显示面板及显示面板的制作方法与流程

1.本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及显示面板的制作方法。


背景技术：

2.由于具有结构简单、自发光、响应速度快、超轻薄、低功耗等优点，有机发光二极管(organic light emitting diode，oled)显示器正被各大显示器厂商大力开发。目前从小尺寸的移动电话显示屏，到大尺寸高分辨率的平板电视，采用oled显示面板都成为一种高端的象征。
3.oled显示面板表面具有柔性封装结构，对于大尺寸柔性oled显示面板来说，随着封装面积的增大，为了保证封装的效果，确保在弯折或卷曲过程中柔性封装结构的完整性，避免有机层、无机层的剥落(peeling)导致的失效，需要无机膜层与有机膜层界面间的结合力需要保证较高的水准。
4.目前主要柔性封装结构为无机膜层 有机膜层 无机膜层的多层膜叠层结构，有机膜层一般由液态油墨(ink)通过固化成膜，有机膜层作为平坦化及应力释放膜层，需要流平来达到较高的厚度均匀性，但受有机膜层与无机膜层的亲和性以及表面粗糙度的影响，现有的柔性封装结构无法保证无机膜层与有机膜层界面间的结合力，出现因膜层剥落而导致的失效风险。


技术实现要素：

5.本发明目的在于，解决现有显示面板的封装结构各膜层之间结合力不足而导致膜层剥落、失效的问题。
6.为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括：基板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；至少一挡墙，设置于与所述非显示区相对应的所述基板表面，所述挡墙围绕所述显示区；发光单元层，设置于与所述显示区相对应的所述基板表面；第一无机膜层，覆盖于与所述显示区相对应的所述基板表面并覆盖所述发光单元层；第二无机膜层，部分覆盖于与所述显示区相对应的所述第一无机膜层表面，所述第二无机膜层与所述挡墙之间存在间隙，所述间隙露出与所述显示区相对应的所述第一无机膜层的至少部分表面；有机膜层，位于所述显示区内，所述有机膜层覆盖所述第二无机膜层，所述挡墙形成对所述有机膜层的阻挡；第三无机膜层，覆盖所述有机膜层。
7.可选的，所述第二无机膜层的至少一侧边上设置有至少一个凹口。
8.可选的，所述凹口的数量为多个，沿所述第二无机膜层周向间隔排布，形成所述第二无机膜层的锯齿状边缘。
9.可选的，所述第二无机膜层的相对两侧边的所述凹口的数量相同，所述第二无机膜层的相邻两侧边的所述凹口数量相同或者相异。
10.可选的，所述凹口的内表面的形状为方形或弧形。
11.可选的，所述第二无机膜层包括主体及凸出设置于所述主体至少一侧边的至少两
个凸出部，设置于同一侧边上的相邻两所述凸出部与所述主体配合形成一所述凹口，所述凸出部的厚度小于所述主体的厚度，以形成所述第二无机膜层侧边的二级阶梯状截面结构。
12.可选的，所述凸出部上表面远离所述主体一端开设有槽口，形成所述凸出部的阶梯状截面结构，所述凸出部与所述主体配合形成所述第二无机膜层的三级或三级以上阶梯状截面结构。
13.可选的，所述主体的一侧边上凸出部的数量为一个，所述凸出部的长度大于、小于或者等于相邻侧边的长度。
14.可选的，所述第一无机膜层延伸至所述非显示区并覆盖所述挡墙，所述第三无机膜层延伸至所述非显示区并覆盖位于所述非显示区的所述第一无机膜层表面。
15.可选的，所述第一无机膜层、所述第二无机膜层和所述第三无机膜层的膜层材料分别选自如材料中的一种：sin膜层、sion膜层和sio膜层。
16.为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制作方法，包括：
17.提供基板；
18.在所述基板的显示区内形成发光单元层；
19.在所述基板的非显示区形成挡墙，所述挡墙围绕所述显示区；
20.在所述基板表面形成第一无机膜层，所述第一无机膜层覆盖所述发光单元层并覆盖所述挡墙；
21.在与所述显示区相对应的所述第一无机膜层表面形成第二无机膜层，所述第二无机膜层部分覆盖所述第一无机膜层，所述第二无机膜层与所述挡墙之间留有间隙；
