应用UV图案化方式的微透镜阵列的手机装饰膜的制造方法与流程

应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机装饰膜的制造方法
技术领域
1.本发明涉及应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机装饰膜的制造方法，具体地，涉及一种在聚碳酸酯(polycarbonate，pc)的前面形成由uv图案化方式形成的微透镜阵列(micro lens array，mla)层的应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机后盖膜的制造方法。


背景技术：

2.最近，随着手机及智能手机技术的发展，各种设计的手机及智能手机(以下统称为
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手机
″
)正不断上市。
3.这些手机由构成手机外观的外壳及安装在所述外壳的内部用以执行手机固有功能的各种电路部件构成。
4.其中，安装于手机背部的后盖(即外壳)通常由合成树脂制成且硬度比较低，因此受到外部冲击时容易产生划痕等瑕疵。
5.因此，最近为了保护手机产品并提高审美感，手机装饰膜的技术开发正活跃地展开。
6.为了满足现代人的各种个性追求，手机装饰膜需要具有各种颜色、光泽、及花纹(即，图案)等。
7.【现有技术文献】
8.【专利文献】
9.专利文献1：韩国发明专利申请第10-2018-0097670号
″
应用非对称结构光学图案的设计装饰膜
″
。


技术实现要素：

10.【技术问题】
11.本发明是为了解决上述问题而提出的，本发明的目的在于，提供一种应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机后盖薄膜的制造方法，应用于手机后盖的装饰膜相比于现有的薄膜，视觉上形成朦胧感，从而可向使用者提供各种审美感。
12.此外，本发明的目的在于，提供一种应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机后盖薄膜的制造方法，不仅可通过缩短薄膜的制造工序来降低成本，而且相比于现有的薄膜，耐刮痕性及耐药品性得到提高，且不残留指纹等痕迹，从而可确保高识别性状态。
13.【技术方案】
14.为了解决如上所述的技术问题，根据本发明的应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机装饰膜的制造方法可包括形成聚碳酸酯(polycarbonate，pc)层的步骤；以及在所述聚碳酸酯层的前面形成利用uv图案化方式形成的微透镜阵列(micro lens array，mla)层的步骤。
15.此外，还可进一步包括在所述聚碳酸酯层的背面形成下部uv图案层的步骤；在所述下部uv图案层的背面形成沉积层的步骤；在所述沉积层的背面形成丝印层的步骤；以及
成形作业步骤与cnc加工步骤。
16.此外，所述微透镜阵列层对所述聚碳酸酯层的前面整体进一步进行uv模塑成型，所述uv图案层对形成有图案的面进一步进行uv模塑成型。
17.【有益效果】
18.如上所述，根据本发明，应用于手机后盖的装饰膜相比于现有的薄膜，可从视觉上形成朦胧感，从而具有向使用者提供各种审美感的优点。
19.此外，本发明具有如下优点：不仅可通过缩短薄膜的制造工序来降低成本，而且相比于现有的薄膜，耐刮痕性及耐药品性得到提高，且不残留指纹等痕迹，从而具有可确保高识别性状态。
附图说明
20.图1是根据一实施例的微透镜阵列层的示意图。
21.图2是将形成有微透镜阵列层的手机装饰膜部分应用于手机外壳的示意图。
22.图3是根据一实施例的形成有微透镜阵列层的手机装饰膜的示意图。
23.【附图标记的说明】
24.100：手机装饰膜
25.110：聚碳酸酯层
26.120：微透镜阵列层
27.130：uv图案层
28.140：沉积层
29.150：丝印层。
具体实施方式
30.下面，参照附图对根据本发明一实施例的应用uv图案化方式的微透镜阵列的手机装饰膜的制造方法进行详细说明。首先，需要注意的是，附图中相同的组成要素或者部件尽可能用相同的附图标记进行图示。在说明本发明的过程中，为了不使本发明的主旨发生混淆，相关的公知功能或者配置的具体说明将被省略。
31.图1是根据一实施例的微透镜阵列层的示意图，图3是根据一实施例的形成有微透镜阵列层的手机装饰膜的示意图。
32.手机装饰膜100作为应用于手机背面形成的后盖的薄膜，其可包括聚碳酸酯(polycarbonate，pc)层110及以uv图案化方式形成于聚碳酸酯层110的前面的微透镜阵列(micro lens array，mla)层120。
33.作为底膜的聚碳酸酯层110是一种热可塑性塑料。具有耐冲击性、耐热性、耐候性、自熄性及透明性等特性，而且具有相当于钢化玻璃的约150倍以上的冲击强度，因此具有优秀的柔韧性及加工性。作为容易破碎且容易变形的丙烯酸的取代材料和一般板玻璃的备用材料而被广泛使用。
