和化学机械抛光系统的制作方法

技术特征：
1.一种抛光垫调节装置，其特征在于，包括：冲洗管路(1)、吸液管路(2)和修整盘(3)，所述修整盘(3)开设有吸液孔(31)和冲洗孔(32)，所述冲洗孔(32)与冲洗管路(1)连通，所述吸液孔(31)与吸液管路(2)连通，所述冲洗管路(1)内流动有清洗介质，所述清洗介质用于冲洗抛光垫上的研磨残余物，所述吸液管路(2)设有抽吸单元(21)，所述吸液管路(2)用于抽吸残留在抛光垫上的研磨残余物和清洗介质。2.根据权利要求1所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述冲洗管路(1)设有冲洗控制阀(11)，所述吸液管路(2)设有吸液控制阀(22)。3.根据权利要求2所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述冲洗控制阀(11)与吸液控制阀(22)互锁连接；当冲洗控制阀(11)开启冲洗管路(1)时，吸液控制阀(22)自动关闭吸液管路(2)；当吸液控制阀(22)开启吸液管路(2)时，冲洗控制阀(11)自动关闭冲洗管路(1)。4.根据权利要求1所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述冲洗管路(1)包括输入段(12)，第二连接段(13)和输出段(14)，所述输出段(14)包括若干个冲洗分管(141)，所述冲洗分管(141)与冲洗孔(32)相连，所述第二连接段(13)的一端与输入段(12)旋转密封连接，另一端与冲洗分管(141)相连。5.根据权利要求1所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述吸液管路(2)包括吸液段(23)，第一连接段(24)和排放段(25)，所述吸液段(23)包括若干个吸液分管(231)，所述吸液分管(231)与吸液孔(31)相连，所述第一连接段(24)的一端与排放段(25)旋转密封连接，另一端与吸液分管(231)相连。6.根据权利要求5所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述吸液孔(31)为条形孔结构，所述条形孔结构沿修整盘(3)的径向布置，若干个所述吸液孔(31)沿修整盘(3)的周向均匀布置，所述吸液分管(231)的输入端与吸液孔(31)的形状匹配。7.根据权利要求1至6中任一项所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述修整盘(3)为钻石盘。8.根据权利要求1至6中任一项所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，所述清洗介质为去离子水。9.根据权利要求1至6中任一项所述的一种抛光垫调节装置，其特征在于，还包括壳体(4)，所述修整盘(3)与壳体(4)相连，所述壳体(4)内设有容纳腔(41)，所述冲洗管路(1)、吸液管路(2)至少部分设置在容纳腔(41)内。10.一种化学机械抛光系统，其特征在于，包括：抛光垫调节装置和驱动装置(5)，所述抛光垫调节装置包括壳体(4)、冲洗管路(1)、吸液管路(2)和修整盘(3)，所述冲洗管路(1)和吸液管路(2)设置于壳体(4)内，所述修整盘(3)开设有吸液孔(31)和冲洗孔(32)，所述冲洗孔(32)与冲洗管路(1)连通，所述吸液孔(31)与吸液管路(2)连通，所述冲洗管路(1)内流动有清洗介质，所述清洗介质用于冲洗抛光垫上的研磨残余物，所述吸液管路(2)设有抽吸单元(21)，所述吸液管路(2)用于抽吸残留在抛光垫上的研磨残余物和清洗介质；所述驱动装置(5)与壳体(4)转动连接，用于调节抛光垫调节装置的位置并控制抛光垫调节装置进行旋转运动。

技术总结
本实用新型提供了一种抛光垫调节装置和化学机械抛光系统，抛光垫调节装置包括：冲洗管路、吸液管路和修整盘，所述修整盘开设有吸液孔和冲洗孔，所述冲洗孔与冲洗管路连通，所述吸液孔与吸液管路连通，所述冲洗管路内流动有清洗介质，所述清洗介质用于冲洗抛光垫上的研磨残余物，所述吸液管路设有抽吸单元，所述吸液管路用于抽吸残留在抛光垫上的研磨残余物和清洗介质。化学机械抛光系统包括抛光垫调节装置和驱动装置。通过摩擦将附着在抛光垫孔槽内的研磨液残渣刮出，再使用去离子水对抛光垫表面进行冲洗，同时将冲洗后的去离子水抽离抛光垫表面，防止在后续晶圆研磨工艺过程中在晶圆表面产生划痕或者微粒，改善晶圆研磨质量，提高工作效率。提高工作效率。提高工作效率。


技术研发人员：丁彦荣
受保护的技术使用者：成都高真科技有限公司
技术研发日：2022.05.31
技术公布日：2022/10/28