偏光片制备方法、偏光片及显示装置与流程

1.本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种偏光片制备方法、偏光片及显示装置。


背景技术：

2.传统的显示屏，通常将红外感应器、环境光感应器等感应模组设置在边框区，但随着全面屏全面推广，边框区越来越窄，没有足够的空间设置感应模组，因此将感应模组设置在显示区，但显示区的偏光片会使感应模组对应的感应孔的光穿透率较低，为提高感应孔的光穿透率，需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理，增加了偏光片制备过程中的处理步骤，导致偏光片的制备过程复杂，效率较低。


技术实现要素：

3.基于此，有必要针对目前为提高感应孔的光穿透率，需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理，增加了偏光片制备过程中的处理步骤，导致偏光片的制备过程复杂，效率较低的问题，提供一种偏光片制备方法、偏光片及显示装置。
4.一种偏光片制备方法，所述偏光片制备方法包括以下步骤：
5.提供一聚乙烯醇薄膜，所述聚乙烯醇薄膜设有留白区；
6.在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层；
7.利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色；
8.其中，所述遮挡层阻挡染色剂对所述留白区染色，以使所述留白区的透光率大于预设值。
9.在其中一个实施例中，所述聚乙烯醇薄膜具有相对的第一侧和第二侧；所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层具体包括：在所述聚乙烯醇薄膜的第一侧设置第一遮挡层，在所述聚乙烯醇薄膜的第二侧设置第二遮挡层。
10.在其中一个实施例中，所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为永久遮挡；所述第一遮挡层和所述第二遮挡层透光设置，且所述第一遮挡层和所述第二遮挡层不被染色剂染色。
11.在其中一个实施例中，所述第一遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合，所述第二遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合。
12.在其中一个实施例中，所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为临时遮挡；所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括：将所述第一遮挡层和所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下；或者所述第一遮挡层被配置为永久遮挡；所述第一遮挡层透光设置，且不被染色剂染色；所述第二遮挡层被配置为临时遮挡；所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括：将所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下。
13.在其中一个实施例中，所述遮挡层的厚度大于或等于10nm；和/或所述遮挡层包括耐高温防水保护膜。
14.在其中一个实施例中，所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层的步骤具体包括：在所述聚乙烯醇薄膜的留白区贴附遮挡层；或者在所述聚乙烯醇薄膜的留白区涂布遮挡层。
15.在其中一个实施例中，所述预设值大于80％。
16.一种偏光片，所述偏光片采用如前述的偏光片制备方法制成。
17.一种显示装置，包括如前述的偏光片。
18.上述偏光片制备方法，在聚乙烯醇薄膜上设置留白区，在留白区设置遮挡层，利用遮挡层在染色剂对聚乙烯醇薄膜染色的过程中阻挡染色剂对留白区染色，以使留白区的透光率大于预设值，可以理解的是，留白区的位置与显示屏的感应孔的位置相对应，从而使染色后得到的偏光片无需进行后续的消偏光过程即可满足感应孔对光穿透率的需求，简化了偏光片制备过程中的处理步骤，进而提高偏光片的制备效率。
19.并且，传统的消偏光方式是先将偏光片整体染色，再对其局部进行脱色处理，难以做到完全将所需的区域精确地进行脱色，而上述偏光片制备方法利用遮挡层精确地控制留白区不被染色，使得留白区的光穿透效果更好。另外，由于上述偏光片制备方法不需要在染色后再局部脱色，使得偏光片制备成本降低。
附图说明
20.图1a为相关技术中感应模组的感应孔设置在边框区的结构示意图；
21.图1b为相关技术中感应模组的感应孔设置在显示区的结构示意图；
22.图1c为相关技术偏光片先整体染色后局部消偏光的过程示意图；
23.图2为本发明一实施例中的偏光片制备方法的流程框图；
24.图3为本发明一实施例中偏光片的制备过程示意图；
