蒙砂处理加工系统的制作方法

1.本技术涉及工件的蒙砂处理技术领域，尤其是涉及一种蒙砂处理加工系统。


背景技术：

2.相关技术中，手机行业玻璃盖板的蒙砂工艺主要是通过水刀线实现，然而在加工蒙砂产品时存在以下问题：由于蒙砂药液是固液混合状态，在水刀线的回流路很容易沉积，堵塞回流口。并且，一旦有异物或杂质吸附在水刀线刀口附近，药水中的聚乙烯吡咯烷酮(pvp)及十二烷基苯磺酸钠(sds)会选择性的吸附在异物四周并不断成核长大，最终将水刀线的刀口堵塞，形成断流。另外，由于水刀线是将药水变成雾状吸附在玻璃表面，使得化学反应过程中，玻璃表面没有足够的切向力，使得pvp链或sds分子在成核过程中无法均匀的长大，从而导致异色、流痕比例高。


技术实现要素：

3.本技术提出一种蒙砂处理加工系统，该蒙砂处理加工系统在对工件进行蒙砂处理的过程中，利用搅拌装置对蒙砂反应槽的蒙砂药液进行搅拌，可以使蒙砂粉在蒙砂药液中均匀分布，不会沉积，避免了回流口堵塞、道口堵塞等问题，并且使得加工件的表面蒙砂处理后具有均匀的蒙砂效果，避免或减少出现流痕、异色等缺陷。
4.根据本技术实施例的蒙砂处理加工系统，包括：蒙砂设备，所述蒙砂设备包括蒙砂反应槽和搅拌装置，所述蒙砂反应槽内适于盛放蒙砂药液，所述搅拌装置设于所述蒙砂反应槽，且所述搅拌装置的至少一部分伸入至所述蒙砂反应槽内以搅拌所述蒙砂药液。
5.根据本技术实施例的蒙砂处理加工系统，通过在蒙砂设备内的蒙砂反应槽内设置搅拌装置，且搅拌装置的至少一部分可以伸入蒙砂反应槽内，使搅拌装置可以搅拌蒙砂药液，该蒙砂处理加工系统在对工件进行蒙砂处理的过程中，利用搅拌装置对蒙砂反应槽的蒙砂药液进行搅拌，可以使蒙砂粉在蒙砂药液中均匀分布，不会沉积，避免了回流口堵塞、道口堵塞等问题，并且使得加工件的表面蒙砂处理后具有均匀的蒙砂效果，避免或减少出现流痕、异色等缺陷。
6.本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
7.本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
8.图1是根据本技术一些实施例的蒙砂处理加工系统的示意图；
9.图2是根据本技术一些实施例的蒙砂处理加工系统的部分结构示意图；
10.图3是根据本技术一些实施例的蒙砂设备的示意图；
11.图4是根据本技术一些实施例的蒙砂处理加工系统的搅拌装置的示意图；
12.图5是根据本技术一些实施例的第一清洗槽的示意图；
13.图6是根据本技术一些实施例的第二清洗槽的示意图；
14.图7是根据本技术一些实施例的降温槽的示意图；
15.图8是根据本技术一些实施例的机械手和夹具的配合示意图。
16.附图标记：
17.蒙砂处理加工系统100；
18.蒙砂设备1；蒙砂反应槽11；支撑凸耳111；槽体112；第一进口113；第一出口114；支撑座115；搅拌装置12；搅拌件121；驱动杆1211；搅拌部1212；框体12121；杆体12122；连接杆1213；驱动机构122；
19.第一清洗槽2；第二进口21；第二出口22；
20.第二清洗槽3；第三进口31；第三出口32；
21.第三清洗槽4；
22.降温槽5；第四进口51；第四出口52；
23.机械手6；夹具61；支架611；吸盘612。
具体实施方式
24.下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
25.下面参考图1-图8描述根据本技术实施例的蒙砂处理加工系统100。