22.在所述第二无机膜层表面形成有机膜层，所述有机膜层填充所述间隙；
23.在所述有机膜层表面形成第三无机膜层，所述第三无机膜层覆盖所述有机膜层。
24.为实现上述目的，本发明还提供一种移动终端，所述移动终端包括终端主体和如前所述的显示面板。
25.本发明的有益效果在于，本发明提供一种显示面板及显示面板的制作方法，所述显示面板通过在第一无机膜层与有机膜层之间增加一层第二无机膜层，且第二无机膜层与挡墙之间存在间隙，从而形成第二无机膜层与位于显示区内的第一无机膜层之间的阶梯状结构，使得后续形成的有机膜层与第一无机膜层之间的接触面边缘以及有机膜层与第二无机膜层的接触面边缘形成阶梯状，而非现有柔性封装结构中有机膜层与无机膜层之间的平面接触，以增加有机膜层与第一无机膜层、第二无机膜层之间的表面粗糙度，从而增加相邻膜层之间的结合力，避免显示面板在卷曲或弯折过程中出现膜层剥落的现象，提升良品率。
附图说明
26.下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
27.图1是本发明一示例性实施例中的显示面板结构示意图；
28.图1a是图1所示的显示面板的a-a向剖面图；
29.图1b是图1所示的显示面板的b-b向剖面图；
30.图2是本发明一示例性实施例中去除第三无机膜层和有机膜层的显示面板的俯视
结构示意图；
31.图3是本发明一示例性实施例中去除第三无机膜层和有机膜层的显示面板的俯视结构示意图；
32.图4是本发明一示例性实施例显示面板的制作方法流程图；
33.图5是本发明另一示例性实施例中的显示面板的剖面结构示意图；
34.图6是本发明另一示例性实施例显示面板中第二无机膜层的结构示意图；
35.图7是本发明另一示例性实施例中的显示面板的部分剖面结构示意图；
36.图7a是图7所示显示面板中第二无机膜层的结构示意图；
37.图8是本发明另一示例性实施例显示面板中第二无机膜层的结构示意图。
38.图中部件编号如下：
39.100、显示面板，110、基板，110a、显示区，110b、非显示区，120、挡墙，130、发光单元层，140、封装层，141、第一无机膜层，142、第二无机膜层，142a、主体，142b、凸出部，1421、1421’、凹口，1422、槽口，143、有机膜层，144、第三无机膜层。
具体实施方式
40.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
41.所述显示面板通过在第一无机膜层与有机膜层之间增加一层第二无机膜层，且第二无机膜层与挡墙之间存在间隙，从而形成第二无机膜层与位于显示区内的第一无机膜层之间的阶梯状结构，使得后续形成的有机膜层与第一无机膜层之间的接触面边缘以及有机膜层与第二无机膜层的接触面边缘形成阶梯状，而非现有柔性封装结构中有机膜层与无机膜层之间的平面接触，以增加有机膜层与第一无机膜层、第二无机膜层之间的表面粗糙度，从而增加相邻膜层之间的结合力，避免显示面板在卷曲或弯折过程中出现膜层剥落的现象，提升良品率。作为典型应用，所述显示面板作为oled显示屏可被应用于移动终端上，诸如数码相机、摄像机、便携式摄像机、个人数字助理、智能手机、超薄笔记本电脑、平板电脑、柔性显示器等之类的移动终端。
42.本发明的一个实施例中，参照图1、图1a、图1b、图2和图3，显示面板100包括基板110、挡墙120(bank)、发光单元层130和封装层140，基板110包括显示区110a和围绕显示区110a的非显示区110b，挡墙120设置于与非显示区110b相对应的基板110表面，挡墙120围绕显示区110a，具体地，挡墙120形状为环形，挡墙120的内环面与显示区110a的边缘交界。
43.发光单元层130设置于对应显示区110a的基板110表面，发光单元层130包括阳极层(图中未示出)、有机发光层(图中未示出)和阴极层(图中未示出)，在本实施例中，基板110包括用于驱动所述发光单元层130的驱动单元层(图中未示出)，驱动单元层包括有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、源极金属层和漏极金属层，阳极层与漏极金属层连接，以形成驱动单元层对发光层130的驱动。
