液处理方法和液处理装置与流程

技术特征：
1.一种液处理方法，其特征在于，包括：将涂敷液供给到基片的正面的步骤；和使所述基片旋转而使所供给的所述涂敷液在所述基片的正面上扩散，在该正面上形成涂敷膜的步骤，在所述形成涂敷膜的步骤中，从所述涂敷液到达所述基片的正面的周缘部前起，开始从溶剂供给部向所述周缘部连续供给所述涂敷液的溶剂，并至少持续至所述形成涂敷膜的步骤结束。2.如权利要求1所述的液处理方法，其特征在于：以从所述溶剂供给部释放的所述溶剂形成的液柱与所述周缘部的边缘倾斜部接触的方式，从所述溶剂供给部向所述周缘部连续供给所述溶剂。3.如权利要求1或2所述的液处理方法，其特征在于：在所述形成涂敷膜的步骤中，包括使所述基片旋转而使所述涂敷膜干燥的步骤，在所述干燥的步骤中，也继续从所述溶剂供给部向所述周缘部连续供给所述溶剂。4.如权利要求3所述的液处理方法，其特征在于：包括如下步骤：在所述干燥的步骤后，利用来自所述溶剂供给部的所述溶剂，将所述基片的所述正面中的、周缘侧的预先决定的区域内的所述涂敷液除去的步骤。5.如权利要求4所述的液处理方法，其特征在于：在从所述溶剂供给部向所述周缘部连续供给所述溶剂时，从所述溶剂供给部向在所述除去的步骤中被除去所述涂敷液的所述区域内供给所述溶剂。6.如权利要求4或5所述的液处理方法，其特征在于：在从所述溶剂供给部向所述周缘部连续供给所述溶剂之后接着进行所述除去的步骤，不中断地继续从所述溶剂供给部释放所述溶剂。7.一种液处理装置，其特征在于，包括：保持基片并使其旋转的旋转保持部；向被所述旋转保持部保持的所述基片的正面供给涂敷液的涂敷液供给部；向被所述旋转保持部保持的所述基片的正面供给所述涂敷液的溶剂的溶剂供给部；和控制部，所述控制部执行以下步骤：从所述涂敷液供给部将涂敷液供给到基片的正面的步骤；和使所述基片旋转而使所供给的所述涂敷液在所述基片的正面上扩散，在该正面上形成涂敷膜的步骤，在所述形成涂敷膜的步骤中，输出控制信号，以使得从所述涂敷液到达所述基片的正面的周缘部前起，开始从所述溶剂供给部向所述周缘部连续供给所述溶剂，并至少持续至所述形成涂敷膜的步骤结束。

技术总结
本发明提供液处理方法和液处理装置，能够抑制由从基片甩落的涂敷液导致的棉絮状块的产生。液处理方法包括：将涂敷液供给到基片的正面的步骤；和使上述涂敷液在上述基片的正面上扩散，在该正面上形成涂敷膜的步骤，在上述形成涂敷膜的步骤中，从上述涂敷液到达上述基片的正面的周缘部前起，开始从溶剂供给部向上述周缘部连续供给上述涂敷液的溶剂，并至少持续至上述形成涂敷膜的步骤结束。续至上述形成涂敷膜的步骤结束。续至上述形成涂敷膜的步骤结束。


技术研发人员：宫窪祐允 高桥哲平
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.11.23
技术公布日：2022/6/4