一种磁控溅射靶材的新型矫直机构的制作方法

1.本实用新型具体涉及磁控溅射靶材技术领域，尤其是一种磁控溅射靶材的新型矫直机构。


背景技术：

2.磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、n/o/c/s、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等，磁性溅射靶材为圆柱形时需要对其进行矫直。
3.现有技术中的磁控溅射靶材矫直机构，存在以下问题：不能对磁控溅射靶材进行快速矫直，对磁控溅射靶材矫直的质量和效率相对较差，不能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构上，不满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送，不能相对较好的满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。因此，亟需设计一种磁控溅射靶材的新型矫直机构来解决上述问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，适应现实需要，提供一种磁控溅射靶材的新型矫直机构。
5.为了实现本实用新型的目的，本实用新型所采用的技术方案为：
6.设计一种磁控溅射靶材的新型矫直机构，包括机箱，所述机箱的顶部通过螺栓安装有支撑架，所述支撑架的顶部通过螺栓安装有顶板，所述顶板上安装有矫正机构，所述矫正机构包括有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的输出端连接有升降板，所述升降板的底部卡接有矫直架二，所述机箱的顶部通过螺栓安装有底座，所述底座的顶部设置有矫直架一，所述机箱的顶部设置有输送机构。
7.所述矫直架二的顶部通过螺栓安装有卡接块，所述升降板的底部开有卡接槽，且卡接块卡接在卡接槽的内部。
8.所述矫直架一的底部焊接有插接杆，所述底座的顶部开有插接槽，且插接杆插接在插接槽的内部。
9.所述升降板的顶部焊接有导向杆一，所述顶部的顶部开有导向孔一，且导向杆一滑动插接在导向孔一的内部。
10.所述输送机构包括有电动伸缩杆、升降架和输送架，且电动伸缩杆通过螺栓安装在顶板的顶部，所述输送架通过螺栓安装在机箱的顶部。
11.所述输送架的正面通过螺栓安装有正反转电机，所述输送架的内部转动连接有若干送料辊，且其中一个送料辊的一端固定在正反转电机的输出端上。
12.所述升降架的顶部焊接有导向杆二，所述顶部的顶部开有导向孔二，且导向杆二滑动插接在导向孔二内。
13.本实用新型的有益效果在于：
14.(1)本设计利用矫正机构和矫直架一，矫正机构内的液压伸缩杆能带动升降板和矫直架二升降，矫直架二与矫直架一配合能对磁控溅射靶材进行快速矫直，提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率。
15.(2)本设计利用输送机构，输送机构内的电动伸缩杆能带动升降架和辅助辊升降，能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触，正反转电机带动其中一个送料辊转动，能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构上，满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送。
16.(3)本设计利用卡接块、卡接槽、插接杆和插接槽，卡接块能卡接在卡接槽的内部，不仅便于安装矫直架二，同时便于更换不同型号的矫直架二，插接杆插接在插接槽的内部，不仅便于安装矫直架一，同时便于更换不同型号的矫直架一，满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。
17.(4)本设计利用导向杆、导向孔、接料架和接料辊，导向杆滑动插接在导向孔的内部，导向杆一和导向杆二能分别对升降板和升降架起到导向作用，提高升降板和升降架升降时的稳定性，接料架上的接料辊能对矫直之后的磁控溅射靶材进行承接，并且平稳输出。
附图说明
18.图1为本设计中的整体结构示意图；
19.图2为本设计中的矫正机构示意图；
20.图3为本设计中的底座示意图；
21.图4为本设计中的输送机构示意图；
22.图5为本设计中的接料架结构示意图。
23.图中：1机箱、2支撑架、3顶板、4矫正机构、5底座、6矫直架一、7输送机构、 8液压伸缩杆、9升降板、10矫直架二、11卡接槽、12卡接块、13导向孔一、14导向杆一、15插接槽、16插接杆、17电动伸缩杆、18升降架、19辅助辊、20导向孔二、 21导向杆二、22输送架、23正反转电机、24送料辊、25接料架、26接料辊。