44.封装层140包括层叠设置的第一无机膜层141、第二无机膜层142、有机膜层143和第三无机膜层144，第一无机膜层141覆盖基板110的显示区110a和非显示区110b，本实施例
中，第一无机膜层141覆盖位于显示区110a内的发光单元层130并覆盖位于非显示区110b内的挡墙120，具体地，本实施中，位于显示区110a内的第一无机膜层141覆盖发光单元层130的阴极层133，参照图1和图2，第二无机膜层142覆盖位于显示区110a内的第一无机膜层141的部分表面，第二无机膜层142与挡墙120之间存在间隙以露出位于显示区110a内的第一无机膜层141的至少部分表面，第二无机膜层142并不覆盖位于显示区110a内的第一无机膜层141的全部表面，而是内缩一段距离以形成第二无机膜层142与挡墙120之间的间隙，在本实施例中，第二无机膜层142边缘与挡墙120的内环面之间的间距为100～1000μm，从而实现第二无机膜层142与第一无机膜层141之间的二级阶梯状结构，有机膜层143覆盖第二无机膜层142并填充间隙，有机膜层143远离第二无机膜层142一面平坦化，由于第一无机膜层141与第二无机膜层142之间形成阶梯状结构，使得有机膜层143与第一无机膜层141以及第二无机膜层142的接触面也形成相应的阶梯状结构，形成嵌合以增加接触面的粗糙度，增加有机膜层143与第一无机膜层141以及第二无机膜层142之间的界面结合力，所述封装层140为柔性封装层，显示面板100的卷曲或弯折，发生在显示区110a与非显示区110b的交界处，本实施例增加靠近交界处的有机膜层143与第一无机膜层141及第二无机膜层142之间的结合力，从而避免在弯折或卷曲过程中出现膜层剥落的风险。而且，第二无机膜层142与挡墙120之间的间隙形成凹槽结构，有机膜层143填充该凹槽结构，在间隙处流平，可一定程度降低溢流的风险，在降低溢流风险的前提下，可以只设置单个挡墙120，对比一般设计可以减少挡墙的数量，从而进一步缩窄边框。
45.第三无机膜层144覆盖有机膜层143，第三无机膜层144延伸至非显示区110b并形成对位于非显示区内的第一无机膜层141的覆盖。
46.在一实施例中，参照图2，第二无机膜层142的侧边的内缩量不同，以在第二无机膜层142的侧边上形成多个凹口1421，进而实现第二无机膜层142与挡墙120之间间隙的不同，本实施例中，第二无机膜层142与挡墙120之间的间距为d为100～1000μm，最大间距为1000μm，最小间距为100μm，多个凹口1421沿第二无机膜层142的周向间隔排布形成第二无机膜层142的锯齿状边缘，在本实施例中，凹口1421内表面的形状为方形，形成凹字形状的凹口1421，形成于第二无机膜层142的一组相对侧边上凹口1421的数量相同，每个凹口1421的相对两内壁之间的间距x的范围值为20～100μm，形成于第二无机膜层142的另一组相对侧边上的凹口1421数量相同，每个凹口1421的相对两内壁之间的间距为y的范围值为20～100μm。第二无机膜层142的相邻两侧边上的凹口1421的数量相异。
47.在一实施例中，参照图3，凹口1421’内表面的形状为弧形，形成凹弧形状的凹口1421’，凹弧的开口端内径x’的范围值为20～100μm，凹弧的深度y’的范围值为20～100μm。
48.参照图4，本实施所述的显示面板100的制作方法包括如下步骤：
49.s1、提供基板110；
50.s2、在所述基板110的显示区110a内形成发光单元层130；
51.s3、在所述基板110的非显示区110b形成挡墙120，所述挡墙120围绕所述显示区110a；
52.s4、在所述基板110表面形成第一无机膜层141，所述第一无机膜层141覆盖所述发光单元层130并覆盖所述挡墙120；
53.s5、在与所述显示区110a相对应的所述第一无机膜层141表面形成第二无机膜层
142，所述第二无机膜层142部分覆盖所述第一无机膜层141，所述第二无机膜层142与所述挡墙120之间留有间隙；
54.s6、在所述第二无机膜层142表面形成有机膜层143，所述有机膜层143填充所述间隙；
55.s7、在所述有机膜层143表面形成第三无机膜层144，所述第三无机膜层144覆盖所述有机膜层143。
