1.本实用新型涉及喷砂设备领域，更具体地说，涉及一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备。
背景技术：
2.硅片是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件，硅片在生产过程中需要通过喷砂设备进行喷砂加工。
3.传统的多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备在使用过程中，工件通常是固定不动的，导致喷砂不够充分，使用效果较差，且传统的多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备在对工件固定时，是通过夹具进行夹持固定，在固定过程中容易损坏工件，固定效果较差。
技术实现要素：
4.针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，通过电机可带动螺纹轴转动，从而可带动吸盘移动，即可在喷砂过程中控制工件的移动，喷砂较为充分，提高使用效果，通过真空泵可使得吸盘产生吸附力，从而可将工件吸附固定住，避免工件在固定过程中损坏，提高固定效果。
5.为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案。
6.一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，包括壳体，所述壳体的内部上端面中部开设有滑槽，所述滑槽的内部两端均通过轴承固定安装有螺纹轴，所述螺纹轴的一端位于壳体内部开设的腔室的内部，所述腔室的侧面固定安装有电机，所述电机的轴端固定安装于螺纹轴的端部，所述螺纹轴的侧面螺纹套接有连接块，所述连接块的下端面固定安装有吸盘，所述壳体的上端面固定安装有真空泵，所述真空泵的侧面固定安装有气管，所述气管的侧面滑动连接于壳体上端面开设的通孔的内部，所述气管的一端固定安装于吸盘的上端面，所述壳体的内部下端面均匀安装有喷头，通过电机可带动螺纹轴转动，从而可带动吸盘移动，即可在喷砂过程中控制工件的移动，喷砂较为充分，提高使用效果，通过真空泵可使得吸盘产生吸附力，从而可将工件吸附固定住，避免工件在固定过程中损坏，提高固定效果。
7.进一步的，所述吸盘的直径不大于工件的宽度，避免工件尺寸过小而不能被吸盘吸附住，以免影响固定。
8.进一步的，所述喷头上端面与吸盘下端面之间的距离不小于工件的厚度，以免妨碍工件的放置。
9.进一步的，所述气管为弹性软管制成，气管可跟随吸盘移动，以免影响吸盘的吸附力。
10.进一步的，所述壳体的内部下端面一侧固定安装有挡板，通过挡板可将壳体的开口处下端遮挡住，避免喷砂过程中的砂粒流出壳体，提高使用效果。
11.相比于现有技术，本实用新型的优点在于：
12.(1)本方案通过电机可带动螺纹轴转动，从而可带动吸盘移动，即可在喷砂过程中控制工件的移动，喷砂较为充分，提高使用效果，通过真空泵可使得吸盘产生吸附力，从而可将工件吸附固定住，避免工件在固定过程中损坏，提高固定效果。
13.(2)吸盘的直径不大于工件的宽度，避免工件尺寸过小而不能被吸盘吸附住，以免影响固定。
14.(3)喷头上端面与吸盘下端面之间的距离不小于工件的厚度，以免妨碍工件的放置。
15.(4)气管为弹性软管制成，气管可跟随吸盘移动，以免影响吸盘的吸附力。
16.(5)壳体的内部下端面一侧固定安装有挡板，通过挡板可将壳体的开口处下端遮挡住，避免喷砂过程中的砂粒流出壳体，提高使用效果。
附图说明
17.图1为本实用新型的正面剖视图；
18.图2为本实用新型的侧面剖视图；
19.图3为本实用新型的俯视图。
20.图中部号说明：
21.1壳体、2滑槽、3螺纹轴、4腔室、5电机、6连接块、7吸盘、8真空泵、9气管、10通孔、11喷头、12挡板。
具体实施方式
22.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
23.请参阅图1
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3，一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，包括壳体1，请参阅图1、图2和图3，壳体1的内部上端面中部开设有滑槽2，滑槽2的内部两端均通过轴承固定安装有螺纹轴3，螺纹轴3的一端位于壳体1内部开设的腔室4的内部，腔室4的侧面固定安装有电机5，型号为y80m1
