衬底处理系统及衬底处理方法与流程

技术特征：
1.一种衬底处理系统，具备：第1衬底保持单元，包含从下侧与具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底对向的第1基座，将所述衬底以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持；保护膜涂布喷嘴，对于由所述第1衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面，至少在周缘部涂布保护膜；第1翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第1姿势变化为所述保护对象面朝向下侧的第2姿势；第2衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第2基座，将所述衬底以所述第2姿势保持；以及洗净单元，将由所述第2衬底保持单元保持的所述衬底的所述洗净对象面洗净。2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述第1衬底保持单元包含第1吸附保持单元，该第1吸附保持单元使所述洗净对象面的中央部吸附在所述第1基座，而保持所述衬底。3.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述第2衬底保持单元包含多个夹盘销，这些夹盘销支撑在所述第2基座上，与所述衬底的所述保护对象面的周缘部接触。4.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述保护膜涂布喷嘴构成为对所述衬底的整个所述保护对象面涂布所述保护膜，所述第2衬底保持单元包含第2吸附保持单元，该第2吸附保持单元使所述保护对象面的中央部吸附在所述第2基座而保持所述衬底。5.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述洗净单元包含喷雾嘴，该喷雾嘴通过朝向所述洗净对象面喷射洗净液的液滴，而对所述洗净对象面执行喷雾洗净。6.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述洗净单元包含洗净部件，该洗净部件与所述衬底的所述洗净对象面接触，将所述洗净对象面刷洗洗净。7.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其还具备：第2翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第2姿势变化为所述第1姿势；第3衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第3基座，将所述衬底以所述第1姿势保持；以及去除液喷嘴，将从所述保护对象面去除所述保护膜的去除液供给至由所述第3衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面。8.根据权利要求7所述的衬底处理系统，其中所述第1衬底保持单元兼作为所述第3衬底保持单元。9.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其还具备：第2翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第2姿势变化为所述第1姿势；第3衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第3基座，将所述衬底以所述第1姿势保持；以及干式去除单元，通过对所述保护对象面执行等离子体处理或光照射处理，而从所述保护对象面去除所述保护膜。10.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其还具备气体供给单元，该气体供给单元对由所述第2衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面与所述第2基座之间的空间
供给气体。11.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其还具备：收容器载置部件，载置将所述衬底以所述第1姿势收容的收容器；以及搬送单元，具有与所述衬底的所述洗净对象面及所述保护对象面中朝向下侧的面的周缘部接触的机械手，在所述收容器载置部件、所述第1衬底保持单元、所述第1翻转单元及所述第2衬底保持单元之间搬送所述衬底。12.一种衬底处理方法，包含：第1衬底保持工序，将具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底，以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持在从上侧与第1基座对向的第1保持位置；保护膜涂布工序，对于通过所述第1衬底保持工序，以所述第1姿势保持在所述第1保持位置的所述衬底的所述保护对象面，至少在周缘部涂布保护膜；第1翻转工序，在所述保护膜涂布工序之后，使第1翻转单元与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第1姿势变化为所述保护对象面朝向下侧的第2姿势；第2衬底保持工序，将通过所述第1翻转工序使姿势成为所述第2姿势的所述衬底，保持在从上侧与第2基座对向的第2保持位置；以及洗净工序，对通过所述第2衬底保持工序以所述第2姿势保持在所述第2保持位置的所述衬底的所述洗净对象面执行洗净。13.根据权利要求12所述的衬底处理方法，其包含：第2翻转工序，在所述洗净工序之后，使第2翻转单元与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第2姿势变化为所述第1姿势；第3衬底保持工序，将通过所述第2翻转工序使姿势成为所述第1姿势的所述衬底保持在从上侧与第3基座对向的第3保持位置；以及保护膜去除工序，对通过所述第3衬底保持工序以所述第1姿势保持在所述第1保持位置的所述衬底供给去除液，由此去除所述保护膜。14.根据权利要求12所述的衬底处理方法，其包含：第2翻转工序，在所述洗净工序之后，使第2翻转单元与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第2姿势变化为所述第1姿势；第3衬底保持工序，将通过所述第2翻转工序使姿势成为所述第1姿势的所述衬底保持在从上侧与第3基座对向的第3保持位置；以及保护膜去除工序，对通过所述第3衬底保持工序以所述第1姿势保持在所述第3保持位置的所述衬底，执行等离子体处理或光照射处理，由此从所述保护对象面去除所述保护膜。

技术总结
本发明涉及一种衬底处理系统及衬底处理方法。衬底处理系统具备：第1衬底保持单元，包含从下侧与具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底对向的第1基座，将所述衬底以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持；保护膜涂布喷嘴，对于由所述第1衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面，至少在周缘部涂布保护膜；第1翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第1姿势变化为所述保护对象面朝向下侧的第2姿势；第2衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第2基座，将所述衬底以所述第2姿势保持；以及洗净单元，将由所述第2衬底保持单元保持的所述衬底的所述洗净对象面洗净。洗净。洗净。


技术研发人员：石井弘晃 石井淳一 本庄一大
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2021.12.21
技术公布日：2022/7/1