显示面板以及显示装置的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板以及显示装置。


背景技术：

2.目前去偏振片技术中的主流为采用彩膜层的结构来代替偏光片，从而使得显示面板的厚度减小了100um以上，亮度提升20％，也有效的减小了柔性屏幕的极限弯折半径。
3.但是采用彩膜层的结构来代替偏光片技术也存在先天的缺陷，由于彩膜层直接制作于触控层上，现行的材料匹配性欠佳，存在彩膜层与触控层互溶的问题，图案化后彩膜层的去除部分将残留在触控层上，从而影响显示面板的发光效率。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种显示面板以及显示装置，显示面板能够满足显示要求，同时能够有效降低彩膜层需要去除的部分在触控层上残留，保证显示面板的发光效率。
5.一方面，根据本技术实施例提出了一种显示面板，包括：发光器件层，包括层叠设置的基板以及发光层，发光层具有阵列分布的若干子像素单元；触控层，设置于发光层背离基板的一侧，触控层包括触控电极以及覆盖触控电极设置的平坦化层；缓冲层，设置于平坦化层背离发光器件层的一侧；光学膜层，设置于缓冲层背离触控层的一侧，光学膜层包括若干黑矩阵以及与黑矩阵同层设置的若干滤光单元，若干滤光单元与若干子像素单元一一对应设置；其中，缓冲层的材料与平坦化层的材料相疏，缓冲层在基板上的正投影覆盖滤光单元在基板上的正投影。
6.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层在基板上的正投影还覆盖黑矩阵在基板上的正投影。
7.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层整层设置且厚度均匀。
8.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层上具有多个容纳槽，黑矩阵至少部分位于容纳槽内并与围合形成容纳槽的内壁面抵接。
9.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层包括阵列分布的若干缓冲单元，容纳槽由平坦化层以及若干缓冲单元围合形成而令每一容纳槽位于相邻两个缓冲单元之间，缓冲单元与滤光单元一一对应设置并覆盖对应滤光单元面向发光器件层的表面。
10.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层整层设置并夹设于触控层与光学膜层之间，缓冲层与黑矩阵对应区域的厚度小于缓冲层与滤光单元对应区域的厚度。
11.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层为无机材料层，平坦化层为有机材料层。
12.根据本技术实施例的一个方面，缓冲层的折射率小于平坦化层的折射率。
13.根据本技术实施例的一个方面，显示面板还包括反光层，反光层位于平坦化层以及发光层之间，反光层能够将发光器件层向出光面侧反射的光线至少部分再次反射至发光器件层所在侧。
14.根据本技术实施例的一个方面，子像素单元包括阳极、发光元件以及阴极，反光层
在基板上的正投影覆盖各子像素单元的阴极。
15.根据本技术实施例的一个方面，反光层位于发光器件层与触控层之间并与阴极层叠设置。
16.根据本技术实施例的一个方面，显示面板还包括位于触控层以及基板之间的封装层，封装层设置于反光层靠近基板的一侧。
17.另一个方面，根据本技术实施例提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