26.参照图1、图2，根据本技术实施例的蒙砂处理加工系统100，包括：蒙砂设备1，蒙砂设备1包括蒙砂反应槽11和搅拌装置12，蒙砂反应槽11内适于盛放蒙砂药液，例如蒙砂反应槽11可以选用亚克力材料，重量轻、易搬运，且成本较低。蒙砂药液可以由第一组分和第二组分按照1:1～2的比例混合而成，其中第一组分可以由氟化氢铵、氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙、晶型控制剂等组成，第二组分可以由水和硝酸等组成，第一组分和第二组分混合熟化后形成固液混合的蒙砂药液，蒙砂药液可以盛放在蒙砂反应槽11内，工件可以在蒙砂处理槽内进行蒙砂处理，工件可以为玻璃件，例如工件可以为电子设备的壳体胚件，通过该蒙砂处理加工系统100可以对工件进行蒙砂处理，使得蒙砂处理后的工件具有蒙砂效果。
27.搅拌装置12设于蒙砂反应槽11，且搅拌装置12的至少一部分伸入至蒙砂反应槽11内以搅拌蒙砂药液。例如搅拌装置12的一部分可以伸入至蒙砂反应槽11内，或者整个搅拌装置12可以伸入至蒙砂反应槽11内，并且搅拌装置12可以在蒙砂反应槽11内往复运动以搅拌蒙砂药液，从而使蒙砂粉可以均匀地分布在蒙砂药液中，不会沉积。
28.例如，在利用该蒙砂处理加工系统100在对工件进行蒙砂处理的过程中，可以在蒙砂反应槽11内放置蒙砂药液，蒙砂药液可以为固液混合形态，将工件放置蒙砂反应槽11内且使得工件的需要蒙砂处理的部分浸没在蒙砂反应槽11的蒙砂药液内，蒙砂药液可以对工件的表面进行腐蚀，从而形成蒙砂效果。在蒙砂处理的过程中，可以利用搅拌装置12对蒙砂反应槽的蒙砂药液进行搅拌，可以使蒙砂粉在药液中均匀分布。
29.与相关技术中的水刀线蒙砂工艺设备相比，本技术的蒙砂处理加工系统100，由于是将工件浸入蒙砂反应槽11的蒙砂药液内，且通过搅拌装置12对蒙砂反应槽的蒙砂药液进
行搅拌，从而使得蒙砂粉在药液中均匀分布，且使得蒙砂粉不会沉积，避免了回流口堵塞、道口堵塞等问题，并且使得加工件的表面蒙砂处理后具有均匀的蒙砂效果，而且由于搅拌装置12对蒙砂反应槽的蒙砂药液进行搅拌，也使得蒙砂药液在蒙砂反应槽内可以沿着工件表面的切向方向流动，在反应的过程中，在蒙砂药液内具有pvp链或sds分子时，在pvp链或sds分子成核过程中可以较为均匀的长大，可以使得工件表面避免或减少出现流痕、异色等缺陷。
30.根据本技术实施例的蒙砂处理加工系统100，通过在蒙砂设备1的蒙砂反应槽11内设置搅拌装置12，且搅拌装置12的至少一部分可以伸入蒙砂反应槽11内，使搅拌装置12可以搅拌蒙砂药液，该蒙砂处理加工系统100在对工件进行蒙砂处理的过程中，利用搅拌装置12对蒙砂反应槽11的蒙砂药液进行搅拌，可以使蒙砂粉在蒙砂药液中均匀分布，不会沉积，避免了回流口堵塞、道口堵塞等问题，并且使得加工件的表面蒙砂处理后具有均匀的蒙砂效果，避免或减少出现流痕、异色等缺陷。
31.参照图2-图4，根据本技术的一些实施例，搅拌装置12包括：搅拌件121和驱动机构122，搅拌件121的至少一部分位于蒙砂反应槽11内以搅拌蒙砂药液，例如搅拌件121的一部分位于蒙砂反应槽11内，或者整个搅拌件121位于蒙砂反应槽11内，在搅拌件121位于蒙砂反应槽11内时，搅拌件121可以搅拌蒙砂药液，使蒙砂粉均匀地分布在蒙砂药液中，且不易沉积。驱动机构122设在蒙砂反应槽11上，驱动机构122与搅拌件121相连以驱动搅拌件121运动。例如，蒙砂反应槽11的顶部可以设置支撑座115，驱动机构122可以固定在支撑座115上，从而使得驱动机构122可以固定在蒙砂反应槽11上，驱动机构122与搅拌件121相连，在搅拌件121位于蒙砂反应槽11内时，驱动机构122可以驱动搅拌件121做往复运动，从而可以实现自动搅拌蒙砂药液，使蒙砂粉均匀地分布在蒙砂药液中且不易沉积。其中，上述支撑座115可以为镀铁氟龙钢材(由于作业环境有强酸腐蚀的危险，钢材表面镀铁氟龙做耐腐蚀保护)。