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2，电机5与开关和外部电源通过导线串联连接，电机5的轴端固定安装于螺纹轴3的端部，在电机5的作用下，可带动螺纹轴3转动，从而可带动吸盘7水平移动，螺纹轴3的侧面螺纹套接有连接块6，连接块6的下端面固定安装有吸盘7，通过吸盘7可将工件吸附住，固定较为方便，吸盘7的直径不大于工件的宽度，避免工件尺寸过小而不能被吸盘7吸附住，以免影响固定，壳体1的上端面固定安装有真空泵8，型号为lc
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020，真空泵8与开关和外部电源通过导线串联连接，真空泵8的侧面固定安装有气管9，气管9的侧面滑动连接于壳体1上端面开设的通孔10的内部，气管9的一端固定安装于吸盘7的上端面，通过真空泵可将气管9和吸盘7内的空气排出，从而使得吸盘7产生吸附力，即可将工件吸附固定住，固定较为方便，气管9为弹性软管制成，气管9可跟随吸盘7移动，以免影响吸盘7的吸附力，壳体1的内部下端面均匀安装有喷头11，通过喷头11可将砂粒喷向工件下端面，对工件进行喷砂加工，喷头11上端面与吸盘7下端面之间的距离不小于工件的厚度，以免妨碍工件的放
置，壳体1的内部下端面一侧固定安装有挡板12，通过挡板12可将壳体1的开口处下端遮挡住，避免喷砂过程中的砂粒流出壳体1，提高使用效果。
24.安装时，将工件与吸盘7下端对齐，然后将工件的上端与吸盘7下端面接触，控制真空泵8工作，在真空泵8的作用下使得吸盘7产生吸附力即可将工具固定住，固定较为简单，加工时，控制喷头11工作，喷头11将砂粒喷向工件下端面，然后控制电机5工作，电机5带动螺纹轴3转动，螺纹轴3通过连接块6带动吸盘7移动，即可带动工件移动，从而使得喷砂充分，提高使用效果。
25.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式；但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
技术特征：
1.一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的内部上端面中部开设有滑槽(2)，所述滑槽(2)的内部两端均通过轴承固定安装有螺纹轴(3)，所述螺纹轴(3)的一端位于壳体(1)内部开设的腔室(4)的内部，所述腔室(4)的侧面固定安装有电机(5)，所述电机(5)的轴端固定安装于螺纹轴(3)的端部，所述螺纹轴(3)的侧面螺纹套接有连接块(6)，所述连接块(6)的下端面固定安装有吸盘(7)，所述壳体(1)的上端面固定安装有真空泵(8)，所述真空泵(8)的侧面固定安装有气管(9)，所述气管(9)的侧面滑动连接于壳体(1)上端面开设的通孔(10)的内部，所述气管(9)的一端固定安装于吸盘(7)的上端面，所述壳体(1)的内部下端面均匀安装有喷头(11)。2.根据权利要求1所述的一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，其特征在于：所述吸盘(7)的直径不大于工件的宽度。3.根据权利要求1所述的一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，其特征在于：所述喷头(11)上端面与吸盘(7)下端面之间的距离不小于工件的厚度。4.根据权利要求1所述的一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，其特征在于：所述气管(9)为弹性软管制成。5.根据权利要求1所述的一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，其特征在于：所述壳体(1)的内部下端面一侧固定安装有挡板(12)。
技术总结
本实用新型公开了一种多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，属于喷砂设备领域，包括壳体，壳体的内部上端面中部开设有滑槽，滑槽的内部两端均通过轴承固定安装有螺纹轴，螺纹轴的一端位于壳体内部开设的腔室的内部，腔室的侧面固定安装有电机，电机的轴端固定安装于螺纹轴的端部，螺纹轴的侧面螺纹套接有连接块，连接块的下端面固定安装有吸盘，壳体的上端面固定安装有真空泵，真空泵的侧面固定安装有气管，气管的侧面滑动连接于壳体上端面开设的通孔的内部。该多晶硅片生产用具有活动结构的喷砂设备，通过电机可带动螺纹轴转动，从而可带动吸盘移动，即可在喷砂过程中控制工件的移动，喷砂较为充分，提高使用效果。提高使用效果。提高使用效果。
技术研发人员：叶挺宁
受保护的技术使用者：中赣新能源股份有限公司
技术研发日：2021.06.23
技术公布日：2021/11/30
再多了解一些
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