控制方法和基片输送系统与流程

技术特征：
1.一种控制方法，其特征在于：所述控制方法是具有保持基片的保持部且能够输送所述基片的输送机构的控制方法，其包括：检测由所述输送机构输送的所述基片的外缘，使用预先设定的与输送所述基片的路径对应的调整值来测量所述基片的中心位置的步骤；基于所述基片的中心位置与预先设定的所述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置的步骤；和控制所述输送机构，以使所述保持部的基准位置成为修正后的所述目标位置的步骤。2.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于：所述保持部具有比所保持的所述基片突出的突出部，在输送所述基片并检测所述基片的外缘时，检测所述突出部的外缘来测量所述保持部的基准位置。3.如权利要求2所述的控制方法，其特征在于：所述突出部的外缘具有以所述保持部的基准位置为中心的圆弧形状。4.如权利要求1至3中任一项所述的控制方法，其特征在于：存储与所述输送机构的温度对应的所述调整值，使用与输送所述基片的路径和所述输送机构的温度对应的所述调整值来测量所述基片的中心位置。5.一种基片输送系统，其特征在于，包括：输送机构，其具有保持基片的保持部，能够输送所述基片；测量部，其检测由所述输送机构输送的所述基片的外缘，测量所述基片的中心位置；和控制所述输送机构的控制部，所述测量部使用预先设定的与输送所述基片的路径对应的调整值来测量所述基片的中心位置，所述控制部基于所述基片的中心位置与所述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置，并控制所述输送机构，以使所述保持部的基准位置成为修正后的所述目标位置。6.一种基片输送系统，其特征在于，包括：输送机构，其具有保持基片的保持部，能够输送所述基片；测量部，其检测由所述输送机构输送的所述基片的外缘，测量所述基片的中心位置；和控制所述输送机构的控制部，所述保持部具有比所保持的所述基片突出的突出部，所述控制部在输送所述基片时，利用所述测量部检测所述突出部的外缘，来测量所述保持部的基准位置，并且利用所述测量部检测所述基片的外缘，来测量所述基片的中心位置，基于所述基片的中心位置与所述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置，并控制所述输送机构，以使所述保持部的基准位置成为修正后的所述目标位置。7.如权利要求6所述的基片输送系统，其特征在于：所述突出部的外缘具有以所述保持部的基准位置为中心的圆弧形状。

技术总结
本发明提供能够提高输送精度的基片输送系统的控制方法和基片输送系统。本发明的控制方法是具有保持基片的保持部且能够输送上述基片的输送机构的控制方法，其包括：检测由上述输送机构输送的上述基片的外缘，使用预先设定的与输送上述基片的路径对应的调整值来测量上述基片的中心位置的步骤；基于上述基片的中心位置与预先设定的上述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置的步骤；和控制上述输送机构，以使上述保持部的基准位置成为修正后的上述目标位置的步骤。后的上述目标位置的步骤。后的上述目标位置的步骤。


技术研发人员：新藤健弘
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.09.07
技术公布日：2022/3/18