25.图4为本发明另一实施例中偏光片的制备过程示意图；
26.图5为本发明另一实施例中偏光片的制备过程示意图。
27.附图标号说明：
28.100：
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偏光片
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130：
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消偏光区
29.110：
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聚乙烯醇薄膜
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200：
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感应孔
30.111：
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留白区
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310：
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第一遮挡层
31.120：
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三醋酸纤维薄膜
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320：
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第二遮挡层
具体实施方式
32.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
33.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必
须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
34.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
35.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
36.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
37.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
38.传统的显示屏，通常将红外感应器、环境光感应器等感应模组设置在边框区，但随着全面屏全面推广，边框区越来越窄，没有足够的空间设置感应模组，因此将感应模组设置在显示区。
39.其中，显示区存在偏光片，而偏光片通常包括pva(聚乙烯醇薄膜)和tac(三醋酸纤维薄膜)，三醋酸纤维薄膜设置有两层，两层三醋酸纤维薄膜与聚乙烯醇薄膜层叠设置，且两层三醋酸纤维薄膜分别位于聚乙烯醇薄膜的两侧。其中，聚乙烯醇薄膜被碘与其他染色分子染色，起到偏振作用，而位于聚乙烯醇薄膜两侧的三醋酸纤维薄膜则对聚乙烯醇薄膜起到防护作用。
40.参阅图1a、图1b和图1c，图1a示出了相关技术中将感应模组的感应孔设置在显示屏的边框区的结构示意图，图1b示出了相关技术中将感应模组的感应孔设置在显示屏的显示区的结构示意图，图1c示出了相关技术中将偏光片先整体染色后局部消偏光的过程示意图。当感应模组设置在边框区时，感应模组的感应孔200与显示区的偏光片100互不影响。而当感应模组设置在显示区时，被染色的偏光片100会对感应模组产生遮挡，使得感应模组对应的感应孔200的光穿透率较低，为提高感应孔200的光穿透率，需要对偏光片100上对应感应孔200的区域进行局部消偏光处理，以得到消偏光区130，增加了偏光片100制备过程中的处理步骤，导致偏光片100的制备过程复杂，效率较低。基于此，有必要提供一种偏光片制备方法，以解决目前的偏光片制备过程复杂，制备效率较低的问题。
41.参阅图2，图2示出了本发明一实施例中的偏光片制备方法的流程框图，本发明一实施例提供了的偏光片制备方法，包括以下步骤：
42.步骤s1、提供一聚乙烯醇薄膜，聚乙烯醇薄膜设有留白区；
43.步骤s2、在聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层；
44.步骤s3、利用染色剂对设有聚乙烯醇薄膜进行染色；
45.其中，遮挡层阻挡染色剂对留白区染色，以使留白区的透光率大于预设值。
46.上述偏光片制备方法，在聚乙烯醇薄膜上设置留白区，在留白区设置遮挡层，利用遮挡层在染色剂对聚乙烯醇薄膜染色的过程中阻挡染色剂对留白区染色，以使留白区的透光率大于预设值，可以理解的是，留白区的位置与显示屏的感应孔的位置相对应，从而使染色后得到的偏光片无需进行后续的消偏光过程即可满足感应孔对光穿透率的需求，简化了偏光片制备过程中的处理步骤，进而提高偏光片的制备效率。
