掩模、设置掩模的方法以及使用其设置显示面板的方法与流程

技术特征：
1.设置沉积掩模的方法，所述方法包括：设置面向第二掩模层的第一掩模层；在所述第二掩模层中，设置与所述沉积掩模的沉积开口对应的并且将所述第一掩模层暴露于所述第二掩模层的外部的第一开口；设置辅助层，所述辅助层面对所述第一掩模层且所述第二掩模层位于所述辅助层与所述第一掩模层之间，并且所述辅助层覆盖所述第二掩模层中的所述第一开口；在所述辅助层中，设置与所述第一开口对应的并且将所述第一掩模层暴露于所述辅助层的外部的第二开口；在暴露于所述辅助层外部的所述第一掩模层中，通过使用具有所述第二开口的所述辅助层作为掩模设置与所述第一开口和所述第二开口对应的第三开口；以及将所述辅助层设置为与所述第一掩模层和所述第二掩模层分离，以设置具有包含所述第三开口的所述第一掩模层和具有包含所述第一开口的所述第二掩模层的所述沉积掩模。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在平面图中：所述第一掩模层中的所述第三开口和所述第二掩模层中的所述第一开口中的每一个具有尺寸，以及所述第一掩模层中的所述第三开口的所述尺寸小于所述第二掩模层中的所述第一开口的所述尺寸。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述辅助层和所述第二掩模层中的每一个具有厚度，以及所述辅助层的所述厚度大于所述第二掩模层的所述厚度。4.根据权利要求1所述的方法，其中，在具有所述第一掩模层和所述第二掩模层的所述沉积掩模内，所述第一掩模层的一部分通过所述第二掩模层中的所述第一开口暴露于所述第二掩模层的外部。5.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第二掩模层中设置所述第一开口包括：在初始的第二掩模层上设置第一光刻胶层；设置面对所述第一光刻胶层的第一曝光掩模；通过使用所述第一曝光掩模图案化所述第一光刻胶层来设置第一光刻胶图案层；以及通过使用所述第一光刻胶图案层作为掩模来在所述初始的第二掩模层中设置所述第一开口。6.根据权利要求5所述的方法，其中，在所述辅助层中设置所述第二开口包括：在所述辅助层上设置第二光刻胶层；设置面对所述第二光刻胶层的所述第一曝光掩模；通过使用所述第一曝光掩模图案化所述第二光刻胶层来设置第二光刻胶图案层；以及通过使用所述第二光刻胶图案层作为掩模来在所述辅助层中设置所述第二开口。7.根据权利要求5所述的方法，其中，在所述辅助层中设置所述第二开口包括：在所述辅助层上设置第二光刻胶层；设置与面对所述第二光刻胶层的所述第一曝光掩模不同的第二曝光掩模；通过使用所述第二曝光掩模图案化所述第二光刻胶层来设置第二光刻胶图案层；以及通过使用所述第二光刻胶图案层作为掩模来在所述辅助层中设置所述第二开口；
其中，所述第一曝光掩模和所述第二曝光掩模具有分别对应于所述第一开口和所述第二开口的透光区域，所述透光区域具有尺寸，以及所述第一曝光掩模的所述透光区域的所述尺寸大于所述第二曝光掩模的所述透光区域的所述尺寸。8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述辅助层中的所述第二开口和所述第二掩模层中的所述第一开口中的每一个具有最大宽度，以及所述辅助层中的所述第二开口的所述最大宽度小于所述第二掩模层中的所述第一开口的所述最大宽度。9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二掩模层包括限定所述第一开口的侧壁，并且所述第一掩模层包括限定所述第三开口的侧壁，以及所述第二掩模层的所述侧壁围绕所述第一掩模层的所述侧壁。10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二掩模层和所述辅助层中的每一个都包括材料，以及所述第二掩模层的所述材料与所述辅助层的所述材料不同。11.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第二掩模层中设置所述第一开口和在所述辅助层中设置所述第二开口中的每一个使用曝光掩模，以及用于在所述第二掩模层中设置所述第一开口的所述曝光掩模与用于在所述辅助层中设置所述第二开口的所述曝光掩模相同。12.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二掩模层包括限定所述第一开口的侧壁，所述辅助层包括限定所述第二开口的侧壁，并且所述第一掩模层包括限定所述第三开口的侧壁，以及所述辅助层的所述侧壁比与所述第一掩模层的所述侧壁对应的位置更远离所述第二掩模层的所述侧壁设置。