用于物理气相沉积工艺的靶材初始处理方法与控制器与流程

技术特征：
1.一种基于物理气相沉积工艺的靶材初始处理方法，其特征在于，包括：从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流。2.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，每次提高所述导通电流之前暂停第一预设时间。3.如权利要求2所述的靶材初始处理方法，其特征在于，各所述第一预设时间的长度相同或不同。4.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，每次提高所述导通电流时，控制各所述导通电流在第二预设时间之内达到目标电流，各所述第二预设时间相同或不同。5.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述预设电流值为m，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：从零开始分n次提高所述导通电流，所述导通电流每次提高的值不大于m/n，其中m、n均为正整数，n≥2。6.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：响应新靶材通电信号，控制恒流源顺次输出由低到高的第一电流至第n电流直至输出所述预设电流，n≥2，其中，所述第一电流至所述第n电流中各电流输出的持续时长为30s～60s。7.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：响应新靶材通电信号，控制连接所述新靶材的多个恒流源顺次启动，相邻两个恒流源的启动时间之间间隔30s～60s。8.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，在将所述导通电流提高至所述预设电流的过程中持续通入工作气体。9.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：响应新靶材通电信号，控制连接所述新靶材的恒压源顺次输出由低到高的第一电压至第n电压直至输出与所述预设电流对应的预设电压，其中，n≥2，第一电压至所述第n电压的持续时长相等，所述持续时长为30s～60s；或者，响应新靶材通电信号，控制连接所述新靶材的多个恒压源顺次启动，其中每个所述恒压源输出的电压相同，相邻两个恒压源的启动时间之间间隔30s～60s。10.一种用于物理气相沉积工艺的控制器，其特征在于，用于执行如权利要求1-9任一项所述的靶材初始处理方法。

技术总结
本公开提供基于物理气相沉积工艺的靶材初始处理方法与控制器。靶材初始处理方法方法包括：从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流。本公开提供的靶材初始处理方法可以避免新靶材参与腔体清洁过程中出现电弧而引起宕机检修。引起宕机检修。引起宕机检修。


技术研发人员：李仁龙 王农展
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2020.09.04
技术公布日：2022/3/3