34.根据一实施例的微透镜阵列层120作为以uv图案化方式形成的薄膜层可由环氧树脂、丙烯酸树脂、聚烯烃树脂、聚酰氨树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、石油树脂、酚醛树脂、聚苯乙烯树脂以及聚氨基甲酸酯树脂中的至少一个形成。
35.另外，微透镜阵列层120还可在聚碳酸酯层110的前面利用形成有预设图案或者形状的凹刻槽的凹版辊并通过凹版打印工艺形成。
36.对于微透镜阵列层120而言，将组合物填充于凹刻槽之后，随着在微透镜阵列层的前面进行凹版打印，截面可具有凹凸形状。
37.根据一实施例的粘合剂可使用具有预定粘性的树脂材料。由于使用具有粘性的物质，因此无需另行设置粘贴层，便可提高与薄膜、图案层或者金属装饰层间的结合力。粘合剂可包括环氧树脂、丙烯酸树脂、聚烯烃树脂、聚酰氨树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、石油树脂、酚醛树脂、聚苯乙烯树脂以及聚氨基甲酸酯树脂中的至少一个。
38.另外，微透镜阵列层是通过在聚碳酸酯层的前面整体上进行uv模塑成型从而形成mla的图案(pattern)打印层，此时，可基于紫外线打印(ultra-violet printing)方式打印图案(pattern)。
39.uv打印方式作为改善这种技术问题的方式，使用暴露在uv光的同时瞬间固化，即具有立即干燥特性的专用液体墨水，由于利用紫外线瞬间干燥，因此不受材料的限制可体现各种颜色，而且具有较强的防脱色及防潮气特性，从而可确保基于外部气候变化的卓越的耐久性。
40.即使不是uv方式的图案层，图案层也可以通过凹版打印工艺形成，该工艺利用表面形成有预设图案或者形状的凹刻槽的凹版辊。此时，将用于形成uv图案层的组合物填充到凹刻槽之后，随着在着色打印层上进行凹版打印，可形成截面具有凹凸形状的图案层。如上所述，当形成uv图案层时，可展现各种设计，从而可提高审美感。
41.形成图案层的组合物可含有粘性物质。所述粘性物质可包括环氧树脂、丙烯酸树脂、聚烯烃树脂、聚酰氨树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、石油树脂、酚醛树脂、聚苯乙烯树脂以及聚氨基甲酸酯树脂中的至少一个。将含有粘性物质的用于形成图案层的组合物填充到表面形成有凹刻槽的凹版辊中，从而可进行凹版打印工艺。由此，后序无需另外进行固化工艺，便可马上形成图案层，因此可简化工艺，缩短工艺时间。
42.对于形成于聚碳酸酯层110前面的uv图案层而言，如果形成该uv图案层的组合物含有与在所述着色打印层所使用的粘性物质相同的物质，则可提高着色打印层与uv图案层间的界面特性。
43.uv图案层130形成于聚碳酸酯层的背面，可形成如本发明所属技术领域所熟知的各种图案(pattern)。
44.其次，包括在uv图案层130背面形成相应于uv图案层130图案的沉积层140的步骤。沉积层140由具有预定透过率的材料形成，可基于化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)或者物理气相沉积(physical vapor deposition，pvd)等形成。
45.此外，在保持形成于uv图案层130的图案的同时可调节透过率或者反射率。而且，沉积层140作为具有导电性的透明导电层，可包括铟、铬、锡或者ito(indium tin oxide)中的任意一个以上。
46.对于制造过程中利用化学反应的化学气相沉积而言，其是一种在集成电路等制造工艺中在基板上制作硅薄膜等的工艺技法。广泛应用于制造氧化硅膜、氮化硅膜、非晶硅(amorphous silicon)薄膜等。如果对具有化学物质的气体施加热能或者光能，或者利用高频进行等离子化，则原材料被原子团化使反应性大大提高，从而吸附并堆积在基板上。
47.物理气相沉积工艺是在基板上沉积氧化物半导体或者gaas等时将化合物质融化并制成固体状态的标的物并利用热或者电子束使其挥发后沉积于基板上。
48.此时，原材料通过热、激光、电子束等以气态挥发，挥发的气态原材料与基板接触时变成固态。
49.其次，包括在沉积层140的背面形成丝印层150的步骤。丝印层150由丝网打印方式形成，也可以打印徽标、产品型号名、按钮或者特定花纹。
50.其次，丝网打印后通过进行3d模具冲压的成形作业步骤从而提供立体美感。
51.其次，执行将成形作业后的手机装饰膜100剪切成各个单元(cell)的cnc加工步骤。
52.图2是将形成有微透镜阵列层120的手机装饰膜部分应用于手机外壳200的示意图，手机外壳200可明确地区分为应用手机装饰膜100的部分220和未应用的部分210，应用的部分220从视觉上可看到朦胧感。
53.即，相比于现有的应用于后盖的装饰膜，本发明通过微透镜阵列层可从视觉上产生朦胧感，从而可向使用者提供各种审美感，而且相比于现有的薄膜，耐刮痕性、耐药品性及耐久性得到提高，且不残留指纹等痕迹，从而可确保高识别性状态。
54.附图和说明书中公开了最佳优选实施例。在此，虽使用了特定的术语，但这只是用于说明本发明，而非用于限定含义或者限定权利要求书中记载的本发明的范围。因此，对于本技术领域具有通常知识的技术人员而言，应能够理解基于此可进行各种变形并可实施等同的其他实施例。因此，本发明真正的技术保护范围将基于权利要求书的技术思想而确定。