具体实施方式
24.下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：
25.实施例一
26.一种磁控溅射靶材的新型矫直机构，参见图1至图4，包括机箱1，机箱1的顶部通过螺栓安装有支撑架2，支撑架2的顶部通过螺栓安装有顶板3，顶板3上安装有矫正机构4，矫正机构4包括有液压伸缩杆8，液压伸缩杆8能带动升降板9和矫直架二 10升降，液压伸缩杆8的输出端连接有升降板9，升降板9的底部卡接有矫直架二10，机箱1的顶部通过螺栓安装有底座5，底座5的顶部设置有矫直架一6，矫直架二10与矫直架一6配合能对磁控溅射靶材进行快速矫直，提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率。
27.进一步的，本设计中，矫直架二10的顶部通过螺栓安装有卡接块12，升降板9的底部开有卡接槽11，且卡接块12卡接在卡接槽11的内部，不仅便于安装矫直架二10，同时便于
更换不同型号的矫直架二10；矫直架一6的底部焊接有插接杆16，底座5的顶部开有插接槽15，且插接杆16插接在插接槽15的内部，不仅便于安装矫直架一5，同时便于更换不同型号的矫直架一5，满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直；升降板9的顶部焊接有导向杆一14，顶部3的顶部开有导向孔一13，且导向杆一14滑动插接在导向孔一13的内部，导向杆一14能对升降板9起到导向作用，提高升降板9 升降时的稳定性。
28.进一步的，本设计中，机箱1的顶部设置有输送机构7，输送机构7包括有电动伸缩杆17、升降架18和输送架22，且电动伸缩杆17通过螺栓安装在顶板3的顶部，电动伸缩杆17能带动升降架18和辅助辊19升降，能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触，输送架22通过螺栓安装在机箱1的顶部；输送架22的正面通过螺栓安装有正反转电机23，正反转电机23带动其中一个送料辊24转动，能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构4上，满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送，输送架22的内部转动连接有若干送料辊24，且其中一个送料辊24的一端固定在正反转电机23的输出端上；升降架 18的顶部焊接有导向杆二21，顶部3的顶部开有导向孔二20，且导向杆二21滑动插接在导向孔二20内，导向杆二21能对升降架18起到导向作用，提高升降架18升降时的稳定性。
29.实施例二
30.如图5所示，本实施例为磁控溅射靶材的新型矫直机构，其基本结构与实施例一基本相同。
31.本实施例与实施例一不同之处在于，机箱1顶部通过螺栓安装有接料架25，接料架 25的内部转动连接有接料辊26，接料辊26能对矫直之后的磁控溅射靶材进行承接，并且平稳输出。
32.综上所述本实用新型的工作原理为：使用时，将磁控溅射靶材放置到输送辊24上，启动电动伸缩杆17，电动伸缩杆17能带动升降架18和辅助辊19升降，能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触，然后启动正反转电机23，正反转电机23带动其中一个送料辊24转动，能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构4上，满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送，当电动伸缩杆17输送至矫直架一6内时，启动液压伸缩杆8，液压伸缩杆8能带动升降板9和矫直架二10升降，矫直架二10与矫直架一6配合能对磁控溅射靶材进行快速矫直，提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率，采用的卡接块12能卡接在卡接槽11的内部，不仅便于安装矫直架二10，同时便于更换不同型号的矫直架二10，插接杆16插接在插接槽15的内部，不仅便于安装矫直架一5，同时便于更换不同型号的矫直架一5，满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。
33.本实用新型的实施例公布的是较佳的实施例，但并不局限于此，本领域的普通技术人员，极易根据上述实施例，领会本实用新型的精神，并做出不同的引申和变化，但只要不脱离本实用新型的精神，都在本实用新型的保护范围内。