一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜的制作方法

技术特征：
1.一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于，其包括：依序层叠设置的反射增强层和吸收型减反射层，所述反射增强层与吸收型减反射层均由硅基介质材料构成。2.根据权利要求1所述的一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于：所述反射增强层由折射率不同且相互交替层叠设置的硅基介质材料构成。3.根据权利要求1所述的一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于：所述吸收型减反射层由依序层叠设置的对可见光具有吸收特性的硅基介质材料和透明类硅基介质材料构成。4.根据权利要求1
‑
3任意一项所述的一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于：所述硅基介质材料选自晶体si、非晶硅a
‑
si、sio、sio2、si3n4、sic、sio
x
(0<x<2)或sio
x
n
y
(x y＝1)。5.根据权利要求2所述的一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于：所述硅基介质材料为非晶硅a
‑
si和sio2。6.根据权利要求3所述的一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于：所述对可见光具有吸收特性的硅基介质材料为sio
x
(0<x<2)，所述透明类硅基介质材料为sio2。7.根据权利要求1所述的一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于，其还包括：基底，所述基底设置在反射增强层远离吸收型减反射层的端面上，所述基底至少采用高度抛光的玻璃、抛光不锈钢、抛光镜面铝或光学塑料基底中的一种。8.一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其特征在于：其包括：依序层叠设置的吸收型减反射层、反射增强层和吸收型减反射层，所述反射增强层与吸收型减反射层均由硅基介质材料构成。9.入射光角度低敏感性结构色薄膜在光电元件中的应用。10.入射光角度低敏感性结构色薄膜在涂装中的应用。

技术总结
本发明公开一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜，其包括：依序层叠设置的反射增强层和吸收型减反射层，所述反射增强层与吸收型减反射层均由硅基介质材料构成。本发明提供了一种新的结构设计，创新性的使用非金属材料制备角度不敏感的光子晶体薄膜结构色器件。采用自然界广泛存在的安全环保的全硅类材料作为原材料，不仅能够降低生产成本，还可以简化生产工艺流程。相比于金属材料的高吸收，硅类介质材料在提高反射效率方面具有天然的优势。的优势。的优势。


技术研发人员：陈楠 冯坤 卜轶坤 李青原 王雨思 刘晋彤
受保护的技术使用者：厦门大学
技术研发日：2021.09.22
技术公布日：2021/12/7