一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置的制作方法

技术特征：
1.一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，包括蒸发台本体(1)、移动结构(2)、安装底架(3)、升降气缸(4)、电动基座(5)、竖梁架(6)、清扫结构(7)和除尘结构(8)，其特征在于：所述蒸发台本体(1)的外侧设置有移动结构(2)，所述移动结构(2)的一端安装有安装底架(3)，所述安装底架(3)的端面中央安装有升降气缸(4)，所述升降气缸(4)的顶部上方设置有电动基座(5)，所述电动基座(5)的顶部端面中央固定安装有竖梁架(6)，所述竖梁架(6)的端面一侧设置有清扫结构(7)，所述竖梁架(6)的端面上方设置有除尘结构(8)，且除尘结构(8)与安装底架(3)固定连接；所述清扫结构(7)包括电机支架(71)、第一转动电机(72)、传动端盖(74)、清扫轴(75)、清洁套(76)和清洁毛刷(77)，所述电机支架(71)通过螺栓固定安装在竖梁架(6)的外壁一侧，所述电机支架(71)的内侧端面安装有第一转动电机(72)，所述第一转动电机(72)的一端电机轴通过联轴器固定安装有清扫轴(75)，所述竖梁架(6)的一侧端面通过螺钉固定安装有传动端盖(74)，且清扫轴(75)的一端穿过传动端盖(74)连接安装有清洁套(76)，且清洁套(76)的外侧固定安装有清洁毛刷(77)。2.根据权利要求1所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述移动结构(2)包括调节槽(21)、电动导轨(22)、调节滑座(23)和随动架(24)，所述蒸发台本体(1)的外壁中央开设有调节槽(21)，所述调节槽(21)的内壁中央固定安装有电动导轨(22)，所述电动导轨(22)的外侧安装有调节滑座(23)，所述调节滑座(23)的外侧端面固定安装有随动架(24)，且安装底架(3)通过螺栓与随动架(24)固定连接。3.根据权利要求2所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述调节槽(21)的顶部和底部端面均贴合安装有耐磨垫。4.根据权利要求1所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述电机支架(71)为l型结构，所述电机支架(71)的内侧端面螺钉固定安装有散热板，且第一转动电机(72)通过螺钉与散热板的端面固定连接。5.根据权利要求1所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述竖梁架(6)的端面中央开设有传动通孔，且传动通的内部固定安装有传动轴套(73)，所述清扫轴(75)的外壁与传动轴套(73)的内壁贴合连接。6.根据权利要求1所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述除尘结构(8)包括固定壁板(81)、输气泵(82)、伸缩管套(83)、喷吹管(84)、调节臂(85)、卡接管(86)、过滤喷嘴(87)、转动座(88)、第二转动电机(89)和第三转动电机(810)，所述安装底架(3)的外壁一侧通过螺钉安装有固定壁板(81)，所述固定壁板(81)的内侧端面中央通过螺钉固定安装有输气泵(82)，所述输气泵(82)的顶部一端连接安装有伸缩管套(83)，且伸缩管套(83)的顶部一端穿过固定壁板(81)的顶部端面连接安装有喷吹管(84)，所述喷吹管(84)的一端经传动端盖(74)连接安装有调节臂(85)，且调节臂(85)安装在竖梁架(6)的顶部端面，所述调节臂(85)的顶部一端内侧设置有转动座(88)，所述转动座(88)的底部端面插接安装有卡接管(86)，所述调节臂(85)的内部开设有连通孔，且喷吹管(84)的一端穿过连通孔与卡接管(86)连接，所述卡接管(86)的底部端面连接安装有过滤喷嘴(87)。7.根据权利要求6所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述调节臂(85)的顶部一端安装有第二转动电机(89)，且第二转动电机(89)的一端电机轴穿过调节臂(85)与转动座(88)固定连接，所述竖梁架(6)的外侧顶部固定安装有第三转动电机(810)，且第三转动电机(810)一端的电机轴穿过竖梁架(6)与调节臂(85)固定连接。
8.根据权利要求6所述的一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其特征在于：所述传动端盖(74)的一端通过焊接固定安装有两个限位挂钩，且限位挂钩的内壁与喷吹管(84)的外壁贴合连接。

技术总结
本发明属于半导体加工技术领域，具体的说是一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，包括蒸发台本体、移动结构、安装底架、升降气缸、电动基座、竖梁架、清扫结构和除尘结构，所述蒸发台本体的外侧设置有移动结构，所述移动结构的一端安装有安装底架，所述安装底架的端面中央安装有升降气缸，所述升降气缸的顶部上方设置有电动基座，所述电动基座的顶部端面中央固定安装有竖梁架；通过移动结构在移动的过程中，使得升降气缸和电动基座能够调节竖梁架的高度和转动角度，使得清扫结构和除尘结构的位置发生调节，使得清扫结构和除尘结构能够将蒸发台本体顶部的不同位置进行清洁除尘，有效避免残留清洁死角的问题，具有良好的自清洁效果。具有良好的自清洁效果。具有良好的自清洁效果。


技术研发人员：胡长文 陈金凌 王锡胜 李敏
受保护的技术使用者：江苏威森美微电子有限公司
技术研发日：2021.12.03
技术公布日：2022/3/8