32.参照图2、图3，根据本技术的一些可选实施例，搅拌件121与蒙砂反应槽11的底壁之间具有间隙，从而使搅拌件121可以在蒙砂反应槽11内方便地做往复运动，以搅拌蒙砂药液，使蒙砂药液混合均匀，并且可以避免或减少搅拌件121在运动的过程中与蒙砂反应槽11的底壁发生刮擦。
33.可选地，参照图2、图3，搅拌件121与蒙砂反应槽11的底壁之间的间隙的范围为1-2mm。如果搅拌件121与蒙砂反应槽11的底壁之间的间隙过小，在搅拌件121在蒙砂反应槽11内做往复运动时，容易与蒙砂反应槽11的底壁发生刮擦。如果搅拌件121与蒙砂反应槽11的底壁之间的间隙过大，蒙砂粉会沉积在蒙砂反应槽11底部不易被刮起。因此，将搅拌件121与蒙砂反应槽11的底壁之间的间隙设置在上述范围，使搅拌件121可以方便地在蒙砂反应槽11内做往复运动，既可以避免搅拌件121在运动的过程中与蒙砂反应槽11的底壁发生刮擦，同时可以具有较好的搅拌效果，使得药液中的蒙砂粉基本不会沉积，从而使得蒙砂粉更为均匀地分散在药液中。
34.参照图4，根据本技术的一些可选实施例，搅拌件121包括：驱动杆1211、搅拌部1212和连接杆1213。驱动杆1211与驱动机构122相连，驱动机构122可以驱动驱动杆1211做往复运动，从而带动搅拌件121做往复运动。搅拌部1212邻近蒙砂反应槽11的底部，例如搅拌部1212与蒙砂反应槽11的底壁之间具有间隙且所述间隙的范围可以为1-2mm，搅拌部
1212用于将蒙砂反应槽11底部的蒙砂粉刮起，减少或避免蒙砂粉沉积，使得蒙砂粉均匀分布在药液中，从而使蒙砂药液混合均匀。连接杆1213的上端与驱动杆1211相连，连接杆1213的下端与搅拌部1212相连。在搅拌件121位于蒙砂反应槽11内时，驱动机构122可以驱动驱动杆1211做往复运动，从而使连接杆1213可以带动搅拌部1212在蒙砂反应槽11内做往复运动，从而可以搅拌蒙砂药液，使蒙砂粉均匀地混合在蒙砂药液中。通过将搅拌件121设置为包括上述驱动杆1211、搅拌部1212和连接杆1213的结构，使得搅拌件121的结构简单，且方便搅拌件121与驱动机构122相连。
35.可选地，参照图4，搅拌部1212包括框体12121和杆体12122，框体形成为沿着蒙砂反应槽11的周向延伸的环形，杆体12122为至少一个，杆体12122设在框体12121的内周侧，且杆体12122的两端与框体12121相连，例如杆体12122可以为一个，杆体12122也可以为多个，在杆体12122为多个时，多个杆体12122可以沿框体12121的长度方向或宽度方向间隔排布。由此，使得搅拌部1212的结构简单且使得搅拌部1212的结构强度较高，并且可以覆盖蒙砂反应槽11内较大的面积，搅拌部1212在蒙砂反应槽11内做往复运动时，可以对整个蒙砂反应槽11进行大面积的均匀地搅拌，使蒙砂粉在蒙砂药液中更均匀地分布。
36.需要解释的是，本技术所述的“多个”是指两个或两个以上。