18.根据本技术实施例提供的显示面板以及显示装置，显示面板包括发光器件层、触控层、缓冲层以及光学膜层，通过发光器件层的子像素单元能够满足发光显示需求，触控层以及光学膜层的设置，既能够保证显示面板集成有触控功能，并且，通过在光学膜层与触控层之间增设缓冲层，同时使得缓冲层在基板上的正投影覆盖滤光单元在基板上的正投影，使得光学膜层在成型的过程中，可以通过缓冲层对黑矩阵与平坦化层对应各子像素区域分隔，避免黑矩阵与平坦化层对应各子像素区域直接接触，并且使得缓冲层的材料与平坦化层的材料相疏，能够保证光学膜层的黑矩阵在图案化时，缓冲层与黑矩阵的互溶能力远低于平坦化层与黑矩阵的互溶能力，减小或者避免黑矩阵在图案化在各子像素单元对应的区域发生残留，保证子像素单元所发出光线的穿透率，保证显示面板的发光效率，优化显示效果。
附图说明
19.下面将参考附图来描述本技术示例性实施例的特征、优点和技术效果。
20.图1是本技术一个实施例的显示面板的结构示意图；
21.图2是图1中沿a-a方向的剖视图；
22.图3是本技术另一个实施例的显示面板的剖视示意图；
23.图4是本技术又一个实施例的显示面板的剖视示意图；
24.图5是本技术再一个实施例的显示面板的剖视示意图；
25.图6是本技术又一个实施例的显示面板的剖视示意图。
26.其中：
27.10-基板；11-衬底；12-器件层；121-像素驱动电路；
28.20-发光层；20a-子像素单元；21-阳极；22-发光元件；23-阴极；
29.30-触控层；31-触控电极；32-平坦化层；
30.40-缓冲层；41-缓冲单元；40a-容纳槽；
31.50-光学膜层；51-黑矩阵；52-滤光单元；
32.60-封装层；
33.70-反光层。
34.在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。
具体实施方式
35.下面将详细描述本技术的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本技术进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本技术，并不被配置为限定本申
请。对于本领域技术人员来说，本技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本技术的示例来提供对本技术更好的理解。
36.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
37.应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
38.下面将详细描述本技术的各个方面的特征和示例性实施例。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
39.封装上的彩色滤光片技术(color filter on encapsulation，coe)是目前去偏振片技术中的主流，其采用彩膜层的结构来代替偏光片，从而使得显示面板的厚度减小了100um以上，亮度提升20％，也有效的减小了柔性屏幕的极限弯折半径。
40.但是coe技术也存在先天的缺陷，由于彩膜层直接制作于触控层上，现行的材料匹配性欠佳，存在彩膜层与触控层互溶的问题，由于彩膜层在成型的过程中，需要预先在触控层上形成黑矩阵层，然后对黑矩阵进行图案化，例如采用曝光、显影方式去除在触控层上与子像素单元对应的区域，然后在各子像素单元对应位置形成滤光单元，以满足滤光的作用。已有的显示面板，其对彩膜层的黑矩阵图案化去除覆盖子像素单元对应区域时，存在黑矩阵与触控层上的平坦化层发生互溶的问题，使得黑矩阵还有部分残留在触控层上，尤其是在与子像素单元对应的区域，当有黑矩阵残留时，将影响子像素单元所发出光线的透过率，影响显示面板的发光效率。
41.因此，为了解决上述技术问题，本技术实施例提供一种显示面板及显示装置，显示面板能够满足显示要求，同时能够有效降低彩膜层需要去除的部分在触控层上残留，保证显示面板的发光效率。
42.为了更好的理解本技术，下面结合图1至图6对本技术实施例显示面板及显示装置进行详细描述。
43.请参见图1以及图2所示，图1是本技术一个实施例的显示面板的结构示意图，图2是图1中沿a-a方向的剖视图。
