偏光片制备方法、偏光片及显示装置与流程

技术特征：
1.一种偏光片制备方法，其特征在于，所述偏光片制备方法包括以下步骤：提供一聚乙烯醇薄膜，所述聚乙烯醇薄膜设有留白区；在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层；利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色；其中，所述遮挡层阻挡染色剂对所述留白区染色，以使所述留白区的透光率大于预设值。2.根据权利要求1所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇薄膜具有相对的第一侧和第二侧；所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层具体包括：在所述聚乙烯醇薄膜的第一侧设置第一遮挡层，在所述聚乙烯醇薄膜的第二侧设置第二遮挡层。3.根据权利要求2所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为永久遮挡；所述第一遮挡层和所述第二遮挡层透光设置，且所述第一遮挡层和所述第二遮挡层不被染色剂染色。4.根据权利要求3所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述第一遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合，所述第二遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合。5.根据权利要求2所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为临时遮挡；所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括：将所述第一遮挡层和所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下；或者所述第一遮挡层被配置为永久遮挡；所述第一遮挡层透光设置，且不被染色剂染色；所述第二遮挡层被配置为临时遮挡；所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括：将所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下。6.根据权利要求1所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述遮挡层的厚度大于或等于10nm；和/或所述遮挡层包括耐高温防水保护膜。7.根据权利要求1至6任一项所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层的步骤具体包括：在所述聚乙烯醇薄膜的留白区贴附遮挡层；或者在所述聚乙烯醇薄膜的留白区涂布遮挡层。8.根据权利要求1至6任一项所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述预设值大于80％。9.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片采用如权利要求1至8任一项所述的偏光片制备方法制成。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的偏光片。

技术总结
本发明涉及一种偏光片制备方法、偏光片及显示装置，偏光片制备方法包括以下步骤：提供一聚乙烯醇薄膜，聚乙烯醇薄膜设有留白区；在聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层；利用染色剂对聚乙烯醇薄膜进行染色；其中，遮挡层阻挡染色剂对留白区染色，以使留白区的透光率大于预设值。上述偏光片制备方法能够解决目前为提高感应孔的光穿透率，需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理，增加了偏光片制备过程中的处理步骤，导致偏光片的制备过程复杂，效率较低的问题。率较低的问题。率较低的问题。


技术研发人员：林仲宏 李明阳 王琬珺
受保护的技术使用者：业成光电（深圳）有限公司 业成光电（无锡）有限公司 英特盛科技股份有限公司
技术研发日：2021.09.24
技术公布日：2021/12/7