37.可选地，参照图1-图4，驱动机构122设在蒙砂反应槽11的顶部，驱动机构122为气缸或液压缸，例如驱动机构122可以是带导杆的气缸，使驱动机构122具有导向作用，且可以保证搅拌件121在蒙砂反应槽11内做往复运动的过程中两侧导杆平行运动。驱动杆1211的一端与驱动机构122相连，蒙砂反应槽11的顶部设有支撑凸耳111，驱动机构122可以与支撑凸耳111相连，驱动杆1211的另一端可活动地穿设于支撑凸耳111，使驱动机构122可以驱动驱动杆1211做往复运动，且驱动杆1211可以带动搅拌部1212在蒙砂反应槽11内做往复运动，从而可以搅拌蒙砂药液，使蒙砂粉均匀地混合在蒙砂药液中。由此，将驱动机构122设置为气缸或液压缸，并且在蒙砂反应槽11的顶部设置支撑凸耳111且使得驱动杆1211可以活动地穿设于支撑凸耳111，从而使得驱动杆1211可以得到支撑且方便驱动杆1211沿着预定方向运动，从而可以带动搅拌部1212沿着预定方向往复运动。
38.可选地，参照图4，连接杆1213邻近蒙砂反应槽11的侧壁设置，由此可以避让出较大的空间以放置工件，例如连接杆1213与蒙砂反应槽11的侧壁之间具有间隙，从而使连接杆1213不会与蒙砂反应槽11发生刮擦，且连接杆1213可以平稳地带动搅拌部1212在蒙砂反应槽11内做往复运动。
39.参照图1、图2、图3，根据本技术的一些实施例，蒙砂反应槽11包括具有中空腔的槽体112和设在中空腔内的降温层，降温层可以降低蒙砂反应槽11内的温度，从而使蒙砂反应可以在设定的温度条件下进行，从而可以达到设定的蒙砂效果。例如，在蒙砂反应过程中，通过降温层对蒙砂反应液进行降温，使得蒙砂反应保持在较低的温度环境中，可以使得蒙砂药液内的pvp链或sds分子覆盖在工件表面时，与工件表面物质生成晶型结构物质，在蒙砂处理之后，晶型结构物质在后续清洗过程中可以从工件表面去除，使得工件表面多个具有反射效果的小晶面，从而使得工件既具有蒙砂效果，同时具有闪光效果，也就使得工件的外观具有闪光砂效果。
40.参照图1、图2、图3，根据本技术的一些可选实施例，降温层包括换热介质，换热介质的至少一部分可流动，蒙砂反应槽11的外侧壁上形成有与中空腔均连通的第一进口113
和第一出口114。例如换热介质可以是冰水，第一进口113和第一出口114可以设置在蒙砂反应槽11相对的外侧壁上，例如在蒙砂反应槽11为矩形时，第一进口113和第一出口114可以分别邻近蒙砂反应槽11的两个相对的角设置，且第一进口113的高度可以高于第一出口114的高度，有利于冰水的循环冷却。第一进口113和第一出口114之间可以外接冰水机，冰水机用于将水冷却，冰水可以从第一进口113进入中空腔内，沿着槽体112的侧壁朝向第一出口114的方向流动，从第一出口114流出后通过冰水机冷却后，再次从第一进口113进入中空腔内，如此循环流动，从而可以对蒙砂反应槽11内的蒙砂药液降温，并使蒙砂药液始终保持在低温状态。冰水机的功率优选40-50匹，使蒙砂反应槽11内的蒙砂药液冷却时间较短，可以提高产线的产能。
41.参照图1，根据本技术的一些实施例，蒙砂处理加工系统100包括第一清洗槽2和第二清洗槽3，第一清洗槽2和第二清洗槽3均可以采用亚克力或钢板等材质，优选亚克力，质量轻、易搬运。第一清洗槽2和第二清洗槽3均邻近蒙砂反应槽11设置，从而在工件蒙砂处理之前和蒙砂处理之后，便于对工件进行清洗。在工件放置在蒙砂处理槽内进行蒙砂处理之前适于在第一清洗槽2内进行清洗，第一清洗槽2可以对工件初步清洗，将工件表面的灰尘等去除。在工件在蒙砂处理槽内蒙砂处理之后适于在第二清洗槽3内进行清洗，第二清洗槽3可以将工件上的化学残留物等杂质去除。
42.参照图1、图5，根据本技术的一些可选实施例，第一清洗槽2的侧壁上形成有第二进口21和第二出口22，第一清洗槽2为矩形，第二进口21和第二出口22分别邻近第一清洗槽2的两个相对的角设置。由此，使得第一清洗槽2的结构较为简单，在工件进行蒙砂处理之前，先将蒙砂件在第一清洗槽2内清洗以去除工件表面的灰尘等，清洗液可以从第二进口21进入清洗槽内，并从第二出口22流出，例如清洗液可以是水。由于第二进口21和第二出口22设置在第一清洗槽2的两个对角，在清洗液清洗工件时，灰尘等可以随着清洗液的流动被带出第二出口22，从而可以保证第一清洗槽2内的洁净度。
