一种低摩擦系数MoS2基复合固体润滑涂层及其制备方法与流程

一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
技术领域
1.本发明涉及固体润滑技术领域，具体涉及一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法。


背景技术：

2.二硫化钼具有良好的各向异性与较低的摩擦因数，且s对金属的粘附力很强，使二硫化钼能很好地附着在金属表面并始终发挥润滑功能，是一种性能良好的金属硫化物固体润滑剂。但大气环境下的二硫化钼在400℃左右时就开始逐渐氧化，其摩擦系数逐渐升高，而且二硫化钼的耐潮湿、耐氧化性差，随大气中湿度的增加其摩擦系数也增高。
3.为提高二硫化钼的耐氧化和耐湿性，延长其使用寿命，拓展其使用范围，研究人员通过添加单质金属、金属氧化物、金属硫化物或金属氟化物等与二硫化钼形成二组分或多组分固体润滑材料以改善固体润滑薄膜的协同润滑、耐磨损以及抗湿抗氧化等性能。通过及时补充s元素，保护摩擦副表面在做相对摩擦运动时免于损坏，延长mos2基固体润滑涂层使用寿命，具有重要的工业应用价值。
4.采用物理气相沉积法可制得具有结合力好、涂层均匀、致密等优点的润滑涂层，但仍存在多次重复使用后固体润滑涂层与基底之间内应力增加，固体润滑涂层氧化失效的问题，通过选择合适的金属共掺杂可以有效改善mos2基润滑涂层的机械性能。因此，针对mos2在使用寿命短的问题，通过改良二硫化钼固体润滑涂层与金属添加剂结合的成分体系，解决二硫化钼基固体润滑涂层在使用中耐磨性较差及使用环境苛刻的问题，从而达到延长涂层使用寿命的目的。


技术实现要素：

5.有鉴于此，提供一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法，获取低摩擦、高耐磨的固体润滑产品，来进一步延长mos2基固体润滑涂层在实际工业条件下的使用寿命。
6.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，上述低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的原子百分比组成为：金属0～30at％，cus4～28at％，mos2余量；上述金属为增强相；上述cus为协同润滑相；上述金属选自cu、al、ti中的任一种。
7.进一步地，上述低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的原子百分比组成为：cu0～15at％，cus4～28at％，mos2余量。
8.进一步地，上述低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的原子百分比组成为：al0～30at％，cus4～28at％，mos2余量。
9.进一步地，上述低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的原子百分比组成为：ti0～5at％，cus4～28at％，mos2余量。
10.本发明的另一目的在于提供一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的制备方
法，包括以下步骤：
11.步骤a1，预结合层溅射：在磁控溅射镀膜前，采用磁控直流电源，在预溅射功率为100w的条件下在基底表面预沉积ti结合层10～20min；其中，在磁控溅射镀膜前预沉积结合层，能够减少涂层与基体之间的内应力，提高涂层结合力，有利于延长涂层使用寿命；
12.步骤a2，磁控溅射镀膜：本底真空度为7.5
×
10-5
～5
×
10-5
pa，采用氩气为工作气体，工作气压为0.5pa～2pa，基底不加热，样品台旋转速度为3r/min～5r/min，靶基距为13cm～16cm；设置金属靶材的溅射条件：0w～50w直流溅射靶电源；设置cus靶材的溅射条件：25w～100w射频溅射靶电源；mos2靶材的溅射条件：100w射频溅射靶电源；溅射时间为2h～3h，得到低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层；
13.步骤a3，在真空条件下对步骤a2得到的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层进行220℃～420℃热处理。
14.其中，选用金属-cus-mos2靶材共溅射制备的固体润滑涂层通过真空热处理后可获取最低0.06的平均摩擦系数，且由于微观结构的致密化，涂层显微硬度得到提升，从而强化了复合涂层整体机械性能，涂层膜基结合力达到工业应用的hf1标准，总体耐磨损性能有所提高；而且cu、al等金属掺杂的复合涂层经真空热处理过程后，有助于进一步提高复合涂层的抗氧化性能。
15.进一步地，步骤a1中，上述基底为：单晶硅ra《1nm或表面粗糙度0.1μm-0.16μm不锈钢。
16.进一步地，在步骤a1进行前还包括对基底进行丙酮和酒精超声清洗、烘干以及氩气等离子清洗的步骤。
17.进一步地，步骤a1中，上述预结合层的厚度为35～70nm。
18.进一步地，步骤a2中，上述低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的厚度为0.8～2.0μm。
19.从上述的技术方案可以看出，本发明的优点是：
20.1.本发明所获得高性能固体润滑涂层是单层致密结构，cus/mos2复合固体润滑涂层平均摩擦系数为0.08～0.23，进一步掺杂金属，并经真空热处理后，平均摩擦系数进一步降低到0.06～0.16，纳米显微硬度达到1～1.5gpa；经真空热处理后金属-cus/mos2复合固体润滑涂层结合强度可达hf1；
