一种用于制备氧化物薄膜的加热装置的制作方法

技术特征：
1.一种用于制备氧化物薄膜的加热装置，其采用连续光纤激光器作为光源，其特征在于，包括：真空腔体，其包括：样品架，设置于所述真空腔体的内部；样品托，放置于所述样品架上，且包括碳化硅吸收片，所述碳化硅吸收片被配置为能够放置样品；以及视窗，设置于所述真空腔体表面，且被配置为能够使红外激光照射至所述样品托上；以及激光调节模块，包括光纤准直镜以及扩束透镜，所述光纤准直镜、扩束透镜及视窗沿激光光路依次设置，且所述光纤准直镜设置于所述扩束透镜的焦点处。2.如权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述碳化硅吸收片的表面积小于经所述扩束透镜扩束后的光斑直径d，但大于所述样品的表面积。3.如权利要求2所述的加热装置，其特征在于，所述光斑直径d根据所述扩束透镜的焦距f以及光纤的孔径角θ计算得到：d＝2f tanθ。4.如权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述扩束透镜及光纤准直镜通过支架固定于所述真空腔体上，且所述扩束透镜被配置为能够沿激光光路在所述支架上移动。5.如权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述样品托还包括支撑框，所述碳化硅吸收片固定于所述支撑框上。6.如权利要求5所述的加热装置，其特征在于，所述碳化硅吸收片通过螺丝及第一压片固定于所述支撑框上，和/或所述样品通过螺丝及第二压片固定于所述碳化硅吸收片上。7.如权利要求6所述的加热装置，其特征在于，所述支撑框和/或螺丝和/或第一压片和/或第二压片为镍基合金材料。8.如权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述真空腔体还包括气体入口，所述气体入口被配置为能够向所述真空腔体内输送氧气或臭氧。9.如权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述真空腔体还包括测温口，所述测温口被配置为能够设置温度检测装置。10.如权利要求9所述的加热装置，其特征在于，所述温度检测装置为红外测温装置。

技术总结
本发明公开一种用于制备氧化物薄膜的加热装置，其采用连续光纤激光器作为光源，包括真空腔体以及激光调节模块。其中，真空腔体至少包括设置于其内部的样品架、放置于样品架上的样品托、以及设置于真空腔体表面的视窗。样品托上设置有碳化硅吸收片，其用于放置样品。激光调节模块包括光纤准直镜以及扩束透镜。光纤准直镜、扩束透镜、视窗以及样品托沿激光光路依次设置，且光纤准直镜设置于扩束透镜的焦点处。点处。点处。


技术研发人员：艾金虎 殷立峰
受保护的技术使用者：复旦大学
技术研发日：2021.10.22
技术公布日：2022/1/21