56.具体地，第一无机膜层141的成膜方式为ald(atomic layer deposition，原子层沉积)或cvd(化学气相沉积)，第一无机膜层141的厚度为0.5～1.5μm。第二无机膜层142的成膜方式为ald(atomic layer deposition，原子层沉积)或cvd(化学气相沉积)，沉积时可采用边缘具有与所述凹口1421或凹口1421’形状相对应的遮罩(mask)，从而形成具有锯齿状边缘的第二无机膜层142，第二无机膜层142的厚度为10nm～1000nm。有机膜层143的成膜方式为喷墨打印(ijp)，在成膜过程中，可在第二无机膜层142与挡墙120之间的间隙处流平，有机膜层143的边界与挡墙120的内环面相接，挡墙120形成对有机膜层143的阻挡以防止溢流。第三无机膜层144的成膜方式为ald(atomic layer deposition，原子层沉积)或cvd(化学气相沉积)。所述第一无机膜层141、所述第二无机膜层142和所述第三无机膜层144的膜层材料分别选自如材料中的一种：sin膜层、sion膜层和sio膜层。
57.作为本实施例的另一种方式，参照图5和图6，第二无机膜层142包括主体142a及凸出设置于所述主体142a至少一侧边的至少一个凸出部142b，设置于同一侧边上的相邻两所述凸出部142b与所述主体142a配合形成一所述凹口1421或所述凹口1421’，所述凸出部142b的厚度小于所述主体142a的厚度，以形成所述第二无机膜层142侧边的二级阶梯状结构。
58.在本实施例中，第二无机膜层142的侧边内缩形成所述凹口1421或所述凹口1421’后，会形成主体142a以及凸出设置于主体142a侧边的多个凸出部142b的结构，位于同一侧边的相邻两个凸出部142b之间即形成内表面为方形的凹口1421或内表面为弧形的凹口1421’，凸出部142b的厚度小于主体142a的厚度，或者至少部分凸出部142b的厚度小于主体142a的厚度，从而形成第二无机膜层142边缘的二级阶梯状结构，进而形成第二无机膜层142与第一无机膜层141之间的三级阶梯状结构，进一步增加有机膜层143与第一无机膜层141以及第二无机膜层142之间的嵌合，提升结合力，以避免在卷曲或弯折过程中出现剥落风险。本实施例中，凸出部142b的厚度大于或者等于10nm，主体142a的厚度小于或者等于1000nm。而第二无机膜层142的成膜方式中，可通过遮罩的结构设计实现凸出部142b与主体142a之间的厚度差异。
59.在一实施例中，参照图7和图7a，凸出部142b上表面远离所述主体142a一端开设有槽口1422，形成所述凸出部142b的阶梯状截面结构，所述凸出部142b与所述主体142a配合形成所述第二无机膜层142的三级或三级以上阶梯状截面结构。在本实施例中，凸出部142b上通过开设槽口1422，可使得凸出部142b本身就形成阶梯状结构，而通过多级槽口1422的设计，可形成凸出部142b的两级或两级以上阶梯结构，结合凸出部142b的厚度小于主体142a的厚度，形成第二无机膜层142的三级甚至三级以上的阶梯状结构，增加有机膜层143与第一无机膜层141以及第二无机膜层142之间的嵌合，提升结合力。作为改进方式，也可以在主体142a靠近凸出部142b一端形成槽口，形成主体142a的阶梯状结构，进而与凸出部
142b配合形成多级阶梯状结构。
60.在一实施例中，参照图8，所述主体142a的一侧边上凸出部142b的数量为一个，所述凸出部142b的长度l1大于、小于或者等于相邻侧边的长度l2。在本实施例中，主体142a的至少一条侧边上凸出部142b的数量为1个，第二无机膜层142的侧边无凹口设计，但保留了第二无机膜层142的阶梯状截面结构，参照图8，凸出部142b沿相邻侧边长度方向设置，凸出部142b的长度l1大于相邻侧边的长度l2。在其他实施例中，凸出部142b的长度l1小于或者等于相邻侧边的长度l2。
61.以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出多个改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。