21.2.本发明选用高温易于分解的cus作为磁控溅射制备mos2基复合固体润滑涂层的主要添加成分，或辅以第二种组分的金属形成中间相固溶体，所制备的涂层再经真空热处理，最终提高mos2基固体润滑涂层的综合摩擦性能和机械性能，工艺流程实现不繁杂，加工成本低，所制备的涂层综合使用性能达到要求，具有工业化应用的可行性；
22.3.本发明在磁控溅射镀膜前预沉积结合层，能够减少涂层与基体之间的内应力，同时由于cus的不稳定性，cus靶材共溅射对于mos2基固体润滑涂层在摩擦作用过程中s的消耗起到补充作用，可以较好的延长mos2基润滑涂层的使用寿命；
23.4.本发明选用的cu、al或ti金属作为cus-mos2共溅射靶材，可以发挥金属致密化mos2涂层的作用，发挥增强、增韧、抗氧化等作用，从而起到强化涂层整体机械性能的作用，使得复合涂层的总体耐磨损性能和抗湿性能均有所提高；
24.5.本发明cus掺杂mos2基固体润滑涂层的制备方法可启发更多mos2基固体润滑复
合涂层的研制，促进mos2基固体润滑领域的工业化发展。
25.除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
26.图1是本发明实施例1制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的sem图；
27.图2是本发明实施例1制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层截面的sem图；
28.图3是本发明实施例1制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层经磨损后的磨损形貌；
29.图4是本发明实施例1制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层压痕结合力形貌；
30.图5是本发明实施例3制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层压痕结合力形貌；
31.图6是本发明实施例3制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层平均摩擦系数变化图；
32.图7是本发明实施例3制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑系列涂层的xrd分析图谱；
33.图8是本发明实施例5-6制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层平均摩擦系数变化图；
34.图9是本发明实施例5-6制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的raman分析图谱；
35.图10是本发明实施例6-7制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的raman分析图谱；
36.图11是本发明实施例6-7制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层压痕结合力形貌；
37.图12是本发明实施例6-7制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层平均摩擦系数变化图；
38.图13是本发明实施例8-9制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层在不同退火温度处理后的xrd图；
39.图14是本发明实施例8-9所制的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层平均摩擦系数变化图。
具体实施方式
40.以下对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
41.实施例1
42.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
43.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的成分组成为：cus27.6at％，mos2余量；薄膜厚度为0.8μm。
44.该涂层通过cus靶与mos2靶材共溅射，制备方法为：
45.(1)对单晶硅和不锈钢基底进行丙酮和酒精超声清洗、烘干、氩等离子清洗；
46.(2)设置工艺参数，本底真空度为5
×
10-5
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为3r/min，靶基距为16cm；二靶均采用射频电源，正式溅射前，设置100w功率在基底表面预沉积ti预结合层10min，预结合层的厚度为35nm；
47.(3)磁控溅射镀膜：cus靶采用25w射频溅射靶电源，mos2靶采用100w射频溅射靶电源，溅射3h，得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层。
48.实施例2
49.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
50.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，其成分与实施例1相同，涂层厚度为1.5μm。
51.制备方法除步骤(3)中cus靶采用50w射频溅射靶电源，其他与实施例1相同。
52.实施例3
53.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
54.低摩擦系数mos2基金属复合固体润滑涂层，其成分、涂层厚度与实施例1相同。