47.并且，传统的消偏光方式是先将偏光片整体染色，再对其局部进行脱色处理，难以做到完全将所需的区域精确地进行脱色，而上述偏光片制备方法利用遮挡层精确地控制留白区不被染色，使得留白区的光穿透效果更好。另外，由于上述偏光片制备方法不需要在染色后再局部脱色，不需要使用脱色剂、清洗剂等，使得偏光片制备成本降低，管控风险降低。
48.参阅图3，图3示出了本发明一实施例中偏光片的制备过程示意图。在一些实施例中，在利用染色剂对设有聚乙烯醇薄膜110进行染色之后还包括：在染色后的聚乙烯醇薄膜110的相对两侧各设置一层tac(三醋酸纤维薄膜120)，利用三醋酸纤维薄膜120对聚乙烯醇薄膜110进行防护。
49.在一些实施例中，聚乙烯醇薄膜110具有相对的第一侧和第二侧；在聚乙烯醇薄膜110的留白区111设置遮挡层具体包括：在聚乙烯醇薄膜110的第一侧设置第一遮挡层310，在聚乙烯醇薄膜110的第二侧设置第二遮挡层320。可以理解的是，在没有外力作用时，染色剂会向各个不同的方向扩散，使得在利用遮挡层阻挡染色剂对聚乙烯醇薄膜110的留白区111染色时，染色剂会同时从聚乙烯醇薄膜110的厚度方向、长度方向以及宽度方向侵入。而在通常情况下，偏光片100中聚乙烯醇薄膜110的厚度小于或者等于10μm，偏光片100上需要消偏光的区域直径大于或者等于1mm，也就是说，需要消偏光的区域的直径远大于其厚度，这就使得在利用染色剂对聚乙烯醇薄膜110染色的过程中，染色剂从聚乙烯醇薄膜110厚度方向的扩散对聚乙烯醇薄膜110的染色程度远大于染色剂从聚乙烯醇薄膜110长度方向或者宽度方向扩散对聚乙烯醇薄膜110的染色程度。因此，在利用遮挡层阻挡染色剂对聚乙烯醇薄膜110的留白区111染色时，主要需要考虑染色剂在聚乙烯醇薄膜110厚度方向上的扩散，而染色剂在聚乙烯醇薄膜110长度方向以及宽度方向上的扩散则可不作为主要考虑因素。基于此，上述实施例在聚乙烯醇薄膜110的相对两侧分别设置第一遮挡层310和第二遮挡层320，利用第一遮挡层310和第二遮挡层320阻挡染色剂沿聚乙烯醇薄膜110的厚度方向向聚乙烯醇薄膜110的留白区111扩散，从而阻挡染色剂对聚乙烯醇薄膜110的留白区111染色，以保障留白区111的透光率大于预设值，因此，在该染色后的聚乙烯醇薄膜110的相对两侧各设置一层三醋酸纤维薄膜120后，得到的偏光片100无需进行后续的消偏光过程即可满足感应孔200对光穿透率的需求，简化了偏光片100制备过程中的处理步骤，进而提高偏光片100的制备效率。
50.参阅图4，图4示出了本发明另一实施例中偏光片的制备过程示意图。在一些实施例中，第一遮挡层310和第二遮挡层320均被配置为永久遮挡，即在偏光片100制备完成后，第一遮挡层310和第二遮挡层320保留在聚乙烯醇薄膜110的两侧，无需揭下，简化了染色步
骤，从而提高偏光片100制备效率。其中，第一遮挡层310和第二遮挡层320透光设置，且第一遮挡层310和第二遮挡层320不被染色剂染色，从而保障第一遮挡层310和第二遮挡层320不会在染色剂对聚乙烯醇薄膜110染色的过程中被染色，进而保障留白区111的光穿透率。基于此，在染色后的聚乙烯醇薄膜110的相对两侧各设置一层三醋酸纤维薄膜120后，得到的偏光片100无需进行后续的消偏光过程即可满足感应孔200对光穿透率的需求，简化了偏光片100制备过程中的处理步骤，进而提高偏光片100的制备效率。
51.具体地，在一些实施例中，在聚乙烯醇薄膜的相对两侧分别设置第一遮挡层和第二遮挡层包括以下步骤：
52.步骤s21、在聚乙烯醇薄膜的相对两侧分别设置掩膜，其中，掩膜上对应聚乙烯醇薄膜的留白区的位置设有开口，开口的形状与留白区的形状相同，且开口的尺寸与留白区的尺寸相等；
53.步骤s22、在聚乙烯醇薄膜第一侧涂布第一遮挡层，并在聚乙烯醇薄膜的第二侧涂布第二遮挡层。
54.上述在聚乙烯醇薄膜110的相对两侧分别设置第一遮挡层310和第二遮挡层320的步骤中，由于掩膜的设置，使得在聚乙烯醇薄膜110的两侧表面涂布第一遮挡层310和第二遮挡层320时，涂布的材料不会遮挡聚乙烯醇薄膜110的留白区111以外的区域，从而保障聚乙烯醇薄膜110上留白区111以外的区域能够正常地被染色，保障偏光片100的光偏振效果。
55.在一些实施例中，第一遮挡层310和第二遮挡层320均被配置为永久遮挡，第一遮挡层310和第二遮挡层320透光设置，且第一遮挡层310和第二遮挡层320不被染色剂染色，因此，在染色完成后，第一遮挡层310和第二遮挡层320不会被染色，使得在偏光片100制备完成后，第一遮挡层310和第二遮挡层320保留在聚乙烯醇薄膜110的两侧，无需揭下，即可保障留白区111的光穿透率，简化了染色步骤，从而提高偏光片100制备效率。并且，第一遮挡层310在聚乙烯醇薄膜110上的投影与留白区111重合，第二遮挡层320在聚乙烯醇薄膜110上的投影与留白区111重合，也就是说，第一遮挡层310和第二遮挡层320分别在聚乙烯醇薄膜110的相对两侧形成与留白区111的形状及大小匹配的遮挡区域，从而准确地阻挡染色剂对留白区111染色。
