一种晶钻大理石瓷质砖及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种晶钻大理石瓷质砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施高温哑光面釉；在施高温哑光面釉后的坯体表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的坯体表面喷固定剂并定位布晶钻干粒；在布晶钻干粒后的坯体表面施高透明抛釉；将施高透明抛釉后的坯体烧成并抛光，得到所述晶钻大理石瓷质砖。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述晶钻干粒的化学成分包括：以质量百分比计，烧失：1.1～3.6％、sio2：15.2～25.6％、zro2：65.3～75.6％、hfo2：0.5～5.5％、mgo：3.8～8.2％。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述晶钻干粒的粒径为180～380微米。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述晶钻干粒的施加量为100～300 g/m2。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高透明抛釉的化学成分包括：以质量百分比计，sio2：50.3～60.5％、al2o3：10.4～16.3％、碱土金属氧化物：10.1～21.0％、碱金属氧化物：3.4～8.5％、zno：3.7～7.6％、b2o3：3.2～6.6％。6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高透明抛釉的施加方式为淋釉，比重为1.82～1.86 g/cm3，施加量为550～750g/m2。7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高温哑光面釉的化学成分包括：以质量百分比计，sio2：54.6～62.8%、al2o3：18.3～24.5%、碱土金属氧化物：2.4～7.9%、碱金属氧化物：3.4～9.2%、zro2： 4.8～10.7%。8.根据权利要求1至7中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高温哑光面釉的施加方式为喷釉，比重为1.42～1.46g/cm3，施加量为600～800 g/m2。9.根据权利要求1至8中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高透明抛釉的始融温度为1020～1060℃。10.根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法获得的晶钻大理石瓷质砖。

技术总结
本发明公开一种晶钻大理石瓷质砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施高温哑光面釉；在施高温哑光面釉后的坯体表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的坯体表面喷固定剂并定位布晶钻干粒；在布晶钻干粒后的坯体表面施高透明抛釉；将施高透明抛釉后的坯体烧成并抛光，得到所述晶钻大理石瓷质砖。所述晶钻大理石瓷质砖具有无毛孔的玻化表面，釉面光泽度高，具有晶钻立体效果。具有晶钻立体效果。具有晶钻立体效果。


技术研发人员：张松竹 李万平 尹伟 袁广平 陈琴云
受保护的技术使用者：广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司
技术研发日：2021.10.12
技术公布日：2022/2/6