55.制备方法除在真空条件下，所得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层在220℃、320℃和420℃下进行不同温度热处理，其他与实施例1相同。
56.实验例1
57.1、对实施例1制备的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层进行性能测试
58.(1)制得的复合固体润滑涂层结构致密，肉眼观察呈镜面，涂层的微观形貌如图1所示，涂层表面呈10-100nm左右的颗粒状；所制涂层的截面形貌如图2所示，截面底部呈紧密体型，截面上部显示出轻微凸起的颗粒状。
59.(2)采用中国科学院兰州化学物理研究所研制的高速往复摩擦磨损试验仪对该复合涂层进行了摩擦性能检测。测试条件为：室温22-24℃，rh35～50％。摩擦副材料为φ4mm钢珠，显微硬度测试仪进行压痕结合力测试。测试结果为：10n载荷下复合涂层平均摩擦系数最低为0.17，复合涂层结合力为hf2等级。
60.(3)该复合固体润滑涂层在摩擦磨损过程中形成较为明显的划痕，涂层表现出粘着磨损和微粒磨损结合的磨损机制。该涂层磨损形貌及压痕结合力轮廓如图3、图4所示，耐磨损性能佳，结合力偏低。
61.2、对实施例3制备的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层进行性能测试
62.(1)测试实施例3中220℃、320℃和420℃真空热处理后的复合涂层结合力和平均摩擦系数变化，测试结果如图5、图6所示，图中cus25-220℃表示cus靶采用25w射频溅射靶电源，在220℃下真空热处理；cus25-320℃表示cus靶采用25w射频溅射靶电源，在320℃下真空热处理；cus25-420℃表示cus靶采用25w射频溅射靶电源，在420℃下真空热处理；
63.(2)对实施例3制得的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的物相进行x射线衍射分析，图中cus25-220℃表示cus靶采用25w真空溅射靶电源，在220℃下真空热处理；cus25-320℃表示cus靶采用25w射频溅射靶电源，在320℃下真空热处理；cus25-420℃表示cus靶采用25w射频溅射靶电源，在420℃下真空热处理，测试结果如图7所示。
64.结果显示，cus靶采用25w功率射频溅射电源与mos2靶共溅射所得的复合固体润滑涂层进行220℃、320℃和420℃不同温度热处理，物相呈现为非晶态为主，说明所制涂层未
有大晶粒生成。
65.实施例4
66.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
67.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，掺杂金属选用cu靶材，原子百分比为cu15at％，cus28at％，余量为mos2，复合涂层厚度为1.5μm左右。
68.制备方法除cu靶材20w直流溅射，cus靶材25w射频溅射、mos2靶材100w射频溅射，其余与实施例1相同。
69.实施例5
70.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
71.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，其成分和涂层厚度与实施例4相同。
72.制备方法除在真空条件下，对所得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层进行220℃、320℃和420℃不同温度真空热处理，其他与实施例4相同。
73.实验例2
74.1、将实施例4未进行真空热处理的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层记为cu20cus，实施例5所制的不同温度真空热处理的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层分别记为cu20cus-220℃、cu20cus-320℃、cu20cus-420℃，并进行平均摩擦系数变化测试和raman分析，测试结果如图8、图9所示。
75.结果显示，复合涂层在经过420℃退火后显现出更为明显的mos2结晶峰，说明cu金属掺杂有利于高温退火过程时涂层中mos2相形核与晶核长大，mos2对应的e
2g
(382cm-1
)和a
1g
(407cm-1
)峰非常明显；而复合涂层中cus相对应的峰均不明显，甚至连指向cus非晶峰的特征都不明显，这由于cu掺杂抑制了cus晶体形成。
76.另外，raman图谱中显示出强度不大的cu2o峰，说明cu在涂层中容易发生氧化，这跟实施例1中复合涂层摩擦过程中出现磨粒磨损的原因一致，虽然cu2o在高温工作条件下具有利于涂层润滑的性能，但是常温下并不具有显著改善涂层润滑性能的作用。
77.涂层经220℃和320℃退火后，摩擦系数明显下降，320℃退火时平均摩擦系数更低，达到0.08。因此，适当温度下的退火处理进一步改善了cu-cus共掺杂的mos2基复合涂层的润滑性能。
78.实施例6
79.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
80.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，掺杂金属选用al靶材，al原子百分比为26at％，cus原子百分比为24at％，余量为mos2，涂层厚度约为1.0μm。
81.制备方法中掺杂金属al靶材采用30w直流溅射，cus靶材25w射频溅射、mos2靶材100w射频溅射，其余与实施例4相同。
82.实施例7