44.根据本技术实施例提出了一种显示面板，包括发光器件层、触控层30、缓冲层40以及光学膜层50，发光器件层包括层叠设置的基板10以及发光层20，发光层20具有阵列分布的若干子像素单元20a。触控层30设置于发光层20背离基板10的一侧，触控层30包括触控电极31以及覆盖触控电极31设置的平坦化层32。缓冲层40设置于平坦化层32背离发光器件层的一侧。光学膜层50设置于缓冲层40背离触控层30的一侧，光学膜层50包括若干黑矩阵51
以及与黑矩阵51同层设置的若干滤光单元52，若干滤光单元52与若干子像素单元20a一一对应设置。其中，缓冲层40的材料与平坦化层32的的材料相疏，缓冲层40在基板10上的正投影覆盖滤光单元52在基板10上的正投影。
45.本技术实施例提供的显示面板，通过发光器件层的子像素单元20a能够满足发光显示需求，触控层30以及光学膜层50的设置，既能够保证显示面板集成有触控功能，并且，通过在光学膜层50与触控层30之间增设缓冲层40，同时使得缓冲层40在基板10上的正投影覆盖滤光单元52在基板10上的正投影，使得光学膜层50在成型的过程中，可以通过缓冲层40对黑矩阵51与平坦化层32对应各子像素区域分隔，避免黑矩阵51与平坦化层32对应各子像素区域直接接触，并且缓冲层40的材料与平坦化层32的的材料相疏，能够保证光学膜层50的黑矩阵51在图案化时，缓冲层40与黑矩阵51的互溶能力远低于平坦化层32与黑矩阵51的互溶能力，减小或者避免黑矩阵51在图案化时在各子像素单元21a对应的区域发生残留，保证子像素单元20a所发出光线的穿透率，保证显示面板的发光效率，优化显示效果。
46.可选地，基板10可以包括衬底11以及器件层12，衬底11可以为硬质衬底，当然也可以为柔性衬底，具有一定的可弯折性，利于形成曲面显示屏。可选地，器件层12包括多个阵列分布的像素驱动电路121，每个像素驱动电路121与至少一个子像素单元20a电连接，以控制子像素单元20a的点亮时间以及亮度等。
47.可选地，发光层20设置于器件层12背离衬底11的一侧，发光层20的子像素单元20a的数量以及像素排布方式不做具体限定，只要能够满足显示面板的显示需求均可。
48.可选地，发光层20的多个子像素单元20a可以包括红色子像素单元、绿色子像素单元以及蓝色子像素单元。
49.参阅图2至图6，可选地，每个子像素单元20a可以包括阳极21、发光元件22以及阴极23，发光元件22位于阳极21与阴极23之间，阳极21面向所述衬底11的一侧并与像素驱动电路121电连接，阴极23设置于发光元件22背离阳极21的一侧。
50.可选地，各子像素单元20a的阴极23可以独立设置，当然，在有些实施例中，也可以使得各子像素单元20a的阴极23相互连接形成一整体设置的面电极。
51.可选地，触控层30包括多个触控电极31，多个触控电极31可以是形成于同一层的金属层，当然也可以是形成两层或者以上的多层金属层，当形成两层以上金属层时，相邻金属层之间可以设置有绝缘层。可选地，触控层30采用的触控方式可以是自电容的方式，当然也可以为互电容的方式。触控电极31可以包括触控驱动电极以及触控感应电极，触控驱动电极以及触控感应电极可以形成于同一金属层，相邻的触控感应电极可以通过形成于另一金属层的过桥电连接。当然，也可以使得相应的触控驱动电极通过形成于另一金属层的过桥电连接。当然，在有些实施例中，触控驱动电极以及触控感应电极也可以形成于不同的金属层，在此不做具体限定。
52.可选地，所提供的缓冲层40可以与触控层30的平坦化层32层叠设置并相互接触连接。缓冲层40的材料与平坦化层32的的材料相疏，具体可以是指光学膜层50的黑矩阵51在图案化后，缓冲层40与平坦化层32不互溶或者较难互溶，而令缓冲层40与黑矩阵51的互溶能力小于平坦化层32与黑矩阵51的溶合能力。
53.作为一种可选地实施方式，缓冲层40可以为无机材料层，平坦化层32可以为有机材料层，由于平坦化层32需要对触控电极31进行防护同时起到平坦化的作用，通常采用有