13.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述沉积掩模的平面图中：所述第二掩模层中的所述第一开口、所述辅助层中的所述第二开口和所述第一掩模层中的所述第三开口中的每一个具有尺寸，所述第一掩模层中的所述第三开口的所述尺寸等于或小于所述第二掩模层中的所述第一开口的所述尺寸，以及所述第一掩模层中的所述第三开口的所述尺寸大于所述辅助层中的所述第二开口的所述尺寸。14.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二掩模层包括限定所述第一开口的侧壁，以及在设置所述辅助层时，所述第二掩模层的所述侧壁被所述辅助层完全覆盖。15.设置显示面板的方法，所述方法包括：
设置沉积掩模，在所述沉积掩模中，沉积贯穿部分对应于所述显示面板的发光图案限定；设置所述沉积掩模面向所述显示面板的目标衬底，所述目标衬底包括与所述发光图案对应的发光区域；通过所述沉积掩模的所述沉积贯穿部分在所述目标衬底的所述发光区域上设置所述发光图案；以及将所述沉积掩模设置为在所述发光区域上与具有所述发光图案的所述目标衬底分离，其中，设置所述沉积掩模包括：设置面向所述沉积掩模的第二掩模层的第一掩模层；在所述第二掩模层中，设置与所述沉积掩模的沉积开口对应的并且将所述第一掩模层暴露于所述第二掩模层外部的第一开口；设置辅助层，所述辅助层面对所述第一掩模层且所述第二掩模层位于所述辅助层与所述第一掩模层之间，并且所述辅助层覆盖所述第二掩模层中的所述第一开口；在所述辅助层中，设置与所述第一开口对应的并且将所述第一掩模层暴露于所述辅助层外部的第二开口；在暴露于所述辅助层外部的所述第一掩模层中，通过使用具有所述第二开口的所述辅助层作为掩模来设置与所述第一开口和所述第二开口对应的第三开口；以及将所述辅助层设置为与所述第一掩模层和所述第二掩模层分离，以设置具有包含所述第三开口的所述第一掩模层和具有包含所述第一开口的所述第二掩模层的所述沉积掩模，其中，在平面图中：所述第一掩模层中的所述第三开口、所述辅助层中的所述第二开口和所述第二掩模层中的所述第一开口中的每一个具有尺寸，所述第一掩模层中的所述第三开口的所述尺寸等于或小于所述第二掩模层中的所述第一开口的所述尺寸，以及所述第一掩模层中的所述第三开口的所述尺寸大于所述辅助层中的所述第二开口的所述尺寸。16.根据权利要求15所述的方法，其中，在设置所述沉积掩模中：所述辅助层和所述第二掩模层中的每一个具有厚度，以及所述辅助层的所述厚度大于所述第二掩模层的所述厚度。17.根据权利要求15所述的方法，其中，在设置所述沉积掩模中：在所述第二掩模层中设置所述第一开口和在所述辅助层中设置所述第二开口中的每一个使用曝光掩模，以及用于在所述第二掩模层中设置所述第一开口的所述曝光掩模与用于在所述辅助层中设置所述第二开口的所述曝光掩模相同。18.根据权利要求15所述的方法，其中，设置所述沉积掩模面向所述目标衬底包括将所述目标衬底设置为面向所述第二掩模层，且所述第一掩模层位于所述目标衬底与所述第二掩模层之间。19.沉积掩模，包括：第一掩模层，包含聚酰亚胺；
第一掩模开口，位于所述第一掩模层中，并且沉积材料通过所述第一掩模开口离开所述沉积掩模；第二掩模层，面对包括聚酰亚胺的所述第一掩模层，并且包括钛、氮化钛或钼；以及第二掩模开口，位于所述第二掩模层中，对应于所述第一掩模开口且大于所述第一掩模开口。20.根据权利要求19所述的沉积掩模，其中，所述第一掩模层和所述第二掩模层中的每一个是氟蚀刻层。

技术总结
本申请涉及设置沉积掩模的方法、设置显示面板的方法和沉积掩模。设置掩模的方法包括:设置面对第二掩模层的第一掩模层；在第二掩模层中,设置对应于掩模的沉积开口的第一开口；设置辅助层，辅助层面对第一掩模层且第二掩模层位于它们之间并且覆盖第一开口；在辅助层中，设置对应于第一开口并将第一掩模层暴露于辅助层外部的第二开口；在第一掩模层中，通过使用辅助层作为掩模，设置对应于第一开口和第二开口的第三开口；以及设置辅助层与第一掩模层和第二掩模层分离，以设置具有包含第三开口的第一掩模层和包含第一开口的第二掩模层的沉积掩模。沉积掩模。沉积掩模。


技术研发人员：李璱 文敏浩 文英慜 孙智熙 宋升勇 任星淳
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2022/5/31