43.参照图1、图6，根据本技术的一些可选实施例，第二清洗槽3的侧壁上形成有第三进口31和第三出口32，第二清洗槽3为矩形，第三进口31和第三出口32分别邻近第二清洗槽3的两个相对的角设置。由此，使得第二清洗槽3的结构较为简单，在工件完成蒙砂处理之后，将工件在第二清洗槽3内清洗以去除工件上的化学残留物等，清洗液可以从第三进口31进入清洗槽内，并从第三出口32流出，例如清洗液可以是水。由于第三进口31和第三出口32设置在第二清洗槽3的两个对角，在清洗液清洗工件时，化学残留物等可以随着清洗液的流动被带出第三出口32，从而可以保证第二清洗槽3内的洁净度。
44.参照图1、图5、图6，根据本技术的一些可选实施例，第一清洗槽2的侧壁上形成有第二进口21和第二出口22，第一清洗槽2为矩形，第二进口21和第二出口22分别邻近第一清洗槽2的两个相对的角设置，并且第二清洗槽3的侧壁上形成有第三进口31和第三出口32，第二清洗槽3为矩形，第三进口31和第三出口32分别邻近第二清洗槽3的两个相对的角设置。由此，使得第一清洗槽2和第二清洗槽3的结构较为简单，在工件进行蒙砂处理之前，先将蒙砂件在第一清洗槽2内初步清洗以去除表面灰尘等，清洗液可以从第二进口21进入清洗槽内，并从第二出口22流出，例如清洗液可以是水。在工件完成蒙砂处理之后，将工件在第二清洗槽3内再次清洗以去除化学残留物等，清洗液可以从第三进口31进入清洗槽内，并从第三出口32流出，例如清洗液可以是水。由于第二进口21和第二出口22设置在第一清洗
槽2的两个对角，第三进口31和第三出口32设置在第二清洗槽3的两个对角，在清洗液清洗工件时，灰尘、化学残留物等可以随着清洗液的流动被带出第二出口22、第三出口32，从而可以保证第一清洗槽2、第二清洗槽3内的洁净度。
45.参照图1、图7，根据本技术的一些可选实施例，第一清洗槽2和第二清洗槽3内均适于放置水，易于获取且便于对工件进行清洗。蒙砂处理加工系统100还包括第三清洗槽4，第三清洗槽4邻近蒙砂处理槽设置，第三清洗槽4内适于放置酸洗液，从而便于对工件进行酸洗以及后续在蒙砂处理槽内蒙砂处理。在工件放置在蒙砂处理槽内进行蒙砂处理之前且在工件放置在第一清洗槽2内清洗之后，工件适于放置在第三清洗槽4内进行清洗。例如在工件进行蒙砂处理之前，先将工件放置在第一清洗槽2内进行初步清洗以去除表面灰尘等，然后将工件放置在第三清洗槽4内进行酸洗以去除油污杂质等，接着将工件放置在蒙砂反应槽11内进行蒙砂处理，最后将工件放置在第二清洗槽3内再次清洗以去除化学残留物等，从而获得蒙砂处理后的工件。
46.参照图1、图7，根据本技术的一些实施例，蒙砂处理加工系统100包括：用于对工件进行降温的降温槽5，降温槽5可以选用亚克力、钢板等材质，优选亚克力，重量轻、易搬运、成本低。降温槽5邻近蒙砂处理槽，从而便于对工件进行降温以及后续在蒙砂处理槽内蒙砂处理。
47.在工件放置在蒙砂处理槽内进行蒙砂处理之前适于放置在降温槽5内进行降温，在工件蒙砂处理需要得到特殊效果，例如闪光砂效果时，工件需要在低温环境下进行蒙砂处理，且在低温环境下蒙砂药液生成的聚乙烯吡咯烷酮(pvp)及十二烷基苯磺酸钠(sds)可以和工件发生反应，蚀刻工件的表面并使工件的表面具有钻石般的闪光效果。在将工件放置在蒙砂反应槽11内蒙砂处理之前，将工件放置在降温槽5内做降温处理，可以使工件在进入蒙砂反应槽之前就处于低温状态，从而使蒙砂处理的效果更好，可以更好地达到预期的闪光砂效果。