机胶层，而光学膜层50的黑矩阵51通常采用有机材料制成，二者之间的互溶性高。通过使得缓冲层40为无机材料层，使其与黑矩阵51的材料极性相反，不易溶合，进而使得黑矩阵51在曝光、显影进行图案化的过程中，不易在缓冲层40上溶合残留，进而保证显示面板的发光效率。
54.在一些可选地实施例中，缓冲层40可以采用氧化硅、氮化硅以及透明ito等无机材料制成。
55.作为一种可选地实施方式，缓冲层40在基板10上的正投影可以仅覆盖滤光单元52在基板10上正投影，当然，此为一种可选地实施方式，在有些实施例中，也可以使得缓冲层40在基板10上的正投影还覆盖黑矩阵51在基板10上的正投影。
56.作为一种可选地实施方式，本技术实施例提供的显示面板，其缓冲层40可以为一整层，可以使得缓冲层40在基板10上的正投影同时覆盖黑矩阵51以及滤光单元52的正投影。通过缓冲层40将黑矩阵51与平坦化层32完全隔离，避免黑矩阵51与平坦化层32直接接触，有效的避免黑矩阵51在图案化过程中与平坦化层32彼此之间互溶的问题。
57.在一些可选地实施例中，当缓冲层40为一整层时，可以使得缓冲层40整层厚度均匀。通过上述设置，能够有效的避免黑矩阵51与平坦化层32直接接触，进而避免黑矩阵51在图案化过程中与平坦化层32彼此之间互溶的问题，同时能够利于缓冲层40的成型。
58.请参见图3，图3是本技术另一个实施例的显示面板的剖视示意图。在一些可选地实施例中，本技术实施例提供的显示面板，缓冲层40上具有多个容纳槽40a，黑矩阵51至少部分位于容纳槽40a内并与围合形成容纳槽40a的壁面连接。通过上述设置，能够增加黑矩阵51与其他层结构之间的粘附面积，保证层结构之间的连接强度，避免发生黑矩阵51剥离现象。在本实施方式中，缓冲层40对应黑矩阵51处的厚度小于对应滤光单元52处的厚度。
59.作为可选的实施方式，缓冲层40整层设置并夹设于触控层与光学膜层之间，缓冲层40与黑矩阵51对应区域的厚度小于缓冲层40与滤光单元41对应区域的厚度。也就是说，容纳槽40a的深度可以小于缓冲层40的厚度，缓冲层40可以完全隔离黑矩阵51与平坦化层32，使得黑矩阵51面向发光器件层12的表面以及侧壁面均与缓冲层40接触并连接。
60.当然，使得容纳槽40a的深度小于缓冲层40的厚度只是一种可选地实施方式，但不限于上述方式，在一些其他的实施例中，还可以使得容纳槽40a的深度等于缓冲层40的厚度，也就是说容纳槽40a贯穿缓冲层40设置。
61.请参见图4，图4是本技术又一个实施例的显示面板的剖视示意图。一些可选的示例中，缓冲层40包括多个阵列分布的缓冲单元41，相邻两个缓冲单元41之间形成有容纳槽40a，每个缓冲单元41与其中一个滤光单元52相对设置并覆盖滤光单元52面向发光器件层12的表面，黑矩阵51至少部分位于容纳槽40a内并与由平坦化层32以及缓冲层40围合形成的容纳槽40a的壁面接触。
62.作为一种可选地实施方式，多个滤光单元52可以包括红色滤光单元、绿色滤光单元以及蓝色滤光单元，每个红色滤光单元与其中一个红色子像素单元相对设置，每个绿色滤光单元与其中一个绿色子像素单元相对设置，每个蓝色滤光单元与其中一个蓝色子像素单元相对设置。既能够保证滤光要求，同时还能够保证显示面板的发光效率。
63.在一些可选地实施例中，本技术上述各实施例提供的显示面板，其缓冲层40的折射率小于平坦化层32的折射率。
64.由于发光层20的各子像素单元20a的阴极23为金属材料，面积较大。当外界光线进入显示面板内时，将会在阴极23处发生反射，反射的光线将会进入人眼。并且，在取消掉偏光片后，增加发光层20发出光线透过率会使得阴极23的反射增加，削弱了取消偏光片带来的亮度提升，影响显示面板的亮度提升效果，且不利于用户体验。
65.而本技术实施例提供的显示面板，通过使得缓冲层40的折射率小于平坦化层32的折射率，当光线由光密介质射入光疏介质，入射角满足一定条件时将发生全反射效应。临界角α满足式(1)：