83.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
84.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，其成分和涂层厚度与实施例6相同。
85.制备方法除在真空条件下，对所得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层进行220℃、320℃和420℃不同温度真空热处理，其他与实施例6相同。
86.实验例3
87.1、将实施例6所制的未经真空热处理的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层记为al20cus，以及实施例7所制的220℃、320℃和420℃真空热处理的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层分别进行raman分析，测试结果如图10所示。然后测试真空热处理后复合涂层的结合力及平均摩擦系数变化，测试结果如图11、图12所示。
88.结果显示，al掺杂含量的增加有利于涂层中mos2的形核与生长。al金属掺杂cus-mos2复合涂层主要形成非晶结构，金属原子溶入到mos2、cu
1.94
s晶格中，与其一起形成非晶态结构；al掺杂导致了较为明显的残余应力和微裂纹的产生，在一定程度上成为涂层退火过程中晶核形成的发源地，促进涂层在退火过程中形成晶核并长大。经过420℃退火处理后涂层出现了mos2相的e
1g
(285cm-1
)、e
2g
(382cm-1
)和a
1g
(407cm-1
)峰以及微弱cus相对应峰。随着mos2结晶生长，cus相对应峰先逐渐增强然后又逐渐消失。
89.结合力测试结果还显示，al掺杂cus-mos2复合涂层时，铝掺杂导致的涂层内应力相对较小或者是晶格畸变较少，复合涂层经420℃热处理后结合力得到了提升，达到了hf1级别，尤其体现在复合涂层经退火处理后表现出来的韧性上。涂层具有较好的结合力，更有利于涂层的摩擦学性能和机械性能。
90.结果表明，经真空热处理处理后，复合涂层平均摩擦系数逐渐下降，经420℃退火后得到平均摩擦系数最低为0.064，复合涂层润滑性能得到改善。
91.实施例8
92.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
93.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，掺杂金属选用ti靶材，ti原子百分比为2.5at％，cus原子百分比为20at％，余量为mos2，涂层厚度约为1.0μm。
94.制备方法中ti金属靶材采用25w直流溅射，cus靶材采用25w射频溅射、mos2靶材采用100w射频溅射，其余与实施例4相同。
95.实施例9
96.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
97.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层，其成分与实施例8相同。
98.制备方法除在真空条件下，对所得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层进行220℃、320℃和420℃不同温度真空热处理，其他与实施例8相同。
99.实验例4
100.将实施例8未经真空热处理的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层记为ti25cus，以及实施例9所制的220℃、320℃和420℃不同温度真空热处理的低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层分别进行xrd分析，测试结果如图13所示，然后测试热处理后复合涂层的平均摩擦系数变化，结果如图14所示。
101.结果显示，复合涂层随着真空热处理温度的升高，涂层中的mos2的馒头峰越来越尖锐，其中320℃退火时mos2的馒头峰最尖锐；说明ti的掺杂也有更利于mos2结晶。
102.420℃退火处理的复合涂层平均摩擦系数是同系列中最低的，为0.09，复合涂层纳米压痕测试结果为1.34gpa，复合涂层磨损率也是最低，为40*10-7
mm3/n
·
m，这是由于ti掺杂后涂层整体更致密，涂层的机械性能得到显著提升导致的。
103.对比例1
104.一种纯mos2固体润滑涂层，厚度为1.0μm，制备方法为：
105.(1)对不锈钢基底进行表面丙酮和酒精超声清洗、烘干，并进行氩等离子清洗；
106.(2)设置工艺参数，本底真空度为5
×
10-5
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为5r/min，靶基距为16cm；采用直流电源，在预溅射功率为100w的条件下在基底表面预沉积ti结合层20min，预结合层的厚度为70nm；
107.(3)磁控溅射镀膜：mos2靶采用100w射频溅射靶电源，溅射3h，即得。
108.实验例5
109.采用中国科学院兰州化学物理研究所研制的高速往复摩擦磨损试验仪对对比例1制得的纯mos2固体润滑膜进行摩擦性能测试。测试条件为：室温，rh50％。摩擦副材料为φ4mm钢珠，划痕实验采用锥角120
°
、尖端半径0.2mm的金刚石压头，往复摩擦速度为240mm/min。测试结果为，平均摩擦系数0.175，纳米硬度为0.35gpa。
110.实施例10
111.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
112.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的成分组成为：cus4at％，mos2余量；薄膜厚度为2.0μm。