48.参照图1、图7，根据本技术的一些可选实施例，降温槽5内适于放置用于对工件进行降温的降温介质，降温介质的至少一部分可流动，例如降温介质可以是冰水，降温快、易于获取且不会对工件产生影响。降温槽5的侧壁上形成有第四进口51和第四出口52，例如降温槽5可以为矩形，第四进口51和第四出口52可以分别邻近降温槽5的两个相对的角设置，第四进口51和第四出口52之间可以连接冰水机，冰水机用于将水冷却，冰水可以从第四进口51进入降温槽5内，沿着降温槽5的内壁朝向第四出口52的方向流动，从第四出口52流出后通过冰水机冷却后，再次从第四进口51进入降温槽5内，如此循环流动，从而可以对降温槽5内的工件进行降温。
49.参照图2、图8，根据本技术的一些实施例，蒙砂处理加工系统100包括：机械手6，机械手6用于抓取和转移工件，例如机械手6可以将工件抓取并转移放置在蒙砂反应槽11内，机械手6也可以将工件抓取固定之后，从蒙砂处理加工系统100的一个工位转移至另一个工位，例如在蒙砂处理加工系统100包括上述的第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4、降温槽5等时，机械手6可以将工件在蒙砂反应槽11、第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4以及降温槽5等之间进行转移。在工件位于蒙砂反应槽11内时，机械手6可以带动工件运动，例如在工件在蒙砂反应槽11内进行蒙砂处理时，机械手6可以进行钟摆运动、垂直运动、水平运动、波浪式运动等，从而带动工件做钟摆运动、垂直运动、水平运动、波浪式运动等，使
工件与蒙砂药液之间进一步地具有均匀的切向力，在反应的过程中，在蒙砂药液内具有pvp链或sds分子时，在pvp链或sds分子成核过程中可以更为均匀的长大，可以更好地使得工件表面避免或减少出现流痕、异色等缺陷，使得蒙砂效果更为均匀一致。
50.可选地，机械手6可以按照下述参数设置：
51.1)控制轴数：6轴；
52.2)可达半径：700-800mm；
53.3)安装方式：地面安装；
54.4)动作范围：j1轴可达360
°
/5-6rad，j2轴可达245
°
/4-5rad，j3轴可达420
°
/7-8rad，j4轴可达380
°
/6-7rad，j5轴可达250
°
/4-5rad，j6轴可达720
°
/12-13rad；
55.5)腕部可搬运质量：7-10kg；
56.6)手腕允许负载转矩：j4轴可达15-17nm，j5轴可达15-17nm，j6轴可达8-10nm；
57.7)手腕允许负载转动惯量：j4轴可达0.4-0.5kgm2，j5轴可达0.4-0.5kgm2，j6轴可达0.1-0.2kgm2；
58.8)重复定位精度：
±
0.02mm。
59.参照图4、图8，根据本技术的一些实施例，蒙砂处理加工系统100包括：机械手6和夹具61，机械手6用于抓取和转移工件，机械手6可抓取夹具61，工件适于放置在夹具61上，从而通过设置夹具61，方便机械手6抓取工件且不会对工件造成损坏。在工件放置在夹具61上时，工件可以定位在夹具61上，在机械手6抓取夹具61和转移夹具61时，也就实现对工件的抓取和转移。例如机械手6可以将工件抓取并转移放置在蒙砂反应槽11内，机械手6也可以将工件抓取固定之后，从蒙砂处理加工系统100的一个工位转移至另一个工位，例如在蒙砂处理加工系统100包括上述的第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4、降温槽5等时，机械手6可以将工件在蒙砂反应槽11、第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4以及降温槽5等之间进行转移。