一种晶体双面研磨设备的制作方法

技术特征：
1.一种晶体双面研磨设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的上表面固定连接有立柱(2)，所述立柱(2)的上端固定连接有顶板(3)，所述顶板(3)的底端设置有第一研磨机构(20)，所述第一研磨机构(20)包括电动伸缩杆(4)，所述电动伸缩杆(4)的底端固定连接有电机壳(5)，所述电机壳(5)的内部设置有第一电机(6)，所述第一电机(6)的一端延伸设置有电机轴且电机轴的输出端固定连接有转动轴(7)，所述转动轴(7)的底端固定连接有第一研磨盘(8)；所述底板(1)的上表面固定连接有收集框(9)，所述底板(1)的中部设置有第二研磨机构(21)，所述第二研磨机构(21)包括第二电机(10)，所述第二电机(10)的一端延伸设置有电机轴且电机轴的输出端固定连接有转动杆(11)，所述转动杆(11)向上贯穿底板(1)和收集框(9)，且转动杆(11)的上端固定连接有第二研磨盘(12)。2.根据权利要求1所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述底板(1)的底端四角均固定连接有支撑腿(18)，所述支撑腿(18)的底端设置有防滑垫(19)。3.根据权利要求1所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述收集框(9)的内壁开设有滑轨(15)，所述第二研磨盘(12)的外表面固定连接有连接杆(13)，所述连接杆(13)远离第二研磨盘(12)的一端固定连接有滑块(14)，所述滑块(14)与滑轨(15)滑动连接。4.根据权利要求3所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述连接杆(13)的数量为两个，且对称分布。5.根据权利要求1所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述第二研磨盘(12)的上表面开设有通孔(16)，所述通孔(16)的数量若干。6.根据权利要求1所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述收集框(9)的底部设置有下料管(17)，所述下料管(17)向下贯穿底板(1)并延伸向外，所述下料管(17)的底端设置有控制阀。7.根据权利要求1所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述底板(1)的下表面且位于第二电机(10)的外部固定连接有防护壳。8.根据权利要求1所述的一种晶体双面研磨设备，其特征在于：所述第一电机(6)和第二电机(10)的驱动方向相反。

技术总结
本实用新型公开了一种晶体双面研磨设备，包括底板，所述底板的上表面固定连接有立柱，所述立柱的上端固定连接有顶板，所述顶板的底端设置有第一研磨机构，所述第一研磨机构包括电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的底端固定连接有电机壳，所述电机壳的内部设置有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有转动轴，所述转动轴的底端固定连接有第一研磨盘，所述底板的上表面固定连接有收集框，所述底板的中部设置有第二研磨机构，所述第二研磨机构包括第二电机，所述第二电机的输出端固定连接有转动杆。本实用新型中，通过第一研磨盘和第二研磨盘的相反方向转动，可实现对晶体进行双面研磨，研磨效果好且效率高。磨效果好且效率高。磨效果好且效率高。


技术研发人员：陈炳寺
受保护的技术使用者：江苏佳晟精密设备科技有限公司
技术研发日：2021.08.31
技术公布日：2022/1/18