66.α＝arcsin(n1/n2)
ꢀꢀꢀ
(1)
67.其中，n1为光疏介质的折射率，n2为光密介质的折射率。
68.由此，阴极23反射光的入射角大于临界角的所有光线将全部反射回屏幕内部，从而减弱了人眼接收到的反射光，提高了屏幕的亮度。而子像素单元20a为直射光，入射角为90度，不会发生全反射效应，因此无须担心光的损失。
69.本方案以缓冲层40为氧化硅，平坦化层32为有机胶或者说oc胶为例，平坦化层32的折射率为1.6，缓冲层40的折射率为1.4，则临界角α为：
70.α＝arc(1.45/1.6)＝65
°
71.由此可知，入射角大于65
°
的阴极23反射光将全部被反射。理论上，25％的反射光将被屏蔽，显著提升亮度。
72.请参见图5以及图6所示，图5是本技术再一个实施例的显示面板的剖视示意图，图6是本技术又一个实施例的显示面板的剖视示意图。本技术上述各实施例提供的显示面板，对于阴极23的反射问题采用缓冲层40的折射率小于平坦化层32的折射率的方式解决只是一种可选地实施方式，在一些其他的实施例中，还可以使得显示面板还包括反光层70，反光层70位于平坦化层32以及发光层20之间，反光层70能够将发光器件层向显示面板的出光面侧反射的光线至少部分再次反射至发光器件层12所在侧。
73.通过增加反光层70，使得外界照射进入的光线在阴极23上发生反射后，反射的光线将作用于反光层70，至少部分被反光层70再次反射至发光器件层所在侧，降低反射影响，保证显示面板的显示效果。
74.作为一种可选地实施方式，本技术实施例提供的显示面板，当显示面板包括反光层70时，可以将反光层70设置于发光器件层12背离基板10的一侧的任意位置，也就是说可以将反光层70设置于阴极23与人眼之间，以保证将阴极23反射的外界光线再次反射至发光器件层所在侧均可。
75.如图5所示，在一些可选地实施例中，本技术实施例提供的显示面板，当包括反光层70时，反光层70可以位于发光器件层与触控层30之间并与阴极23层叠设置。
76.当然，将反光层70设置于发光器件层12与触控层30之间并与阴极23层叠设置只是一种可选地实施方式，但不限于上述方式。
77.如图2至图4及图6所示，显示面板还包括位于触控层30和基板10之间的封装层60。如图2至图4所示，封装层60设置于触控层30靠近基板10一侧。如图6所示，封装层60设置于反光层70靠近基板10一侧，如此设置，同样能够满足降低反射影响的要求。
78.另一方面，本技术实施例还提供一种显示装置，显示装置包括上述的显示面板。该显示装置可以是手机、平板电脑、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产
品或部件。
79.本技术实施例提供的显示装置，因其包括上述各实施例提供的显示面板，通过发光器件层12的子像素单元20a能够满足发光显示需求，触控层30以及光学膜层50的设置，既能够保证显示面板集成有触控功能，并且，通过在光学膜层50与触控层30之间增设缓冲层40，同时使得缓冲层40在基板10上的正投影覆盖滤光单元52在基板10上的正投影，使得光学膜层50在成型的过程中，可以通过缓冲层40对黑矩阵51与平坦化层32对应各子像素区域分隔，避免黑矩阵51与平坦化层32对应各子像素区域直接接触，并且缓冲层40的耐化学腐蚀性的等级高于平坦化层32的耐化学腐蚀性的等级，能够保证光学膜层50的黑矩阵51在图案化时，缓冲层40与黑矩阵51的互溶能力远低于平坦化层32与黑矩阵51的互溶能力，减小或者避免黑矩阵51在图案化在各子像素单元21a对应的区域发生残留，保证子像素单元20a所发出光线的穿透率，保证显示装置的发光效率，优化显示效果。
80.虽然已经参考优选实施例对本技术进行了描述，但在不脱离本技术的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本技术并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。