机械手6可以根据产品运动要求进行相应轨迹路线的编程设计，使机械手6实现垂直运动、水平运动、钟摆运动、波浪式运动等，例如在蒙砂处理件进行蒙砂处理时，机械手6可以通过钟摆运动带动蒙砂处理件运动，在蒙砂处理件完成蒙砂处理后，机械手6可以通过垂直运动和水平运动转移蒙砂处理件。
60.其中，夹具61包括支架611和吸盘612，支架611内限定出适于放置工件的放置空间，放置空间的底壁上设有吸盘612，工件适于吸附在吸盘612上。在对工件进行蒙砂处理时，可以将工件放置在夹具61的放置空间内且通过吸盘612可以将工件吸附固定在夹具61上，吸盘612可以将工件牢牢吸附住，从而使工件在蒙砂处理过程中可以可靠地固定在吸盘612上且不会从支架611内脱落。另外在工件进行蒙砂处理时，支架611和搅拌件121间隔开设置，从而在机械手6带动支架611运动以及驱动机构122驱动搅拌件121运动时，两者互不影响。
61.可选地，支架611和吸盘612可以选用pvc材料制成(pvc材料质量轻，耐强酸腐蚀)，吸盘612的直径范围可以为φ40-50mm，吸盘612的直径太大易导致吸附力过大，拿取工件不方便，吸盘612的直径太小易导致吸附力太小，运动过程中工件易左右晃动。
62.下面参照图1-图8描述根据本发明一个实施例的蒙砂处理加工系统100。
63.参照图1和2，在本实施例中，蒙砂处理加工系统100包括上述的蒙砂设备1、第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4、降温槽5、机械手6和夹具61，机械手6可以抓取夹具61，
蒙砂设备1包括上述的蒙砂反应槽11和搅拌装置12，第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4和降温槽5均邻近蒙砂反应槽11设置，第一清洗槽2、第二清洗槽3、第三清洗槽4和降温槽5均位于蒙砂反应槽11的外周侧且沿蒙砂反应槽11的周向间隔排布。其中，蒙砂反应槽11内适于放置蒙砂药液，蒙砂反应槽11包括槽112体和设在槽体112的中空腔内的降温层，降温层包括换热介质，换热介质为冰水，第一清洗槽2和第二清洗槽3内均放置水，第三清洗槽4内放置酸洗液，降温槽5内放置降温介质，降温介质为冰水。
64.在利用该蒙砂处理加工系统100对工件进行蒙砂处理时，可以件工件放置在夹具61上，利用机械手6抓取装有工件的夹具61，并将装有工件的夹具61转移至第一清洗槽2内进行清洗，而后转移至第三清洗槽4内清洗，然后再转移至降温槽5内进行降温，再由降温槽5内转移至蒙砂反应槽11内进行蒙砂处理，蒙砂处理完成之后转移至第二清洗槽3内进行清洗，由此完成了对工件的蒙砂工艺处理的流程，使得工件具有蒙砂效果，可以根据需要使得工件还还可以具有闪光砂效果。
65.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
66.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
67.尽管已经示出和描述了本技术的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本技术的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由权利要求及其等同物限定。