56.参阅图5，图5示出了本发明另一实施例中偏光片的制备过程示意图。在一些实施例中，第一遮挡层310和第二遮挡层320均被配置为临时遮挡；利用染色剂对设有聚乙烯醇薄膜110进行染色之后还包括：将第一遮挡层310和第二遮挡层320从聚乙烯醇薄膜110表面揭下。基于此，在染色后的聚乙烯醇薄膜110的相对两侧各设置一层三醋酸纤维薄膜120后，得到的偏光片100无需进行后续的消偏光过程即可满足感应孔200对光穿透率的需求，简化了偏光片100制备过程中的处理步骤，进而提高偏光片100的制备效率。并且，采用在染色之后将第一遮挡层310和第二遮挡层320从聚乙烯陈薄膜表面揭下的方式，使得第一遮挡层310和第二遮挡层320可以重复利用，例如，当第一遮挡层310和第二遮挡层320采用贴附的方式设置在聚乙烯醇薄膜110表面时，第一遮挡层310和第二遮挡层320揭下之后可以继续用来贴附在下一个需要染色的聚乙烯醇薄膜110表面阻挡留白区111染色，从而可以节省资源，降低成本。
57.参阅图3，在一些实施例中，第一遮挡层310被配置为永久遮挡；第一遮挡层310透光设置，且不被染色剂染色。在染色完成后，第一遮挡层310不会被染色，使得在偏光片100
制备完成后，第一遮挡层310保留在聚乙烯醇薄膜110表面，无需揭下，即可保障留白区111的光穿透率，简化了染色步骤，从而提高偏光片100制备效率。第二遮挡层320被配置为临时遮挡；利用染色剂对设有聚乙烯醇薄膜110进行染色之后还包括：将第二遮挡层320从聚乙烯醇薄膜110表面揭下。基于此，当第二遮挡层320采用贴附的方式设置在之后，第二遮挡层320可以继续用来贴附在下一个需要染色的聚乙烯醇薄膜110表面阻挡留白区111染色，从而可以节省资源，降低成本。
58.在一些实施例中，遮挡层的厚度大于或等于10nm。可以理解的是，遮挡层的厚度越大，染色剂穿过遮挡层并对遮挡层所遮挡的留白区111进行染色的几率越小，而上述实施例设置遮挡层的厚度大于或等于10nm，从而保障遮挡层有效地阻挡染色剂对留白区111进行染色，进而保障留白区111的光穿透率达到所需的程度。
59.在一些实施例中，遮挡层包括耐高温防水保护膜。在染色剂对聚乙烯醇薄膜110进行染色的过程中，遮挡层会与聚乙烯醇薄膜110一起处于加热的染色剂环境中，通过设置遮挡层包括耐高温防水保护膜，能够有效地避免染色剂渗透进遮挡层而对聚乙烯醇薄膜110的留白区111染色。
60.在一些实施例中，遮挡层包括耐高温防水保护膜，遮挡层的厚度大于或等于10nm。在通过遮挡层材质的选择避免染色剂渗透进遮挡层而对聚乙烯醇薄膜110的留白区111染色的同时，对遮挡层的厚度进行限定，进一步保障遮挡层有效地阻挡染色剂对留白区111进行染色，进而保障留白区111的光穿透率达到所需的程度。
61.在一些实施例中，在聚乙烯醇薄膜110的留白区111设置遮挡层的步骤具体包括：在聚乙烯醇薄膜110的留白区111贴附遮挡层。即用来作为遮挡层的材料先自行成膜，然后将成膜的遮挡层贴附在聚乙烯醇薄膜110的留白区111，如此，可以将遮挡层成膜的步骤与偏光片100制备过程中的其他步骤同时进行，节省了遮挡层成膜所需的时间，从而提高偏光片100制备效率。
62.在一些实施例中，在聚乙烯醇薄膜110的留白区111设置遮挡层的步骤具体包括：在聚乙烯醇薄膜110的留白区111涂布遮挡层。即聚乙烯醇薄膜110的留白区111确定之后，通过涂布的方式将作为遮挡层材料设置在聚乙烯醇薄膜110的留白区111，使得遮挡层的分布区域能够根据实际情况灵活调整。
63.在一些实施例中，预设值大于80％，也就是说，在利用染色剂对设有聚乙烯醇薄膜110进行染色的过程中，遮挡层阻挡染色剂对留白区111染色，并使留白区111的透光率大于80％，从而使染色后得到的偏光片100无需进行后续的消偏光过程即可满足感应孔200对光穿透率的需求，简化了偏光片100制备过程中的处理步骤，进而提高偏光片100的制备效率。
64.基于感应模组设置在显示区时，偏光片会对感应模组产生遮挡，使得感应模组对应的感应孔的光穿透率较低，为提高感应孔的光穿透率，需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理，增加了偏光片制备过程中的处理步骤，导致偏光片的制备过程复杂，效率较低的问题，本发明还提供一种偏光片，该偏光片采用上述偏光片制备方法制成。由于该偏光片采用上述偏光片制备方法制成，因此，该偏光片具备上述实施例中的全部技术效果，在此不再赘述。
65.本发明还提供一种显示装置，该显示装置包括上述偏光片，由于该显示装置包括上述偏光片的全部技术特征，因此，该显示装置具备上述实施例中的全部技术效果，在此不
再赘述。
66.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
67.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。