113.该涂层通过cus靶与mos2靶材共溅射，制备方法为：
114.(1)对单晶硅和不锈钢基底进行丙酮和酒精超声清洗、烘干、氩等离子清洗；
115.(2)设置工艺参数，本底真空度为7.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为0.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为5r/min，靶基距为13cm；二靶均采用射频电源，正式溅射前，设置直流电源100w功率在基底表面预沉积ti预结合层20min，预结合层的厚度为70nm；
116.(3)磁控溅射镀膜：设置工艺参数，本底真空度为7.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为0.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为5r/min，靶基距为13cm；cus靶采用100w直流溅射靶电源，mos2靶采用100w射频溅射靶电源，溅射2h，得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层。
117.实施例11
118.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
119.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的成分组成为：cu7.5at％，cus28at％，mos2余量；薄膜厚度为1.5μm。
120.该涂层通过cus靶与mos2靶材共溅射，制备方法为：
121.(1)对单晶硅和不锈钢基底进行丙酮和酒精超声清洗、烘干、氩等离子清洗；
122.(2)设置工艺参数，本底真空度为6.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为4r/min，靶基距为15cm；二靶均采用射频电源，正式溅射前，设置直流电源100w功率在基底表面预沉积ti预结合层15min，预结合层的厚度为50nm；
123.(3)磁控溅射镀膜：设置工艺参数，本底真空度为6.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为4r/min，靶基距为15cm；设置cu靶材的溅射条件20w直流溅射靶电源；cus靶采用50w直流溅射靶电源，mos2靶采用100w射频溅射靶电源，溅射2.5h，得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层。
124.实施例12
125.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
126.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的成分组成为：al30at％，cus20at％，mos2余量；薄膜厚度为1.2μm。
127.该涂层通过cus靶与mos2靶材共溅射，制备方法为：
128.(1)对单晶硅和不锈钢基底进行丙酮和酒精超声清洗、烘干、氩等离子清洗；
129.(2)设置工艺参数，本底真空度为6.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为4r/min，靶基距为15cm；二靶均采用射频电源，正式溅射前，设置100w功率在基底表面预沉积ti预结合层15min，预结合层的厚度为50nm；
130.(3)磁控溅射镀膜：设置工艺参数，本底真空度为6.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为4r/min，靶基距为15cm；设置al靶材的溅射条件20w直流溅射靶电源；cus靶采用50w直流溅射靶电源，mos2靶采用100w射频溅射靶电源，溅射2.5h，得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层。
131.实施例13
132.一种低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层及其制备方法
133.低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层的成分组成为：ti5at％，cus25at％，mos2余量；薄膜厚度为1.2μm。
134.该涂层通过cus靶与mos2靶材共溅射，制备方法为：
135.(1)对单晶硅和不锈钢基底进行丙酮和酒精超声清洗、烘干、氩等离子清洗；
136.(2)设置工艺参数，本底真空度为5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为2.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为4r/min，靶基距为15cm；二靶均采用射频电源，正式溅射前，设置直流电源100w功率在基底表面预沉积ti预结合层15min，预结合层的厚度为50nm；
137.(3)磁控溅射镀膜：设置工艺参数，本底真空度为6.5
×
10-4
pa，保护气体采用氩气，工作气压为1.5pa，基底温度是常温，衬底旋转速度为4r/min，靶基距为15cm；设置ti靶材的溅射条件20w直流溅射靶电源；cus靶采用50w直流溅射靶电源，mos2靶采用100w射频溅射靶电源，溅射2.5h，得低摩擦系数mos2基复合固体润滑涂层。
138.以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。